一種rena制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明專利涉及晶硅太陽能電池領(lǐng)域的多晶濕法制絨、刻蝕的設(shè)備，具體涉及一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽能電池又稱為“太陽能芯片”或“光電池”，“是一種利用太陽光直接發(fā)電的光電半導(dǎo)體薄片。它只要被光照到，瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產(chǎn)生電流。在物理學(xué)上稱為太陽能光伏，簡稱光伏，核心部件是太陽能電池片，其制造過程分為制絨-擴(kuò)散-刻蝕-PECVD鍍膜-絲網(wǎng)印刷-測試分選。目前，RENA in-line式結(jié)構(gòu)的設(shè)備是一種常用的鏈?zhǔn)綕穹ㄖ平q、刻蝕設(shè)備。他是在HF/HN03體系中，利用HN03和HF的混合溶液腐蝕硅片制成絨面和絕緣上、下兩面。這種設(shè)備基本結(jié)構(gòu)為:刻蝕槽-水噴淋槽-堿槽-水噴淋槽-去PSG槽-水噴淋槽-烘干槽。該設(shè)備在使用過程中表現(xiàn)出許多優(yōu)異的性能。但因?yàn)殒準(zhǔn)讲垠w中藥液不停的被反應(yīng)，濃度降低需補(bǔ)充藥液，因其補(bǔ)液閥門為氣動閥，經(jīng)過長時間使用會出現(xiàn)閥門開口過大或過小，導(dǎo)致每次補(bǔ)液不準(zhǔn)確，藥液濃度受到影響導(dǎo)致不良片的產(chǎn)生。目前，RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門一般都需在換液期間停機(jī)校準(zhǔn)流量，需消耗大量時間影響生產(chǎn)效率，且因換液時間過長，補(bǔ)液閥門流量未及時校準(zhǔn)導(dǎo)致的生產(chǎn)異常，如花片、黑絨面和過刻等不良的產(chǎn)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，在不停機(jī)的情況下，快速準(zhǔn)確的fe準(zhǔn)閥I?補(bǔ)液流量，減少不良片的廣生，提尚生廣效率，從而提尚效益。
[0004]一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，補(bǔ)液系統(tǒng)包括:液位管、高液位、工作液位、標(biāo)定液位、低液位、補(bǔ)液灌、不透光紙片和補(bǔ)液閥門；液位管和補(bǔ)液灌相連，液位管上從上至下依次設(shè)置有高液位、工作液位、標(biāo)定額度、低液位，高液位和工作液位旁設(shè)有不透光紙片，補(bǔ)液灌底部設(shè)有補(bǔ)液閥門。
[0005]其中，液位管上標(biāo)定的標(biāo)定液位在工作液位和低液位之間。
[0006]一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，具體為如下步驟:
a)在液位管上標(biāo)定好標(biāo)定液位，在2-5L之間；
b)用不透光紙片遮住高液位和工作液位，以屏蔽液位感應(yīng)器；
c)點(diǎn)擊機(jī)臺手動補(bǔ)液，將藥液從補(bǔ)液灌中加入其他槽體；
d)使用秒表計算標(biāo)定液位下降的時間并計算流量；
e)取下遮住高液位和工作液位的不透光紙片，待補(bǔ)液灌補(bǔ)充藥液后重復(fù)b、c、d步驟多次；
f)通過計算多次流量后取平均值，將其寫入機(jī)臺閥門流量參數(shù)中。
[0007]一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，計算后的流量單位為L/min。
[0008]本發(fā)明的有益效果是:通過簡單的屏蔽感應(yīng)器，簡單計時計算流量，在不停機(jī)的情況下，快速準(zhǔn)確的校準(zhǔn)閥門補(bǔ)液流量，減少了常規(guī)校準(zhǔn)流量過程中的需停機(jī)、排液、校準(zhǔn)的模式，節(jié)省了異常停機(jī)時間，減少不良片的產(chǎn)生，從而提高生產(chǎn)效率，從而提高效益。
【附圖說明】
[0009]圖1是本發(fā)明專利的補(bǔ)液系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]附圖標(biāo)記:液位管1、高液位2、工作液位3、標(biāo)定額度4、低液位5、補(bǔ)液灌6、不透光紙片7和補(bǔ)液閥門8。
【具體實(shí)施方式】
[0011]實(shí)施例1:
一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，補(bǔ)液系統(tǒng)包括:液位管1、高液位2、工作液位3、標(biāo)定液位4、低液位5、補(bǔ)液灌6、不透光紙片7和補(bǔ)液閥門8;液位管I和補(bǔ)液灌6相連，液位管I上從上至下依次設(shè)置有高液位2、工作液位3、標(biāo)定額度4、低液位5，高液位2和工作液位3旁設(shè)有不透光紙片7，補(bǔ)液灌6底部設(shè)有補(bǔ)液閥門8。
[0012]其中，液位管I上標(biāo)定的標(biāo)定液位4在工作液位3和低液位5之間。
[0013]實(shí)施例2:
一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，具體為如下步驟:
a)在液位管I上標(biāo)定好標(biāo)定液位4，在2-5L之間；
b)用不透光紙片7遮住高液位2和工作液位3，以屏蔽液位感應(yīng)器；
c)點(diǎn)擊機(jī)臺手動補(bǔ)液，將藥液從補(bǔ)液灌6中加入其他槽體；
d)使用秒表計算標(biāo)定液位4下降的時間并計算流量；
e)取下遮住高液位2和工作液位3的不透光紙片7，待補(bǔ)液灌6補(bǔ)充藥液后重復(fù)b、c、d步驟多次；
f)通過計算多次流量后取平均值，將其寫入機(jī)臺閥門流量參數(shù)中。
[0014]其余同實(shí)施例1。
[0015]結(jié)合【附圖說明】工作原理:
將補(bǔ)液灌6的液位管I上標(biāo)注2L的標(biāo)定液位4，使用不透光紙片7遮住高液位2和工作液位3，屏蔽液位感應(yīng)器，點(diǎn)擊機(jī)臺手動補(bǔ)液，將補(bǔ)液灌6內(nèi)藥液加入其他槽體，計算藥液通過標(biāo)定液位4的時間，重復(fù)多次計算出補(bǔ)液閥門8的流量，將補(bǔ)液閥門8的流量的平均值寫入機(jī)臺閥門流量參數(shù)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，其特征在于:補(bǔ)液系統(tǒng)包括:液位管(I)、高液位(2 )、工作液位(3 )、標(biāo)定液位(4)、低液位(5 )、補(bǔ)液灌(6 )、不透光紙片(7 )和補(bǔ)液閥門(8);液位管(I)和補(bǔ)液灌(6)相連，液位管(I)上從上至下依次設(shè)置有高液位(2)、工作液位(3)、標(biāo)定額度(4)、低液位(5)，高液位(2)和工作液位(3)旁設(shè)有不透光紙片(7)，補(bǔ)液灌(6)底部設(shè)有補(bǔ)液閥門(8)。2.如權(quán)利要求1所述的一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，其特征在于:其中，液位管(I)上標(biāo)定的標(biāo)定液位(4)在工作液位(3)和低液位(5)之間。3.如權(quán)利要求1所述的一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，其特征在于:具體為如下步驟: 在液位管(I)上標(biāo)定好標(biāo)定液位(4)，在2-5L之間； 用不透光紙片(7 )遮住高液位(2 )和工作液位(3 )，以屏蔽液位感應(yīng)器； 點(diǎn)擊機(jī)臺手動補(bǔ)液，將藥液從補(bǔ)液灌(6)中加入其他槽體； 使用秒表計算標(biāo)定液位(4 )下降的時間并計算流量； 取下遮住高液位(2)和工作液位(3)的不透光紙片(7)，待補(bǔ)液灌(6)補(bǔ)充藥液后重復(fù)b、c、d步驟多次； 通過計算多次流量后取平均值，將其寫入機(jī)臺閥門流量參數(shù)中。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種RENA制絨、刻蝕機(jī)的補(bǔ)液閥門流量校準(zhǔn)方法，通過人為屏蔽感應(yīng)器和簡單的卡表計算就能精確校準(zhǔn)閥門流量，減少了常規(guī)校準(zhǔn)流量過程中的需停機(jī)、排液、校準(zhǔn)的模式。節(jié)省了異常停機(jī)時間，從而提高生產(chǎn)效率。
【IPC分類】H01L21/67, H01L31/18
【公開號】CN105609591
【申請?zhí)枴緾N201610116059
【發(fā)明人】黃明, 楊曉琴, 林振龍, 陳園
【申請人】江西展宇新能源股份有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2016年3月2日