一種用于成膜的真空腔室檢測設(shè)備及真空腔室檢測方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，包括：一真空腔室；設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)的光源；設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)用于承載所述玻璃基板的承載裝置；檢測裝置，用于基于所述光源發(fā)射的光對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果；數(shù)據(jù)比較器，用于將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。本發(fā)明還涉及一種真空腔室檢測方法。本發(fā)明的有益效果是：及時(shí)發(fā)現(xiàn)玻璃基板是否存在有機(jī)污染物，防止成膜真空腔室污染，提高產(chǎn)品良率。
【專利說明】一種用于成膜的真空腔室檢測設(shè)備及真空腔室檢測方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶產(chǎn)品制作領(lǐng)域，尤其涉及一種用于成膜的真空腔室檢測設(shè)備及真空腔室檢測方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前設(shè)計(jì)的TFT-LCD各類產(chǎn)品，沉積薄膜的方法，主要采用真空腔室，如果留有光刻膠等有機(jī)物的玻璃基板進(jìn)入成膜腔室，在等離子的轟擊之下，有機(jī)物就會(huì)被轟擊整個(gè)腔室里面，造成腔室污染，產(chǎn)品的良率會(huì)受到嚴(yán)重影響，造成重大損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種用于成膜的真空腔室檢測設(shè)備及真空腔室檢測方法，防止成膜真空腔室污染，提高產(chǎn)線良率。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，包括:
[0005]一真空腔室；
[0006]設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)的光源；
[0007]設(shè)置于所述真空 腔室內(nèi)用于承載所述玻璃基板的承載裝置；
[0008]檢測裝置，用于基于所述光源發(fā)射的光對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果；
[0009]數(shù)據(jù)比較器，用于將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
[0010]進(jìn)一步的，所述檢測裝置具體為一位置可移動(dòng)的測試探頭，能夠通過位置移動(dòng)掃描所述玻璃基板的各檢測點(diǎn)，獲取相應(yīng)的光學(xué)檢測結(jié)果。
[0011]進(jìn)一步的，所述測試探頭與所述光源設(shè)于所述玻璃基板的同一側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的反射光強(qiáng)比率。
[0012]進(jìn)一步的，所述測試探頭與所述光源分別位于所述玻璃基板相對(duì)的兩側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的光透過率。
[0013]進(jìn)一步的，所述光源可移動(dòng)的設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)。
[0014]進(jìn)一步的，用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備還包括用于在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警的報(bào)警器。
[0015]進(jìn)一步的，用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備還包括:
[0016]至少兩個(gè)電學(xué)探頭；
[0017]判斷裝置，用于根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
[0018]本發(fā)明還提供一種通過上述用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備進(jìn)行的真空腔室檢測方法，包括以下步驟:[0019]將光源打開；
[0020]檢測裝置對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果；
[0021]將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
[0022]進(jìn)一步的，真空腔室檢測方法還包括:在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警。
[0023]進(jìn)一步的，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的所有檢測點(diǎn)的光透過率或反射光強(qiáng)比率。
[0024]進(jìn)一步的，所述光透過率為檢測裝置接收的光的強(qiáng)度與光源發(fā)射的光的強(qiáng)度的比 值。
[0025]進(jìn)一步的，還包括以下步驟:
[0026]通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形；
[0027]將兩個(gè)電學(xué)探頭移動(dòng)到所述導(dǎo)電測試圖形；
[0028]根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
[0029]進(jìn)一步的，所述通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形具體包括:
[0030]在玻璃基板的檢測點(diǎn)沉積金屬膜層；
[0031 ]通過光刻工藝在所述金屬膜層上涂布光刻膠；
[0032]通過刻蝕工藝、剝離工藝形成導(dǎo)電測試圖形。
[0033]本發(fā)明的有益效果是:及時(shí)發(fā)現(xiàn)玻璃基板是否存在有機(jī)污染物，防止成膜真空腔室污染，提聞廣品良率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0034]圖1表示本發(fā)明用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖2表示用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖3表示另一實(shí)施例中用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖4表不沉積金屬膜層后的玻璃基板不意圖；
[0038]圖5表不涂布光刻膠后的玻璃基板不意圖；
[0039]圖6表示經(jīng)過刻蝕工藝后的玻璃基板示意圖；
[0040]圖7表不玻璃光刻膠后的玻璃基板不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0041]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的特征和原理進(jìn)行詳細(xì)說明，所舉實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并非以此限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0042]如圖1和圖2所示，本實(shí)施例提供一種用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，包括:
[0043]一真空腔室；
[0044]設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)的光源2 ；
[0045]設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)用于承載所述玻璃基板的承載裝置；
[0046]檢測裝置1，用于基于所述光源2發(fā)射的光對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果；[0047]數(shù)據(jù)比較器3，用于將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
[0048]本實(shí)施例中的污染物一般指的是有機(jī)污染物。
[0049]基于所述光源2發(fā)射的光對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果，將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物，實(shí)時(shí)監(jiān)控和及時(shí)發(fā)現(xiàn)玻璃基板是否存在有機(jī)污染物，防止成膜真空腔室污染，提高產(chǎn)品良率。
[0050]本實(shí)施例中，所述檢測裝置I具體為一位置可移動(dòng)的測試探頭，能夠通過位置移動(dòng)掃描所述玻璃基板的各檢測點(diǎn)，獲取相應(yīng)的光學(xué)檢測結(jié)果。
[0051]所述光源2可以為一光學(xué)探頭，可移動(dòng)的設(shè)置在所述真空腔室內(nèi)。
[0052]本實(shí)施例中，所述測試探頭與所述光源2設(shè)于所述玻璃基板的同一側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的反射光強(qiáng)比率。
[0053]所述測試探頭與所述光學(xué)探頭同步移動(dòng)、成對(duì)的設(shè)置在所述真空腔室內(nèi)。
[0054]如圖1和圖2所示，所述真空腔室內(nèi)設(shè)有與Y軸方向平行的第一導(dǎo)軌4和第二導(dǎo)軌5，所述第二導(dǎo)軌5位于所述第一導(dǎo)軌4的下方，所述測試探頭可移動(dòng)的設(shè)置在所述第一導(dǎo)軌4上，所述光學(xué)探頭可移動(dòng)的設(shè)置在所述第二導(dǎo)軌5上，由于所述光學(xué)探頭發(fā)出的光為點(diǎn)光源，所述測試探頭位于所述光學(xué)探頭的上方，且所述測試探頭位于所述光學(xué)探頭是同步移動(dòng)的，以便所述測試 探頭采集相應(yīng)的光學(xué)檢測結(jié)果。
[0055]所述真空腔室內(nèi)成對(duì)設(shè)置有第三導(dǎo)軌6和第四導(dǎo)軌7，所述第三導(dǎo)軌6與X軸方向平行，所述第一導(dǎo)軌4可移動(dòng)的設(shè)置在所述第三導(dǎo)軌6上，所述第二導(dǎo)軌5可移動(dòng)的設(shè)置在所述第四導(dǎo)軌7上，所述第一導(dǎo)軌4沿著所述第三導(dǎo)軌6在X軸方向移動(dòng)，設(shè)置在所述第一導(dǎo)軌4上的所述測試探頭隨之沿著X軸方向移動(dòng)，同時(shí)所述第二導(dǎo)軌5沿著所述第四導(dǎo)軌7在X軸方向移動(dòng)，設(shè)置在所述第二導(dǎo)軌5上的光學(xué)探頭隨之沿著X軸方向移動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)所述測試探頭和所述光學(xué)探頭在X軸方向、Y軸方向的移動(dòng)，全面掃描玻璃基板，及時(shí)發(fā)現(xiàn)玻璃基板上的有機(jī)污染物，防止真空腔室污染，提聞廣品良率。
[0056]本實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)軌4設(shè)有兩個(gè)，每個(gè)所述第一導(dǎo)軌4上設(shè)有一個(gè)所述測試探頭，所述第二導(dǎo)軌5設(shè)有兩個(gè)，每個(gè)所述第二導(dǎo)軌5上與所述測試探頭對(duì)應(yīng)的位置設(shè)有一個(gè)所述光學(xué)探頭，但是不以此為限，所述第一導(dǎo)軌4、所述第二導(dǎo)軌5、所述測試探頭與所述光學(xué)探頭的數(shù)量均可根據(jù)實(shí)際需要設(shè)定。
[0057]所述第三導(dǎo)軌6和相應(yīng)的所述第四導(dǎo)軌7之間設(shè)有至少2個(gè)支柱8，每個(gè)支柱8上設(shè)有與所述X軸方向平行的支撐板9，且連接于同一所述第三導(dǎo)軌6上的兩個(gè)支柱8上的支撐板9的延伸方向相對(duì)，如圖1和圖2所示，所述第三導(dǎo)軌6的兩端與相應(yīng)的所述第四導(dǎo)軌7的兩端分別設(shè)有支柱8，四個(gè)支柱8上的支撐板9形成用于承載所述玻璃基板的承載裝置。
[0058]所述支撐板9也可以與Y軸方向平行，且成對(duì)設(shè)置的支撐板9沿著Y軸方向相對(duì)延伸，至少四個(gè)支撐板9形成用于承載所述玻璃基板的支撐平臺(tái)，即所述承載裝置。
[0059]本實(shí)施例中，所述測試探頭與所述光源2分別位于所述玻璃基板相對(duì)的兩側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的光透過率。
[0060]所述光透過率為檢測裝置I接收的光的強(qiáng)度與光源2發(fā)射的光的強(qiáng)度的比值。[0061 ] 本實(shí)施例中，用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備還包括用于在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警的報(bào)警器。
[0062]當(dāng)所述數(shù)據(jù)比較器3得出玻璃基板上存在有機(jī)污染物的結(jié)構(gòu)時(shí)，所述報(bào)警器報(bào)警，玻璃基板停止在真空腔室內(nèi)的下步工藝，防止在等離子的轟擊下，有機(jī)污染物被轟擊在整個(gè)真空腔室里面，造成真空腔室的污染。
[0063]當(dāng)所述數(shù)據(jù)比較器3得出玻璃基板上存在有機(jī)污染物的結(jié)構(gòu)時(shí)，所述報(bào)警器報(bào)警，玻璃基板停止在真空腔室內(nèi)的下步工藝，可以是人工操作停止玻璃基板在真空腔室內(nèi)的下步工藝，也可以是自動(dòng)停止。
[0064]所述報(bào)警器可以獨(dú)立設(shè)置也可以與所述數(shù)據(jù)比較器3集成一體結(jié)構(gòu)。
[0065]本實(shí)施例中，所述檢測裝置I也可以包括:
[0066]用于采集玻璃基板圖像的圖像采集器；
[0067]用于分析所述圖像，確定所述玻璃基板上是否存在污染物的圖像分析器。
[0068]可以通過Canny算子邊緣檢測方法或其他邊緣檢測方法，確定玻璃基板上的污染物邊緣，從而確定所述玻璃基板上存在污染物。
[0069]本實(shí)施例中，用于成膜真空腔室的檢測設(shè)備還包括用于將所述玻璃基板輸送至所述真空腔室內(nèi)的傳送裝置，所述傳送裝置的結(jié)構(gòu)形式可以有多種，例如可以為機(jī)械手臂、傳送帶等。
[0070]本發(fā)明還提供一種通過上述用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備進(jìn)行的真空腔室檢測方法，包括以下步驟:
[0071]將光源2打開；
[0072]檢測裝置I對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果；
[0073]將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
[0074]進(jìn)一步的，真空腔室檢測方法還包括:在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警。
[0075]進(jìn)一步的，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的所有檢測點(diǎn)的光透過率或反射光強(qiáng)比率。
[0076]進(jìn)一步的，所述光透過率為檢測裝置I接收的光的強(qiáng)度與光源2發(fā)射的光的強(qiáng)度的比值。
[0077]以下以測試探頭和光學(xué)探頭分別位于基本兩側(cè)為例具體介紹本實(shí)施例中，檢測玻璃基板上是否存在污染物的過程。
[0078]首先編輯標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù):將正常未發(fā)生不良的玻璃基板，送入用于成膜真空腔室檢測設(shè)備中，承載裝置固定支撐玻璃基板，然后光學(xué)探頭將光源打開，提供玻璃基板的背光源；測試探頭也同時(shí)工作，接收透過玻璃基板的光源信號(hào)強(qiáng)度，然后傳輸?shù)綌?shù)據(jù)比較器3 ;數(shù)據(jù)比較器3會(huì)將接收的光源信號(hào)強(qiáng)度與光學(xué)探頭發(fā)出的光源信號(hào)強(qiáng)度進(jìn)行相比較，得出光的透過率(光透過率為檢測裝置I接收的光的強(qiáng)度與光源2發(fā)射的光的強(qiáng)度的比值)；從而得出標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)。
[0079] 樣品測試:將需要監(jiān)控和測試的玻璃基板通過傳送裝置輸送至真空腔室內(nèi)，承載裝置固定支撐玻璃基板，然后下面的光學(xué)探頭將光源打開，提供玻璃基板的背光源；測試探頭也同時(shí)工作，接收透過玻璃基板的光源信號(hào)強(qiáng)度，光學(xué)探頭和測試探頭可以沿著相應(yīng)的第一導(dǎo)軌4、第二導(dǎo)軌5移動(dòng),所述第一導(dǎo)軌4和第二導(dǎo)軌5可以沿著相應(yīng)的第三導(dǎo)軌6和第四導(dǎo)軌7移動(dòng)，從而對(duì)玻璃基板進(jìn)行全方位測試，然后將測試的數(shù)據(jù)(測試探頭獲得的光學(xué)檢測結(jié)果)傳輸?shù)綌?shù)據(jù)比較器3 ;數(shù)據(jù)比較器3將接收的光學(xué)檢測結(jié)果進(jìn)行處理，與正常的標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較；如果在玻璃基板上存在有機(jī)物，此測試點(diǎn)的透過率相比較標(biāo)準(zhǔn)樣品數(shù)據(jù)的透過率就會(huì)降低，從而報(bào)警器會(huì)進(jìn)行報(bào)警提示，玻璃基板就會(huì)停止下步在真空腔室的工藝，防止腔室污染。
[0080]如圖3所示，另一實(shí)施例中，用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備還包括:至少兩個(gè)電學(xué)探頭10 ；
[0081]判斷裝置，用于根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭10是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
[0082]為了精確的檢測玻璃基板上是否存在有機(jī)污染物，可以采用光學(xué)探頭、測試探頭利用光學(xué)原理對(duì)玻璃基板進(jìn)行檢測后，通過電學(xué)探頭10利用電學(xué)原理對(duì)玻璃基板上存在污染物的概率較大的區(qū)域進(jìn)行復(fù)檢，一般情況下，玻璃基板上存在污染物概率較大的區(qū)域?yàn)椴ＡЩ宓姆枪δ軈^(qū)，例如玻璃基板的邊緣，有效的防止真空腔室被污染。
[0083]本實(shí)施例中，所述電學(xué)探頭10設(shè)置于所述第一導(dǎo)軌和/或所述第二導(dǎo)軌上。
[0084]本實(shí)施例中，玻璃基板的檢測點(diǎn)處通過構(gòu)圖工藝形成的導(dǎo)電測試圖形。
[0085]本實(shí)施例中，所述導(dǎo)電測試圖形的結(jié)構(gòu)、大小、數(shù)量等可根據(jù)實(shí)際需要設(shè)定。
[0086]當(dāng)然，在實(shí)際使用時(shí)，為了節(jié)省檢測時(shí)間，上述光學(xué)探頭和電學(xué)探頭10的使用可以分開獨(dú)立使用，即僅采用光學(xué)探頭、測試探頭利用光學(xué)原理對(duì)玻璃基板進(jìn)行檢測，或者僅通過電學(xué)探頭10利用電學(xué)原理對(duì)玻璃基板上存在污染物的概率較大的區(qū)域進(jìn)行檢測，而沒有復(fù)檢，其中僅通過電學(xué)探頭10利用電學(xué)原理對(duì)玻璃基板上存在污染物的概率較大的區(qū)域進(jìn)行檢測更是大大的節(jié)省了時(shí)間，在防止真空腔室被污染的同時(shí)進(jìn)一步的提高了整個(gè)產(chǎn)品加工工藝的效率。
[0087]本實(shí)施例還提供一種通過上述用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備進(jìn)行的真空腔室檢測方法，包括以下步驟:
[0088]通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形；
[0089]將兩個(gè)電學(xué)探頭10移動(dòng)到所述導(dǎo)電測試圖形；
[0090]根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭10是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
[0091]所述通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形具體包括:
[0092]在玻璃基板100的檢測點(diǎn)沉積金屬膜層200，如圖4所示；
[0093]通過光刻工藝在所述金屬膜層200上涂布光刻膠300，如圖5所示；
[0094]通過刻蝕工藝、剝離工藝形成導(dǎo)電測試圖形，如圖6和圖7所示。
[0095]通過電學(xué)探頭10利用電學(xué)原理對(duì)玻璃基板上存在污染物的概率較大的區(qū)域進(jìn)行檢測的具體工作流程如下。
[0096]通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板非功能區(qū)形成導(dǎo)電測試圖形，預(yù)先保存導(dǎo)電測試圖形的物理坐標(biāo)位置，以作為電學(xué)探頭10的檢測點(diǎn)。
[0097] 承載裝置固定支撐玻璃基板，然后兩個(gè)電學(xué)探頭10移動(dòng)到導(dǎo)電測試圖形的位置，如果玻璃基板上沒有有機(jī)污染物，則兩個(gè)電學(xué)探頭10會(huì)導(dǎo)通，如果玻璃基板上面殘留有機(jī)污染物，則電學(xué)探頭10的電流無法流過，外面會(huì)無信號(hào)輸出，判斷裝置也就接收不到信號(hào)。
[0098]以上所述為本發(fā)明較佳實(shí)施例，需要指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下， 還可以作出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特在于，包括: 一真空腔室； 設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)的光源； 設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)用于承載所述玻璃基板的承載裝置； 檢測裝置，用于基于所述光源發(fā)射的光對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果； 數(shù)據(jù)比較器，用于將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，所述檢測裝置具體為一位置可移動(dòng)的測試探頭，能夠通過位置移動(dòng)掃描所述玻璃基板的各檢測點(diǎn)，獲取相應(yīng)的光學(xué)檢測結(jié)果。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，所述測試探頭與所述光源設(shè)于所述玻璃基板的同一側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的反射光強(qiáng)比率。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，所述測試探頭與所述光源分別位于所述玻璃基板相對(duì)的兩側(cè)，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的檢測點(diǎn)的光透過率 。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，所述光源可移動(dòng)的設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，還包括用于在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警的報(bào)警器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備，其特征在于，用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備還包括: 至少兩個(gè)電學(xué)探頭； 判斷裝置，用于根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
8.—種通過權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的用于成膜的真空腔室的檢測設(shè)備進(jìn)行的真空腔室檢測方法，其特征在于，包括以下步驟: 將光源打開； 檢測裝置對(duì)所述玻璃基板的檢測點(diǎn)進(jìn)行檢測，獲取一光學(xué)檢測結(jié)果； 將所述光學(xué)檢測結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行比較以判斷所述玻璃基板上是否有污染物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空腔室檢測方法，其特征在于，還包括:在所述玻璃基板上存在污染物時(shí)報(bào)警。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空腔室檢測方法，其特征在于，所述光學(xué)檢測結(jié)果為所述玻璃基板的所有檢測點(diǎn)的光透過率或反射光強(qiáng)比率。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空腔室檢測方法，其特征在于，所述光透過率為檢測裝置接收的光的強(qiáng)度與光源發(fā)射的光的強(qiáng)度的比值。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空腔室檢測方法，其特征在于，還包括以下步驟: 通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形；將兩個(gè)電學(xué)探頭移動(dòng)到所述導(dǎo)電測試圖形； 根據(jù)位于玻璃基板上的檢測點(diǎn)處的兩個(gè)所述電學(xué)探頭是否導(dǎo)通的電學(xué)檢測結(jié)果判斷玻璃基板上是否存在污染物。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的真空腔室檢測方法，其特征在于，所述通過構(gòu)圖工藝在玻璃基板的檢測點(diǎn)形成導(dǎo)電測試圖形具體包括: 在玻璃基板的檢測點(diǎn)沉積金屬膜層； 通過光刻工 藝在所述金屬膜層上涂布光刻膠； 通過刻蝕工藝、剝離工藝形成導(dǎo)電測試圖形。
【文檔編號(hào)】H01L21/66GK104022053SQ201410211751
【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年5月20日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月20日
【發(fā)明者】王守坤, 郭總杰, 郭會(huì)斌, 馮玉春, 李梁梁 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司