1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一襯底基板；
形成貫穿所述襯底基板的多個過孔；
在所述過孔中形成導電柱；
在襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或每一柵線分別與一導電柱電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述過孔中形成導電柱的步驟包括：
在形成有所述過孔的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導電材料，所述粘結(jié)材料和所述導電材料粘附在所述過孔內(nèi)形成所述導電柱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，通過一次構(gòu)圖工藝形成所述導電柱和陣列基板的柵導電層圖形，所述柵導電層圖形包括薄膜晶體管的柵電極和所述柵線，形成所述導電柱和所述柵導電層圖形的步驟包括：
在形成有所述過孔的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導電材料，所述襯底基板的第一表面朝向蒸發(fā)源，所述粘結(jié)材料和所述導電材料粘附在所述過孔內(nèi)形成所述導電柱，所述粘結(jié)材料和所述導電材料粘附在所述第一表面形成第一導電層；
在所述第一導電層上涂覆光刻膠，利用掩膜板對所述光刻膠進行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)所述柵導電層圖形；
對所述第一導電層進行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第一導電層；
剝離光刻膠保留區(qū)域的光刻膠，形成所述柵導電層圖形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述過孔中形成導電柱的步驟包括：
在所述過孔的內(nèi)壁上依次形成絕緣層、粘附層、阻擋層和電鍍種子層，并通過電鍍工藝在所述過孔中填充金屬，形成所述導電柱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，形成所述導電柱之后，所述制作方法還包括：
在所述陣列基板與所述第一表面相背的第二表面形成與所述導電柱連接的導電引線。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，形成所述導電引線的步驟包括：
在形成有所述導電柱的襯底基板上蒸鍍粘結(jié)材料和導電材料，所述襯底基板的第二表面朝向蒸發(fā)源，所述粘結(jié)材料和所述導電材料粘附在所述第二表面形成第二導電層；
在所述第二導電層上涂覆光刻膠，利用掩膜板對所述光刻膠進行曝光，顯影后形成光刻膠保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)所述導電引線的圖形；
對所述第二導電層進行刻蝕，去除光刻膠未保留區(qū)域的第二導電層；
剝離光刻膠保留區(qū)域的光刻膠，形成所述導電引線。
7.一種陣列基板，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-6中任一項所述的制作方法制作得到，所述陣列基板包括襯底基板，所述襯底基板包括貫穿所述襯底基板的多個過孔，所述過孔中形成有導電柱，所述襯底基板的第一表面上形成柵線和數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線和/或柵線分別與一導電柱電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：
設(shè)置在所述襯底基板的與所述第一表面相背的第二表面上的導電引線，所述導電引線與所述導電柱連接。
9.一種顯示裝置的制作方法，其特征在于，包括：
在如權(quán)利要求7或8所述的陣列基板與所述第一表面相背的第二表面上粘附至少一個驅(qū)動電路，所述第二表面上的驅(qū)動電路通過導電引線與所述導電柱連接。
10.一種顯示裝置，其特征在于，為采用如權(quán)利要求9所述的制作方法制作得到，所述顯示裝置的柵線、數(shù)據(jù)線、由柵線和數(shù)據(jù)線限定出的多個像素單元位于襯底基板的第一表面，所述顯示裝置的至少一個驅(qū)動電路位于所述襯底基板與所述第一表面相背的第二表面。