用于中壓開(kāi)關(guān)裝置的屏蔽元件的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及用于具有真空斷續(xù)器的中壓開(kāi)關(guān)裝置中的屏蔽元件，該真空斷續(xù)器具有至少兩個(gè)觸頭，該至少兩個(gè)觸頭沿閉合與斷開(kāi)觸頭位置之間的開(kāi)關(guān)路徑是可移動(dòng)的，根據(jù)權(quán)利要求1，其中屏蔽元件被圍繞真空斷續(xù)器中的觸頭位置區(qū)域定位，其中至少該屏蔽的內(nèi)表面利用一構(gòu)形結(jié)構(gòu)實(shí)施，該構(gòu)形結(jié)構(gòu)是粗糙的或結(jié)構(gòu)化的表面。為了增強(qiáng)至少該屏蔽的能量吸收行為，所述實(shí)施的構(gòu)形結(jié)構(gòu)以這樣的方式來(lái)形成，即通過(guò)屏蔽體的給定恒定或近似恒定的體積(Vi)，具有實(shí)施的表面結(jié)構(gòu)的經(jīng)處理的表面(S2)與不具有構(gòu)形結(jié)構(gòu)的未處理的表面(S1)的表面比大于1，使得這遵循條件：V1～V2，并且S2/S1＞1。
【專(zhuān)利說(shuō)明】用于中壓開(kāi)關(guān)裝置的屏蔽元件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于具有真空斷續(xù)器的中壓開(kāi)關(guān)裝置的屏蔽元件，該真空斷續(xù)器具有 至少兩個(gè)觸頭，該至少兩個(gè)觸頭沿閉合與斷開(kāi)觸頭位置之間的開(kāi)關(guān)路徑是可移動(dòng)的，根據(jù) 權(quán)利要求1，其中屏蔽元件被圍繞真空斷續(xù)器中的觸頭位置區(qū)域定位。

【背景技術(shù)】
[0002] 真空斷續(xù)器使用內(nèi)屏蔽元件，環(huán)繞處于閉合和斷開(kāi)位置的觸頭位置。
[0003] 通過(guò)為真空斷續(xù)器使用具有成形的屏蔽，可以在開(kāi)關(guān)期間為真空斷續(xù)器吸收更多 的金屬蒸汽，因此能夠增加斷續(xù)能力，如從DE19503347A1中所獲知的那樣。
[0004] 到目前為止，如果使用具有成形的屏蔽，則該外形與屏蔽的軸向方向相切，并且需 要采用如該DE19503347A1所述的機(jī)械加工來(lái)制作。該外形與屏蔽相切，因此，生產(chǎn)方法僅 能使用機(jī)械加工。屏蔽的壁厚必須厚，以致消耗足夠的體材料，用來(lái)在機(jī)械加工之后得到具 有成形的屏蔽。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是增強(qiáng)屏蔽的能量吸收行為。
[0006] 用于本發(fā)明的基本特征是實(shí)施的構(gòu)形結(jié)構(gòu)以這樣的一種方式形成，即通過(guò)屏蔽體 的給定恒定或近似恒定的體積（Vi)，具有實(shí)施的表面結(jié)構(gòu)的經(jīng)處理的表面（S2)與不具有 構(gòu)形結(jié)構(gòu)的未處理的表面（S1)的表面比大于1，使得這遵循條件VI?V2,并且S2/S1 > 1。
[0007] 該條件由于其在制造方面的優(yōu)點(diǎn)以及在這樣的屏蔽和真空斷續(xù)器的恒定高性能 方面的優(yōu)點(diǎn)以及不同測(cè)量和安培容量的真空斷續(xù)器和屏蔽的成套制造中的優(yōu)點(diǎn)，而必須被 獲悉。
[0008] 因此其是基于屏蔽本身的體積不是屏蔽環(huán)繞的圓柱空間所包圍的體積的認(rèn)知。
[0009] 上述體積是屏蔽本身的材料體積。因此VI是具有未處理的平的內(nèi)表面的屏蔽的 體積，并且V2是具有經(jīng)處理的結(jié)構(gòu)化內(nèi)表面的屏蔽的體積。
[0010] 在這個(gè)意義上，部分無(wú)規(guī)律的表面意味著實(shí)施的結(jié)構(gòu)不主要在一個(gè)方向的定向結(jié) 構(gòu)中。
[0011] 通過(guò)這種方式，導(dǎo)致了微觀（mikroscopic)表面增殖的最大化，如果發(fā)生光弧，其 具有最大的可能的能量吸收。
[0012] 這樣的具有高能量吸收的構(gòu)形的有益實(shí)施例以這樣一種方式給出，即構(gòu)形表面結(jié) 構(gòu)是由噴砂粒處理的噴砂表面。該表面是粗糙的，具有前述高有效表面增殖，并且能夠被非 常容易地制造，但具有高復(fù)觀質(zhì)量。
[0013] 進(jìn)一步有益的實(shí)施例由以下方式給出，即構(gòu)形結(jié)構(gòu)由交叉布置的槽構(gòu)成，即所謂 的滾花結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)是規(guī)則定向的，但相對(duì)于長(zhǎng)軸或任意其它定向不是對(duì)其的。
[0014] 這種非常特別的構(gòu)形，通常用作構(gòu)造表面用以獲得更好的手感，其用于增強(qiáng)在真 空斷續(xù)器內(nèi)部發(fā)生的光弧能的能量吸收。
[0015] 滾花具有良好的表面放大系數(shù)，使得能量能夠被更大的表面所吸收。
[0016] 有益的實(shí)施例是構(gòu)形結(jié)構(gòu)由機(jī)械加工來(lái)實(shí)施。這是容易制造的。
[0017] 進(jìn)一步有益的是每個(gè)觸頭均安裝在桿上，并且至少靠近觸頭件的部分區(qū)域額外利 用構(gòu)形表面結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)施，以便吸收來(lái)自光弧發(fā)生的能量。
[0018] 螺紋的屏蔽具有能夠在寬范圍內(nèi)限定深度的有益效果。在選擇銅材料或銅鉻材料 的情況下，在短路條件下起弧期間熔融金屬來(lái)自觸頭系統(tǒng)并且在該表面處粘在一起。銅或 銅鉻濕化屏蔽材料的表面。這意味著材料在良好的束縛條件下停留在表面處。在通過(guò)使用 特殊的鋼材料或不銹鋼材料的情況下，會(huì)發(fā)生銅鉻材料（無(wú)熔融的觸點(diǎn)材料）的濕化不會(huì) 以足夠正確的方式粘附在屏蔽表面處。這會(huì)產(chǎn)生來(lái)自螺紋的每一圈的螺紋區(qū)域的尖刺。在 這些特定的情況中，介電性能下降。
[0019] "滾花"結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提供了所需的表面面積增大（相較于因此所附的草圖和滾花設(shè)計(jì) 看上去的圖片），而不具有在螺紋的表面的圈內(nèi)部可能產(chǎn)生"長(zhǎng)"的尖刺的缺點(diǎn)。
[0020] 而且噴砂表面容易以高復(fù)現(xiàn)恒定質(zhì)量維持的方式制造。

【具體實(shí)施方式】
[0021] 圖1示出了本發(fā)明的實(shí)例，在該實(shí)例中，至少真空斷續(xù)器2中的屏蔽1在其內(nèi)表面 上至少部分地被構(gòu)造有滾花結(jié)構(gòu)3,這意味著槽的十字線(xiàn)對(duì)正。
[0022] 滾花結(jié)構(gòu)3位于屏蔽的內(nèi)表面上的至少靠近觸頭件4,5的位置。
[0023] 此外，靠近觸頭件4和5的區(qū)域，例如，觸頭件利用桿6和7固定的區(qū)域，也能夠額 外地具有該滾花結(jié)構(gòu)，以便也有效吸收該區(qū)域中的能量。
[0024] 本文公開(kāi)的滾花表面結(jié)構(gòu)的替代是噴砂表面。因此該噴砂表面不僅可以被施加在 屏蔽的內(nèi)表面上，還可以施加在前述的其它區(qū)域中，類(lèi)似在滾花結(jié)構(gòu)實(shí)例中所描述的。
[0025] 位置編號(hào)
[0026] 1 屏蔽
[0027] 2真空斷續(xù)器
[0028] 3表面結(jié)構(gòu)（滾花，噴砂）
[0029] 4觸頭件
[0030] 5觸頭件
[0031] 6 桿
[0032] 7 桿
[0033] 8波紋管
【權(quán)利要求】
1. 屏蔽元件，用于具有真空斷續(xù)器的中壓開(kāi)關(guān)裝置中，該真空斷續(xù)器具有至少兩個(gè)觸 頭，該至少兩個(gè)觸頭沿閉合與斷開(kāi)觸頭位置之間的開(kāi)關(guān)路徑是可移動(dòng)的，其中屏蔽元件被 圍繞真空斷續(xù)器中的觸頭位置區(qū)域定位，其中至少該屏蔽的內(nèi)表面利用一構(gòu)形結(jié)構(gòu)實(shí)施， 該構(gòu)形結(jié)構(gòu)是粗糙的或結(jié)構(gòu)化的表面， 其特征在于， 所述實(shí)施的構(gòu)形結(jié)構(gòu)以這樣的方式來(lái)形成，即通過(guò)屏蔽體的給定恒定或近似恒定的 體積（Vi)，具有實(shí)施的表面結(jié)構(gòu)的經(jīng)處理的表面（S2)與不具有構(gòu)形結(jié)構(gòu)的未處理的表面 (S1)的表面比大于1，使得這遵循條件 VI ?V2,并且 S2/S1 > 1。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽元件， 其特征在于， 所述構(gòu)形表面結(jié)構(gòu)是采用噴砂粒處理的噴砂表面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽元件， 其特征在于， 所述構(gòu)形結(jié)構(gòu)由交叉布置的槽構(gòu)成，即所謂的滾花結(jié)構(gòu)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽元件， 其特征在于， 所述構(gòu)形結(jié)構(gòu)由機(jī)械加工實(shí)施。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求當(dāng)中的一項(xiàng)所述的屏蔽元件， 其特征在于， 每個(gè)觸頭安裝在桿上，并且靠近觸頭件的至少部分區(qū)域額外利用前述構(gòu)形表面結(jié)構(gòu)實(shí) 施，以便吸收來(lái)自光弧發(fā)生的能量。
【文檔編號(hào)】H01H33/662GK104126212SQ201380006880
【公開(kāi)日】2014年10月29日 申請(qǐng)日期:2013年1月24日 優(yōu)先權(quán)日:2012年1月26日
【發(fā)明者】D·根奇, 尚文凱 申請(qǐng)人:Abb技術(shù)股份公司