應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及微細加工技術領域，尤其是應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置。
【背景技術】
[0002]離子束刻蝕技術是一種在真空條件下利用離子束對樣品進行微細加工的技術，主要包括硬件和軟件兩部分，硬件部分是離子束刻蝕裝置的設計和制造，軟件部分是指對已有設備的刻蝕情況進行研宄，得到更好的刻蝕結果?，F有離子束刻蝕系統(tǒng)的載物臺均為單層載物臺設計，具單層載物臺的離子束刻蝕系統(tǒng)單機生產能力不足，批量作業(yè)時刻蝕系統(tǒng)開停機頻繁、刻蝕系統(tǒng)時間稼動率低下，生產工時長，由此造成離子束刻蝕系統(tǒng)利用率及產能低下，提高了生產成本。

【發(fā)明內容】

[0003]本實用新型的目的是根據上述現有技術的不足，提供了應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，通過可旋轉的多層載物臺帶動基片來對準離子束依次進行刻蝕，提高刻蝕系統(tǒng)時間稼動率、產能，縮短生產工時，降低了生產成本。
[0004]本實用新型目的實現由以下技術方案完成:
[0005]一種應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于:所述裝置包括旋轉軸和至少兩個載物臺，所述載物臺沿所述旋轉軸的軸向間隔設置在所述旋轉軸上，所述載物臺可隨所述旋轉軸轉動，所述載物臺上開設有離子束窗口。
[0006]所述離子束窗口的輪廓形狀、大小與承載于所述載物臺上的基片的形狀、大小吻合適配。
[0007]本實用新型的優(yōu)點是:提高了離子束刻蝕系統(tǒng)單次開機所能刻蝕的基片總數量，降低了批量作業(yè)時離子束刻蝕系統(tǒng)的開停機次數，提高了離子束刻蝕系統(tǒng)利用率，減少了工時，滿足刻蝕工作需要；同時也減少了因反復開停機對配套真空系統(tǒng)的不利影響，延長了真空系統(tǒng)的工作壽命，降低了生產成本。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型在離子束刻蝕機中的正視圖；
[0009]圖2為圖1的左視圖；
[0010]圖3為本實用新型的俯視圖。
【具體實施方式】
[0011]以下結合附圖通過實施例對本實用新型特征及其它相關特征作進一步詳細說明，以便于同行業(yè)技術人員的理解:
[0012]如圖1-3所示，圖中標記1-7分別表示為:真空室1、離子源2、載物臺3、旋轉軸4、電動機5、離子束窗口 6、修正板7。
[0013]實施例:如圖1和圖2所示，本實施例中應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置設置在真空室I內部，真空室I內部設置有離子源2，離子源2用于對基片承載裝置上所承載的基片進行刻蝕?；休d裝置包括若干載物臺3和旋轉軸4，若干載物臺3沿旋轉軸4的軸向間隔設置在旋轉軸4上，且每個載物臺3均可隨旋轉軸4獨立轉動。載物臺3隨旋轉軸4轉動的作用有兩個，其一是使得均布在載物臺3上的基片可依次轉動并對準離子源2，以完整離子束刻蝕，其二是使位于上一層的載物臺3所承載的基片在刻蝕完之后，將離子束窗口 6對準離子源2，以離子源2可穿過上一層載物臺3的離子束窗口 6后對下一層載物臺3所承載的基片進行離子束刻蝕。電動機5連接驅動旋轉軸4轉動。修正板7位于載物臺3的上方，用于對離子束進行修正。
[0014]如圖3所示，載物臺3上開設有離子束窗口 6，離子束窗口 6輪廓的形狀、大小與承載在載物臺3上的基片輪廓形狀、大小吻合適配。離子束窗口 6的作用在于，使離子源2可通過離子束窗口 6穿過上一層載物臺3而對位于下一層載物臺3上所承載的基片進行刻蝕；以此類推，完成若干層載物臺3上的基片的離子束刻蝕。修正板7上亦開設有用于修正離子束的離子束窗口，該離子束窗口輪廓的形狀、大小根據離子束所需的修正設計進行設置。
[0015]本實施例在具體實施時:修正板7設置在真空室I內部且保持靜態(tài)，其板體上開設的離子束窗口與離子源2的設置位置保持位置對應，即保證離子源2穿過開設在修正板7上用于修正的離子束窗口。
[0016]在修正板7下依次是沿旋轉軸4軸向高度方向的第一層載物臺、第二層載物臺，及至第N載物臺；載物臺3均為圓形平板狀，在第一層至第(η-1)層的載物臺上均開有離子束窗口 6，而第η層載物臺為一完整的圓形平板狀，不設離子束窗口。第一層載物臺、第二載物臺及至第η層載物臺可一同隨旋轉軸4旋轉，亦可獨立隨轉軸旋轉。當多層載物臺一同隨旋轉軸4旋轉時，其旋轉方式可以為逐層增加式，也可以為逐層遞減。在逐層遞減時，最開始的旋轉狀態(tài)為若干載物臺一同旋轉，即在刻蝕第一層載物臺上的基片時，下方的載物臺隨第一層載物臺一齊旋轉。當第一層載物臺上的基片全部刻蝕完畢后，第一層載物臺停止，其停止位置滿足于離子束穿過第一層載物臺上的離子束窗口。此時，第二層載物臺及其下方的載物臺繼續(xù)旋轉，第二層載物臺上的基片進行刻蝕；以此往復，逐漸遞減，完成每層載物臺上的基片的刻蝕。
[0017]本實施例在具體使用時:第一層載物臺3隨旋轉軸4旋轉，直至承載在其表面的基片全部通過離子源2刻蝕完畢后，將第一層載物臺上的離子束窗口 6調整至與修正板7上開設的離子束窗口俯視時重疊并固定，轉動第二層載物臺開始對第二載物臺上所承載的基片依次進行刻蝕。
[0018]當對第i層(i為I至η層之間的任一層載物臺)載物臺上基片進行刻蝕時，第一層至第(1-Ι)層載物臺上的離子束窗口 6與修正板7的窗口呈俯視重疊位并固定，即使得離子源2可通過離子束窗口依次穿過修正板7以及第一層至第(1-Ι)層載物臺后，對第i層載物臺所承載的基片進行刻蝕?？涛g完畢后，將第i載物臺上的離子束窗口 6通過旋轉軸4的旋轉調整至與修正板7上的窗口以及第一層至第(1-Ι)層載物臺上的離子束窗口呈俯視重疊位并固定后，開始進行下一載物臺(第i+Ι層)上所承載的基片的刻蝕，以此往復直至本次所有載物臺上的所有基片的刻蝕工作完畢。
[0019]雖然以上實施例已經參照附圖對本實用新型目的的構思和實施例做了詳細說明，但本領域普通技術人員可以認識到，在沒有脫離權利要求限定范圍的前提條件下，仍然可以對本實用新型作出各種改進和變換，如:載物臺3的形狀、大小，離子束窗口 6的形狀、大小等，故在此不--贅述。
【主權項】
1.一種應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于:所述裝置包括旋轉軸和至少兩個載物臺，所述載物臺沿所述旋轉軸的軸向間隔設置在所述旋轉軸上，所述載物臺可隨所述旋轉軸轉動，所述載物臺上開設有離子束窗口。2.根據權利要求1所述的一種應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于:所述離子束窗口的輪廓形狀、大小與承載于所述載物臺上的基片的形狀、大小吻合適配。
【專利摘要】本實用新型涉及微細加工技術領域，尤其是應用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于：所述裝置包括旋轉軸和至少兩個載物臺，所述載物臺沿所述旋轉軸的軸向間隔設置在所述旋轉軸上，所述載物臺可繞所述旋轉軸轉動，所述載物臺上開設有離子束窗口。本實用新型的優(yōu)點是：提高了離子束刻蝕系統(tǒng)單次開機所能刻蝕的基片總數量，降低了批量作業(yè)時離子束刻蝕系統(tǒng)的開停機次數，提高了離子束刻蝕系統(tǒng)利用率，減少了工時，滿足刻蝕工作需要；同時也減少了因反復開停機對配套真空系統(tǒng)的不利影響，延長了真空系統(tǒng)的工作壽命，降低了生產成本。
【IPC分類】H01J37/20
【公開號】CN204720414
【申請?zhí)枴緾N201520358823
【發(fā)明人】戴秀海, 余海春, 龍汝磊
【申請人】光馳科技(上海)有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請日】2015年5月29日