顯示面板的制作方法
【專利摘要】一種顯示面板。顯示面板具有多個(gè)像素區(qū)以及一遮光區(qū)，且遮光區(qū)圍繞像素區(qū)設(shè)置。顯示面板包括第一基板、像素陣列、絕緣層、第二基板、多個(gè)間隙物以及顯示介質(zhì)。像素陣列位于第一基板上。絕緣層覆蓋像素陣列，其中絕緣層具有多個(gè)圖案區(qū)位于遮光區(qū)中。第二基板位于第一基板的對向。間隙物位于第二基板之上，且分別對應(yīng)絕緣層的圖案區(qū)設(shè)置于遮光區(qū)中。間隙物的面積為A1，圖案區(qū)的面積為A2，且A2/A1＝1～2。顯示介質(zhì)位于第一基板與第二基板之間。
【專利說明】顯示面板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種顯示面板，特別是一種可改善漏光問題的顯示面板。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著科技的進(jìn)步，體積龐大的陰極射線管（Cathode Ray Tube，CRT)顯示器已經(jīng)漸 漸地走入歷史。因此，液晶顯示器（Liquid Crystal Display, LCD)、有機(jī)發(fā)光二極體顯示器 (Organic Light Emitting Diode display, OLED display)、電泳顯不器（Electro-Phoretic Display, EH))、電楽顯示器（Plasma Display Panel, PDP)等顯示面板則逐漸地成為未來顯 示器的主流。
[0003] 為了精準(zhǔn)地控制顯示面板的主動(dòng)元件陣列基板與對向基板的間隙（cell gap)，一 般會在兩個(gè)基板之間加入間隙物以支撐間隙。在顯示面板被彎曲或按壓時(shí)（例如進(jìn)行移動(dòng) 光間隙物測試（moving PS test)時(shí)）會造成間隙物的錯(cuò)位（或滑動(dòng)），且錯(cuò)位的間隙物會 導(dǎo)致刮傷顯示區(qū)域的主動(dòng)元件陣列基板上的膜層，或者是使主動(dòng)元件陣列基板上的配向?qū)?的配向效果不良，因而導(dǎo)致顯示面板有漏光的問題。再者，若間隙物在斜向方向上錯(cuò)位，則 由于間隙物會不對稱地刮傷相鄰的兩個(gè)像素區(qū)，因此在斜向方向上錯(cuò)位的間隙物更容易放 大顯示面板漏光的問題。由于間隙物的錯(cuò)位會導(dǎo)致顯示面板漏光的問題，因此如何開發(fā)出 間隙物的錯(cuò)位量較小的顯示面板實(shí)為研發(fā)者所欲達(dá)成的目標(biāo)之一。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種顯示面板，可減少在顯示面板被彎曲或按 壓時(shí)所造成的間隙物的錯(cuò)位量以改善顯示面板漏光的問題。
[0005] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示面板。顯示面板具有多個(gè)像素區(qū)以及 一遮光區(qū)，且遮光區(qū)圍繞像素區(qū)設(shè)置。顯示面板包括第一基板、像素陣列、絕緣層、第二基 板、多個(gè)間隙物以及顯示介質(zhì)。像素陣列位于第一基板上。絕緣層覆蓋像素陣列，其中絕緣 層具有多個(gè)圖案區(qū)位于遮光區(qū)中。第二基板位于第一基板的對向。間隙物位于第二基板之 上，且分別對應(yīng)絕緣層的圖案區(qū)設(shè)置于遮光區(qū)中，其中間隙物的面積為A1，圖案區(qū)的面積為 A2,且A2/A1 = 1?2。顯示介質(zhì)位于第一基板與第二基板之間。
[0006] 本發(fā)明的技術(shù)效果在于：
[0007] 本發(fā)明的圖案區(qū)的設(shè)計(jì)可增加第二基板上的間隙物與第一基板上的絕緣層之間 的摩擦力，以減少在顯示面板被彎曲或按壓時(shí)所造成的間隙物的錯(cuò)位量，進(jìn)而可改善顯示 面板漏光的問題。
[0008] 以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009] 圖1為依照本發(fā)明的第一實(shí)施例的顯示面板的俯視圖；
[0010] 圖2為圖1的區(qū)域R的放大示意圖；
[0011] 圖3A及圖3B分別為圖2的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖；
[0012] 圖4為依照本發(fā)明的第二實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖； [0013] 圖5為依照本發(fā)明的第三實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖； [0014] 圖6為依照本發(fā)明的第四實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖； [0015] 圖7為依照本發(fā)明的第五實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖； [0016] 圖8A及圖8B分別為圖7的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖； [0017] 圖9為依照本發(fā)明的第六實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0018] 圖10為依照本發(fā)明的第七實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0019] 圖11為依照本發(fā)明的第八實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0020] 圖12為依照本發(fā)明的第九實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0021] 圖13為依照本發(fā)明的第十實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0022] 圖14至圖16分別為圖13的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖；
[0023] 圖17為依照本發(fā)明的第i^一實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0024] 圖18為圖17的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖；
[0025] 圖19為依照本發(fā)明的第十二實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0026] 圖20為依照本發(fā)明的第十三實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0027] 圖21為圖20的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖；
[0028] 圖22為依照本發(fā)明的第十四實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0029] 圖23為依照本發(fā)明的第十五實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖；
[0030] 圖24為依照本發(fā)明的第十六實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖。
[0031] 其中，附圖標(biāo)記
[0032] 100顯示面板
[0033] 1〇2像素區(qū)
[0034] 104遮光區(qū)
[0035] 110 第一基板
[0036] 112像素陣列
[0037] 114絕緣層
[0038] 114a、150a 表面
[0039] 114b 凹陷部
[0040] II6圖案區(qū)
[0041] 116a、116a'、156a 圖案
[0042] 120 第二基板
[0043] 122間隙物
[0044] 130顯示介質(zhì)
[0045] 142、144 配向?qū)?br>
[0046] 150第一摩擦層
[0047] 150c環(huán)狀凹槽
[0048] 160第二摩擦層
[0049] 170遮光層
[0050] 180介電層
[0051] 216a、256a 中心圖案
[0052] 216b、256b 環(huán)狀圖案
[0053] A1、A2、A2，、A2" 面積
[0054] D1、D2、D3 方向
[0055] DL數(shù)據(jù)線
[0056] Η 高度差
[0057] Ι-Γ 線
[0058] Ρ像素結(jié)構(gòu)
[0059] ΡΕ像素電極
[0060] R 區(qū)域
[0061] SL掃描線
[0062] Τ主動(dòng)元件
[0063] Θ1、Θ2 夾角
【具體實(shí)施方式】
[0064] 下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作具體的描述：
[0065] 圖1為依照本發(fā)明的第一實(shí)施例的顯示面板的俯視圖，圖2為圖1的區(qū)域R的放大 示意圖，而圖3Α及圖3Β分別為圖2的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖。圖1及圖2僅繪示 出顯示面板100的部分構(gòu)件，關(guān)于顯示面板100詳細(xì)的結(jié)構(gòu)及其構(gòu)件請參照圖3Α或圖3Β。
[0066] 請同時(shí)參照圖1至圖3Β，顯示面板100具有多個(gè)像素區(qū)102以及一遮光區(qū)104,且 遮光區(qū)104圍繞像素區(qū)102設(shè)置。再者，顯示面板100包括第一基板110、像素陣列112、絕 緣層114、第二基板120、多個(gè)間隙物122以及顯示介質(zhì)130。顯示面板100例如是液晶顯示 面板、有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板、電泳顯示面板、電漿顯示面板或其他合適的顯示面板。
[0067] 第一基板110的材料可為玻璃、石英、有機(jī)聚合物或是金屬等等。
[0068] 像素陣列112位于第一基板110上。像素陣列112是由多個(gè)像素結(jié)構(gòu)Ρ組成陣列 形式所構(gòu)成。每一像素結(jié)構(gòu)Ρ包括掃描線SL、數(shù)據(jù)線DL、主動(dòng)元件Τ以及像素電極ΡΕ。在 本實(shí)施例中，掃描線SL、數(shù)據(jù)線DL以及主動(dòng)元件Τ例如是位于顯示面板100的遮光區(qū)104 中，而像素電極ΡΕ例如是位于顯示面板100的像素區(qū)102中。
[0069] 掃描線SL與數(shù)據(jù)線DL的延伸方向不相同，較佳的是掃描線SL的延伸方向與數(shù)據(jù) 線DL的延伸方向垂直。在本實(shí)施例中，掃描線SL沿D1方向延伸，而數(shù)據(jù)線DL沿D2方向 延伸，且D1方向與D2方向?qū)嵸|(zhì)上互相垂直。此外，掃描線SL與數(shù)據(jù)線DL是位于不相同的 膜層，且兩者之間夾有絕緣層（未繪示）。掃描線SL與數(shù)據(jù)線DL主要用來傳遞驅(qū)動(dòng)此像素 結(jié)構(gòu)Ρ的驅(qū)動(dòng)信號。掃描線SL與數(shù)據(jù)線DL-般是使用金屬材料。然而，本發(fā)明不限于此。 根據(jù)其他實(shí)施例，掃描線SL與數(shù)據(jù)線DL也可以使用其他導(dǎo)電材料例如是包括合金、金屬材 料的氧化物、金屬材料的氮化物、金屬材料的氮氧化物或是金屬材料與其它導(dǎo)電材料的堆 疊層。
[0070] 主動(dòng)元件Τ與掃描線SL以及數(shù)據(jù)線DL電性連接。主動(dòng)元件Τ可以是底部柵極型 薄膜晶體管或是頂部柵極型薄膜晶體管，其包括柵極、通道、源極以及漏極。
[0071] 像素電極PE與主動(dòng)元件T電性連接。像素電極PE例如是透明導(dǎo)電層，其包括金 屬氧化物，例如是銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其 它合適的氧化物、或者是上述至少二者的堆疊層。
[0072] 絕緣層114覆蓋像素陣列112,其中絕緣層114具有多個(gè)圖案區(qū)116。圖案區(qū)116 位于顯不面板100的遮光區(qū)104中，且圖案區(qū)116包含多個(gè)圖案116a。在本實(shí)施例中，每一 圖案116a的面積A2'為4μπι 2?25 μ m2,而每一圖案區(qū)116的面積為A2(亦即，多個(gè)圖案 116a的面積A2'的總和）。如圖2所示，圖案116a的形狀例如是矩形，且多個(gè)圖案116a于 圖案區(qū)116中排列成矩形陣列。再者，如圖3A所示，圖案116a例如是包括多個(gè)凸塊，且圖 案116a(例如是凸塊）的高度可以相同或是不相同，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中， 如圖3B所示，圖案116a'亦可以是包括多個(gè)凹槽，且圖案116a(例如是凹槽）的深度可以 相同或是不相同。圖案區(qū)116的高度差Η(或深度差）為0. 2μπι?Ιμπι。
[0073] 絕緣層114的材料例如是包括無機(jī)材料、有機(jī)材料或上述的組合。無機(jī)材料例如 是包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或上述至少二種材料的堆疊層。在本實(shí)施例中，絕緣層114 又可稱為平坦層或保護(hù)層。圖案區(qū)116的圖案116a或圖案116a'（凸塊或凹槽）的形成方 法例如是包括微影蝕刻工藝、半調(diào)式（half-tone)光罩工藝或其他合適的方法。舉例來說， 可以是藉由微影蝕刻工藝或半調(diào)式光罩工藝在絕緣層114的圖案區(qū)116中形成圖案116a 或圖案116a'，或者是先在圖案區(qū)116中形成另一圖案化膜層接著再共形地覆蓋上絕緣層 114以形成圖案116a或圖案116a'。此外，這些圖案116a或圖案116a'亦可以是與圖案區(qū) 116以外的絕緣層114的其他圖案于同一工藝步驟中形成，或者亦可以是另外形成，本發(fā)明 不特別限定。
[0074] 第二基板120位于第一基板110的對向。第二基板120的材料可為玻璃、石英或 有機(jī)聚合物等等。根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，第二基板120上還可包括設(shè)置有彩色濾光陣 列層，其包括紅、綠、藍(lán)色濾光圖案。另外，第二基板120上還可包括設(shè)置遮光圖案層，其設(shè) 置于彩色濾光陣列層的圖案之間。在本實(shí)施例中，遮光圖案層例如是位于顯示面板100的 遮光區(qū)104中，而彩色濾光陣列層的紅、綠、藍(lán)色濾光圖案例如是位于顯示面板100的像素 區(qū)102中。
[0075] 間隙物122位于第二基板120之上，且分別對應(yīng)絕緣層114的圖案區(qū)116設(shè)置于 遮光區(qū)104中。更詳細(xì)來說，間隙物122位于第一基板110與第二基板120之間，且間隙物 122位于顯示面板100的遮光區(qū)104中并對應(yīng)絕緣層114的圖案區(qū)116設(shè)置。亦即，間隙物 122與絕緣層114的圖案區(qū)116在垂直投影的方向上重疊設(shè)置。在本實(shí)施例中，每一圖案區(qū) 116的面積為A2(亦即，多個(gè)圖案116a的面積A2'的總和），每一間隙物122的面積A1為 28 μ m2?202 μ m2,且A2/A1 = 1?2。也就是說，圖案區(qū)116的面積A2例如是等于或大于 間隙物122的面積A1。
[0076] 值得一提的是，本實(shí)施例的絕緣層114具有表面粗糙度較大的圖案區(qū)116,且圖案 區(qū)116與間隙物122重疊設(shè)置并接觸。因此，本實(shí)施例的圖案區(qū)116的設(shè)計(jì)可增加第二基 板120上的間隙物122與第一基板110上的絕緣層114之間的摩擦力。如此一來，可減少 在顯示面板100被彎曲或按壓時(shí)所造成的間隙物122的錯(cuò)位量，進(jìn)而可改善顯示面板100 漏光的問題。
[0077] 顯示介質(zhì)130位于第一基板110與第二基板120之間。當(dāng)顯示面板100為液晶顯 示面板時(shí)，顯示介質(zhì)130例如是液晶分子。在其他實(shí)施例中，當(dāng)顯示面板100為有機(jī)發(fā)光二 極管顯示面板時(shí)，顯示介質(zhì)130例如是有機(jī)發(fā)光層。當(dāng)顯示面板100為電泳顯示面板時(shí)，顯 示介質(zhì)130例如是電泳顯示介質(zhì)。當(dāng)顯示面板100為電楽顯示面板時(shí)，顯示介質(zhì)130例如 是電楽顯示介質(zhì)。
[0078] 此外，在第一基板110的絕緣層114上以及第二基板120上還可包括分別設(shè)置有 配向?qū)?42及配向?qū)?44,其中配向?qū)?42設(shè)置于第一基板110上的絕緣層114與顯示介質(zhì) 130之間，配向?qū)?44設(shè)置于第二基板120與顯示介質(zhì)130之間。換句話說，配向?qū)?42及 配向?qū)?44分別覆蓋第一基板110以及第二基板120的內(nèi)側(cè)（亦即，鄰近于顯示介質(zhì)130 的一側(cè)），以使顯示介質(zhì)130呈特定的排列方向。
[0079] 上述圖1至圖3B的實(shí)施例是以圖案116a或圖案116a'（凸塊或凹槽）為矩形且 排列成矩形陣列為例來說明，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案116a或圖案116a' 的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、 或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實(shí)施例中，圖案116a或圖案116a'于 圖案區(qū)116中亦可以是排列成矩形陣列、不規(guī)則圖形、同心圓、至少一環(huán)狀圖案或其他合適 的排列方式。換句話說，本發(fā)明不特別限定圖案區(qū)116的圖案的尺寸、形狀或排列方式等， 只要間隙物122與圖案區(qū)116重疊設(shè)置且A2彡A1 (例如A2/A1 = 1?2)即涵蓋于本發(fā)明 的范圍之中。
[0080] 圖4至圖6分別為依照本發(fā)明的第二至第四實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖。圖4 至圖6的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí)施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的 符號表示，且不再重復(fù)說明。圖4至圖6的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí)施例的不同之處 在于，圖案區(qū)116的圖案116a的形狀或排列方式不同。
[0081] 請參照圖4,圖案116a的形狀例如是矩形，且多個(gè)圖案116a于圖案區(qū)116中排列 成不規(guī)則圖形。再者，在本實(shí)施例中，圖案116a例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。 在其他實(shí)施例中，圖案區(qū)116的圖案亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0082] 請參照圖5,圖案116a的形狀例如是菱形，且多個(gè)圖案116a于圖案區(qū)116中排列 成矩形陣列。再者，在本實(shí)施例中，圖案116a例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在 其他實(shí)施例中，圖案區(qū)116的圖案亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0083] 請參照圖6,圖案116a的形狀例如是菱形，且多個(gè)圖案116a于圖案區(qū)116中排列 成X形圖案。更詳細(xì)來說，D3方向與D1方向及D2方向彼此不平行，其中D3方向與D1方 向及D2方向形成小于90度的夾角。亦即，D3方向與D1方向形成小于90度的夾角Θ1，且 D3方向與D2方向形成小于90度的夾角Θ 2。在本實(shí)施例中，由于在D3方向上的圖案116a 的分布密度大于在D1方向或D2方向上的圖案116a的分布密度，因此可提高斜向方向（亦 艮P，D3方向）的摩擦力（亦即，圖案區(qū)116在斜向方向上具有較大的表面粗糙度）。如此一 來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時(shí)所造成的間隙物122在斜向方向（亦即，D3方 向）上的錯(cuò)位量，進(jìn)而可改善顯示面板100漏光的問題。再者，在本實(shí)施例中，圖案116a例 如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案區(qū)116的圖案亦可以是包括 多個(gè)凹槽。
[0084] 圖7為依照本發(fā)明的第五實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖，而圖8A及圖8B分別為 圖7的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖。圖7至圖8B的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí)施 例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說明。圖7至圖8B 與上述圖1至圖3B的實(shí)施例的不同之處在于，圖案區(qū)116的圖案的形狀或排列方式不同。
[0085] 請參照圖7,圖案116a的形狀例如是圓形，且多個(gè)圖案116a于圖案區(qū)116中排列 成六角形圖案。再者，如圖8A所示，圖案116a例如是包括具有圓弧形截面的多個(gè)凸塊，但 本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，如圖8B所示，圖案116a'亦可以是包括具有圓弧形截 面的多個(gè)凹槽。換句話說，本發(fā)明亦不特別限定圖案116a的凸塊或凹槽的截面形狀，其例 如是包括矩形截面（如圖3A及圖3B所示）、圓弧形截面或其他合適的截面形狀。圖案區(qū) 116的高度差Η (或深度差）為0. 2 μ m?1 μ m。
[0086] 圖9為依照本發(fā)明的第六實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖。圖9的實(shí)施例與上述圖 1至圖3B的實(shí)施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說 明。圖9的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí)施例的不同之處在于，圖案區(qū)116的圖案的形狀 或排列方式不同。
[0087] 請參照圖9,多個(gè)圖案于圖案區(qū)116中排列成環(huán)狀圖案216b以及位于環(huán)狀圖案 216b內(nèi)部的中心圖案216a，且中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b的形狀例如是矩形。再者， 在本實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。 在其他實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個(gè)凹槽。圖案區(qū) 116 (包括中心圖案216a或環(huán)狀圖案216b)的高度差Η(或深度差）為0.2μπι?Ιμπι。
[0088] 在本實(shí)施例中，每一中心圖案216a的面積Α2'為4μπι2?25 μ m2,每一環(huán)狀圖案 216b的面積A2"為3 μ m2?105 μ m2,而每一圖案區(qū)116的面積為A2(亦即，中心圖案216a 的面積A2'與環(huán)狀圖案216b的面積A2"的總和）。再者，在本實(shí)施例中，每一間隙物122的 面積A1為28 μ m2?202 μ m2,且A2/A1 = 1?2。也就是說，圖案區(qū)116的面積A2例如是 等于或大于間隙物122的面積A1。
[0089] 上述圖9的實(shí)施例是以中心圖案216a的形狀與環(huán)狀圖案216b的形狀相同且皆為 矩形為例來說明，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案216a或環(huán)狀圖案216b的 形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或 其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實(shí)施例中，中心圖案216a的形狀與環(huán)狀 圖案216b的形狀亦可以是不同。換句話說，本發(fā)明不特別限定圖案區(qū)116的圖案的尺寸、 形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區(qū)116重疊設(shè)置且A2彡A1 (例如A2/A1 = 1? 2)即涵蓋于本發(fā)明的范圍之中。
[0090] 圖10至圖12分別為依照本發(fā)明的第七至第九實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖。圖 10至圖12的實(shí)施例與上述圖9的實(shí)施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號 表示，且不再重復(fù)說明。圖10至圖12的實(shí)施例與上述圖9的實(shí)施例的不同之處在于，圖案 區(qū)116的中心圖案216a或環(huán)狀圖案216b的形狀或排列方式不同。
[0091] 請參照圖10,中心圖案216a的形狀與環(huán)狀圖案216b的形狀例如是相同且皆為菱 形。再者，在本實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明 不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個(gè)凹 槽。
[0092] 請參照圖11，多個(gè)圖案于圖案區(qū)116中排列成兩個(gè)環(huán)狀圖案216b以及位于環(huán)狀 圖案216b內(nèi)部的中心圖案216a。中心圖案216a的形狀與環(huán)狀圖案216b的形狀例如是相 同且皆為圓形，即排列成同心圓圖案。換句話說，本發(fā)明亦不特別限定中心圖案216a的數(shù) 量或環(huán)狀圖案216b的圈數(shù)等。舉例來說，在其他實(shí)施例中，亦可以是不包括中心圖案216a 且僅包括至少一環(huán)狀圖案216b，或者是中心圖案216a的數(shù)量亦可以是多個(gè)，或者是環(huán)狀圖 案216b的圈數(shù)亦可以是多個(gè)。再者，在本實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b例如 是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案216a及環(huán)狀圖案216b的 圖案亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0093] 請參照圖12,中心圖案216a的形狀與環(huán)狀圖案216b的形狀例如是不同，其中中 心圖案216a的形狀為圓形且環(huán)狀圖案216b的形狀為矩形。再者，在本實(shí)施例中，中心圖案 216a及環(huán)狀圖案216b例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖 案216a及環(huán)狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0094] 上述圖1至圖12的實(shí)施例是以絕緣層114的圖案區(qū)116具有多個(gè)圖案116a為例 來說明，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，亦可以是絕緣層114的圖案區(qū)116中還包括 有摩擦層。
[0095] 圖13為依照本發(fā)明的第十實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖，而圖14至圖16分別為 圖13的區(qū)域R沿線1-1'的剖面示意圖。圖13至圖16的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí) 施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說明。圖13至圖 16的實(shí)施例與上述圖1至圖3B的實(shí)施例的不同之處在于，絕緣層114的圖案區(qū)116中還包 括有摩擦層。
[0096] 請同時(shí)參照圖13及圖14,絕緣層114還包括多個(gè)凹陷部114b，凹陷部114b分別 位于圖案區(qū)116中。多個(gè)第一摩擦層150分別位于絕緣層114的凹陷部114b內(nèi)，以使得絕 緣層114的表面114a呈現(xiàn)平坦。換句話說，第一摩擦層150填滿凹陷部114b，且第一摩擦 層150的表面150a與絕緣層114的表面114a齊平。再者，多個(gè)第二摩擦層160分別位于 間隙物122上，且第一摩擦層150與第二摩擦層160互相接觸。在本實(shí)施例中，每一圖案區(qū) 116的面積為A2 (亦即，第一摩擦層150的面積），每一間隙物122的面積A1 (亦即，第二摩 擦層160的面積）為28 μ m2?202 μ m2,且A2/A1 = 1?2。也就是說，圖案區(qū)116的面積 A2例如是等于或大于間隙物122的面積A1。
[0097] 第一摩擦層150及第二摩擦層160的材料例如是靜摩擦系數(shù)大于1. 0的材料。在 本實(shí)施例中，第一摩擦層150的材料與第二摩擦層160的材料相同，且第一摩擦層及第二摩 擦層的材料包括鋁、鈦、鑄鐵、鐵、銅、鎳、鉬、銀或其他合適的材料。然而，本發(fā)明不限于此， 在其他實(shí)施例中，第一摩擦層150的材料與第二摩擦層160的材料亦可以是不同，只要是可 使此兩層接觸時(shí)的靜摩擦系數(shù)大于1. 0的材料并可減少間隙物122的錯(cuò)位量即可。第一摩 擦層150的形成方法例如是先在絕緣層114上形成摩擦材料層（未繪示），接著再藉由化學(xué) 機(jī)械研磨工藝或回蝕刻工藝在凹陷部114b內(nèi)形成第一摩擦層150。第二摩擦層160及間隙 物122的形成方法例如是先在第二基板120上依序形成間隙物材料層（未繪示）以及摩擦 材料層（未繪示），接著再藉由化學(xué)機(jī)械研磨工藝或回蝕刻工藝形成第二摩擦層160以及間 隙物122。
[0098] 值得一提的是，本實(shí)施例的絕緣層114具有摩擦力較大的圖案區(qū)116,圖案區(qū)116 與間隙物122重疊設(shè)置并接觸，且間隙物122與圖案區(qū)116的接觸面亦具有較大的摩擦力。 亦即，第一摩擦層150與第二摩擦層160互相接觸。因此，本實(shí)施例的第一摩擦層150與第 二摩擦層160的設(shè)計(jì)可增加第二基板120上的間隙物122與第一基板110上的絕緣層114 之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時(shí)所造成的間隙物122的 錯(cuò)位量，進(jìn)而可改善顯示面板100漏光的問題。
[0099] 上述圖14的實(shí)施例是以凹陷部114b內(nèi)設(shè)置有第一摩擦層150為例來說明，但本 發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，亦可以是凹陷部114b內(nèi)還包括設(shè)置有其他膜層。
[0100] 舉例來說，如圖15所示，凹陷部114b內(nèi)可還包括設(shè)置有遮光層170。更詳細(xì)來說， 在圖15的實(shí)施例中，多個(gè)遮光層170分別位于絕緣層114的凹陷部114b內(nèi)，且遮光層170 位于第一摩擦層150與絕緣層114之間。如此一來，在其他實(shí)施例中，當(dāng)?shù)谝荒Σ翆?50與 主動(dòng)元件T重疊設(shè)置時(shí)，遮光層170可用以避免來自背光源或外界光源的光線在第一摩擦 層150上反射而照射到主動(dòng)元件T，因此可避免光漏電流（photo current leakage)的問題 并具有良好的顯示品質(zhì)。遮光層170的材料例如是黑色樹脂或其他合適的材料。
[0101] 再舉例來說，如圖16所示，凹陷部114b內(nèi)還可包括設(shè)置有遮光層170及介電層 180。更詳細(xì)來說，在圖16的實(shí)施例中，多個(gè)遮光層170以及多個(gè)介電層180分別位于絕緣 層114的凹陷部114b內(nèi)，其中遮光層170位于第一摩擦層150與介電層180之間，且介電 層180位于遮光層170與絕緣層114之間。如此一來，在其他實(shí)施例中，當(dāng)?shù)谝荒Σ翆?50 與主動(dòng)元件T重疊設(shè)置時(shí)，遮光層170可用以避免來自背光源或外界光源的光線在第一摩 擦層150上反射而照射到主動(dòng)元件T，因此可避免光漏電流的問題并具有良好的顯示品質(zhì)。 再者，當(dāng)絕緣層114的材料為有機(jī)材料時(shí)，介電層180可用以隔絕第一摩擦層150與主動(dòng)元 件T，進(jìn)而避免產(chǎn)生電容效應(yīng)。在本實(shí)施例中，介電層180的材料包括氧化硅、氮化硅或其他 合適的材料，而絕緣層114的材料包括有機(jī)材料或其他合適的材料。
[0102] 此外，上述圖13至圖16的實(shí)施例是以第一摩擦層150的表面150a與絕緣層114 的表面114a齊平（亦即，絕緣層114的表面114a呈現(xiàn)平坦）為例來說明，但本發(fā)明不限于 此。在其他實(shí)施例中，亦可以是第一摩擦層150的表面150a與絕緣層114的表面114a不 齊平。舉例來說，第一摩擦層150可自絕緣層114的表面114a凸出或凹陷，本發(fā)明不特別 限定，只要對應(yīng)調(diào)整間隙物122的高度以維持第一基板110與第二基板120的間隙（cell gap)即可。再者，在其他實(shí)施例中，第一摩擦層150或第二摩擦層160或兩者亦可以是包含 多個(gè)圖案，詳細(xì)請參照以下實(shí)施例的描述。
[0103] 圖17為依照本發(fā)明的第i^一實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖，而圖18為圖17的區(qū) 域R沿線1-1'的剖面示意圖。圖17至圖18的實(shí)施例與上述圖13至圖14的實(shí)施例相似， 因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說明。圖17至圖18的實(shí)施 例與上述圖13至圖14的實(shí)施例的不同之處在于，第一摩擦層150還包含多個(gè)圖案156a。
[0104] 在本實(shí)施例中，每一圖案156a的面積A2'為4μπι2?25 μ m2。如圖17所示，圖案 156a的形狀例如是矩形，且多個(gè)圖案156a于圖案區(qū)116中排列成矩形陣列。再者，如圖18 所示，圖案156a例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案156a亦 可以是包括多個(gè)凹槽。圖案156a(凸塊或凹槽）的形成方法例如是包括化學(xué)機(jī)械研磨工 藝、回蝕刻工藝或其他合適的方法。在本實(shí)施例中，每一圖案區(qū)116的面積為A2,每一間隙 物122的面積A1為28μπι 2?202μπι2,且A2/A1 = 1?2。也就是說，圖案區(qū)116的面積A2 例如是等于或大于間隙物122的面積Α1。
[0105] 值得一提的是，本實(shí)施例的絕緣層114的圖案區(qū)116皆具有較大的表面粗糙度與 摩擦力，圖案區(qū)116與間隙物122重疊設(shè)置并接觸，且間隙物122與圖案區(qū)116的接觸面亦 具有較大的摩擦力。亦即，第一摩擦層150的圖案156a與第二摩擦層160互相接觸。因此， 本實(shí)施例的第一摩擦層150與第二摩擦層160的設(shè)計(jì)可增加第二基板120上的間隙物122 與第一基板110上的絕緣層114之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲 或按壓時(shí)所造成的間隙物122的錯(cuò)位量，進(jìn)而可改善顯示面板100漏光的問題。
[0106] 上述圖17至圖18的實(shí)施例是以圖案156a為矩形且排列成矩形陣列為例來說明， 但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案156a的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、 鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。 再者，在其他實(shí)施例中，圖案156a于圖案區(qū)116中亦可以是排列成矩形陣列、不規(guī)則圖形、 同心圓、至少一環(huán)狀圖案或其他合適的排列方式。換句話說，本發(fā)明不特別限定圖案區(qū)116 的圖案的尺寸、形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區(qū)116重疊設(shè)置且A2彡Al(例 如A2/A1 = 1?2)即涵蓋于本發(fā)明的范圍之中。
[0107] 圖19為依照本發(fā)明的第十二實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖。圖19的實(shí)施例與上 述圖17至圖18的實(shí)施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重 復(fù)說明。圖19的實(shí)施例與上述圖17至圖18的實(shí)施例的不同之處在于，摩擦層的圖案的形 狀或排列方式不同。
[0108] 請參照圖19,第一摩擦層150的多個(gè)圖案于圖案區(qū)116中排列成環(huán)狀圖案256b以 及位于環(huán)狀圖案256b內(nèi)部的中心圖案256a，且中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b的形狀例如 是矩形。再者，在本實(shí)施例中，中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b例如是包括多個(gè)凸塊，但本 發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b的圖案亦可以是包括多 個(gè)凹槽。
[0109] 在本實(shí)施例中，每一中心圖案256a的面積A2'為4 μ m2?25 μ m2,每一環(huán)狀圖案 256b的面積A2"為3 μ m2?105 μ m2。再者，在本實(shí)施例中，每一圖案區(qū)116的面積為A2， 每一間隙物122的面積A1為28 μ m2?202 μ m2,且A2/A1 = 1?2。也就是說，圖案區(qū)116 的面積A2例如是等于或大于間隙物122的面積A1。
[0110] 上述圖19的實(shí)施例是以中心圖案256a的形狀與環(huán)狀圖案256b的形狀相同且皆 為矩形為例來說明，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案256a或環(huán)狀圖案256b 的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、 或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實(shí)施例中，中心圖案256a的形狀與環(huán) 狀圖案256b的形狀亦可以是不同。換句話說，本發(fā)明不特別限定圖案區(qū)116的圖案的尺寸、 形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區(qū)116重疊設(shè)置且A2彡A1 (例如A2/A1 = 1? 2)即涵蓋于本發(fā)明的范圍之中。
[0111] 圖20為依照本發(fā)明的第十三實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意圖，而圖21為圖20的區(qū) 域R沿線1-1'的剖面示意圖。圖20至圖21的實(shí)施例與上述圖19的實(shí)施例相似，因此相 同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說明。圖20至圖21的實(shí)施例與上 述圖19的實(shí)施例的不同之處在于，第一摩擦層150的中心圖案256a或環(huán)狀圖案256b的形 狀或排列方式不同。
[0112] 請同時(shí)參照圖20及圖21，中心圖案256a的形狀與環(huán)狀圖案256b的形狀例如是 相同且皆為菱形。再者，在本實(shí)施例中，中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b例如是包括多個(gè)凸 塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b的圖案亦可以是 包括多個(gè)凹槽。此外，在本實(shí)施例中，當(dāng)中心圖案256a及環(huán)狀圖案256b為凸塊時(shí)，中心圖 案256a與環(huán)狀圖案256b之間會形成環(huán)狀凹槽150c，且第二摩擦層160例如可以是具有環(huán) 狀凸塊的形狀，對應(yīng)卡合于環(huán)狀凹槽150c中，以更進(jìn)一步減少在顯示面板100被彎曲或按 壓時(shí)所造成的間隙物122的錯(cuò)位量。
[0113] 圖22至圖24分別為依照本發(fā)明的第十四至第十六實(shí)施例的區(qū)域R的放大示意 圖。圖22至圖24的實(shí)施例與上述圖17至圖18的實(shí)施例相似，因此相同或相似的元件以 相同或相似的符號表示，且不再重復(fù)說明。圖22至圖24的實(shí)施例與上述圖17至圖18的 實(shí)施例的不同之處在于，摩擦層的圖案的形狀或排列方式不同。
[0114] 請參照圖22,圖案156a的形狀例如是矩形，且多個(gè)圖案156a于圖案區(qū)116中排列 成馬賽克形狀，以均勻地增加各方向的摩擦力。再者，在本實(shí)施例中，圖案156a例如是包括 多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案156a亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0115] 請參照圖23,圖案156a的形狀例如是T形，且多個(gè)圖案156a于圖案區(qū)116中規(guī) 律排列，以均勻地增加各方向的摩擦力。再者，在本實(shí)施例中，圖案156a例如是包括多個(gè)凸 塊，但本發(fā)明不限于此。在其他實(shí)施例中，圖案156a亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0116] 請參照圖24,圖案156a的形狀例如是柵欄形，以增加 D1方向（例如橫向方向）的 摩擦力。再者，在本實(shí)施例中，圖案156a例如是包括多個(gè)凸塊，但本發(fā)明不限于此。在其他 實(shí)施例中，圖案156a亦可以是包括多個(gè)凹槽。
[0117] 綜上所述，在本發(fā)明的顯示面板中，間隙物對應(yīng)絕緣層的圖案區(qū)設(shè)置于遮光區(qū)中 且A2/A1 = 1?2。由于絕緣層具有表面粗糙度或摩擦力較大的圖案區(qū)，且圖案區(qū)與間隙物 重疊設(shè)置并接觸，因此本發(fā)明的圖案區(qū)的設(shè)計(jì)可增加第二基板上的間隙物與第一基板上的 絕緣層之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板被彎曲或按壓時(shí)所造成的間隙物的錯(cuò) 位量，進(jìn)而可改善顯示面板漏光的問題。
[0118] 當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟 悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變 形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種顯示面板，其特征在于，該顯示面板具有多個(gè)像素區(qū)以及一遮光區(qū)，且該遮光區(qū) 圍繞該多個(gè)像素區(qū)設(shè)置，包括： 一第一基板； 一像素陣列，位于該第一基板上； 一絕緣層，覆蓋該像素陣列，其中該絕緣層具有多個(gè)圖案區(qū)位于該遮光區(qū)中； 一第二基板，位于該第一基板的對向； 多個(gè)間隙物，位于該第二基板之上，且分別對應(yīng)該絕緣層的該多個(gè)圖案區(qū)設(shè)置于該遮 光區(qū)中，其中該多個(gè)間隙物的面積為A1，該多個(gè)圖案區(qū)的面積為A2,且A2/A1 = 1?2;以 及 一顯不介質(zhì)，位于該第一基板與該第二基板之間。
2. 如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)間隙物的面積A1為28 μ m2? 202 μ m2。
3. 如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案區(qū)包含多個(gè)圖案。
4. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案的面積A2'為4μπι2? 25 μ m2。
5. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案的高度差為0. 2μ m? 1 μ m〇
6. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該像素陣列包括沿一 D1方向延伸的多 條掃描線以及沿一 D2方向延伸的多條數(shù)據(jù)線。
7. 如權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，還包括一 D3方向與該D1方向及該D2 方向彼此不平行，且在該D3方向上的該多個(gè)圖案的分布密度大于在該D1方向或該D2方向 上的該多個(gè)圖案的分布密度。
8. 如權(quán)利要求7所述的顯示面板，其特征在于，該D1方向與該D2方向互相垂直，而該 D3方向與該D1方向及該D2方向形成小于90度的夾角。
9. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案包括多個(gè)凸塊或多個(gè)凹槽。
10. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案的形狀包括矩形、正方形、 菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
11. 如權(quán)利要求10所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案于該多個(gè)圖案區(qū)中排列 成一矩形陣列或一不規(guī)則圖形。
12. 如權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案于該多個(gè)圖案區(qū)中排列成 一同心圓或至少一環(huán)狀圖案。
13. 如權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，還包括一中心圖案，位于該至少一環(huán) 狀圖案的內(nèi)部。
14. 如權(quán)利要求13所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案或該中心圖案的 形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀 的組合。
15. 如權(quán)利要求14所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案的形狀與該中心 圖案的形狀相同。
16. 如權(quán)利要求14所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案的形狀與該中心 圖案的形狀不同。
17. 如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，還包括多個(gè)凹陷部，分別位于該絕緣 層的該多個(gè)圖案區(qū)中。
18. 如權(quán)利要求17所述的顯示面板，其特征在于，還包括多個(gè)第一摩擦層以及多個(gè)第 二摩擦層，其中該多個(gè)第一摩擦層分別位于該絕緣層的該多個(gè)凹陷部內(nèi)，該多個(gè)第二摩擦 層分別位于該多個(gè)間隙物上，且該多個(gè)第一摩擦層與該多個(gè)第二摩擦層互相接觸。
19. 如權(quán)利要求18所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)第一摩擦層及該多個(gè)第二摩 擦層的材料為靜摩擦系數(shù)大于1. 0的材料。
20. 如權(quán)利要求19所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)第一摩擦層的材料與該多個(gè) 第二摩擦層的材料相同。
21. 如權(quán)利要求20所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)第一摩擦層及該多個(gè)第二摩 擦層的材料包括錯(cuò)、鈦、鑄鐵、鐵、銅、鎳、鉬或銀。
22. 如權(quán)利要求18所述的顯示面板，其特征在于，還包括多個(gè)遮光層，分別位于該絕緣 層的該多個(gè)凹陷部與該多個(gè)第一摩擦層之間。
23. 如權(quán)利要求22所述的顯示面板，其特征在于，還包括多個(gè)介電層，分別位于該絕緣 層的該多個(gè)凹陷部與該多個(gè)遮光層之間。
24. 如權(quán)利要求23所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)介電層的材料包括氧化硅或 氮化娃,且該絕緣層的材料包括有機(jī)材料。
25. 如權(quán)利要求18所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)第一摩擦層或該多個(gè)第二摩 擦層包含多個(gè)圖案。
26. 如權(quán)利要求25所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案包括多個(gè)凸塊或多個(gè)凹 槽。
27. 如權(quán)利要求25所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案的形狀包括矩形、正方 形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
28. 如權(quán)利要求27所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案于該多個(gè)圖案區(qū)中排列 成一矩形陣列或一不規(guī)則圖形。
29. 如權(quán)利要求25所述的顯示面板，其特征在于，該多個(gè)圖案于該多個(gè)圖案區(qū)中排列 成一同心圓或至少一環(huán)狀圖案。
30. 如權(quán)利要求29所述的顯示面板，其特征在于，還包括一中心圖案，位于該至少一環(huán) 狀圖案的內(nèi)部。
31. 如權(quán)利要求30所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案或該中心圖案的 形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀 的組合。
32. 如權(quán)利要求31所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案的形狀與該中心 圖案的形狀相同。
33. 如權(quán)利要求31所述的顯示面板，其特征在于，該至少一環(huán)狀圖案的形狀與該中心 圖案的形狀不同。
【文檔編號】H01L27/32GK104049417SQ201410299338
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年6月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月18日
【發(fā)明者】陳彥良, 蕭家斌 申請人:友達(dá)光電股份有限公司