黃光室系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】在將涂敷裝置、曝光裝置、顯影裝置等一起配置在較大的黃光室內(nèi)的情況下，與方法變更相伴的布局的變更變得困難，并且配置面積等的效率化較為困難。本發(fā)明提供一種黃光室系統(tǒng)，該黃光室系統(tǒng)具有：多個(gè)可搬運(yùn)的單位處理裝置(50)，其具有規(guī)格化的相同的外形，且內(nèi)含用于遮擋向形成于工件上的感光材料照射的感光光線的黃光室；搬運(yùn)容器(11、12)，其本身形成為黃光室，并用于在單位處理裝置之間搬運(yùn)所述工件；以及遮光性的連結(jié)構(gòu)造，其形成在設(shè)于單位處理裝置(50)的前室(80)的上部的對(duì)接口(56)，用于連結(jié)單位處理裝置和搬運(yùn)裝置。
【專(zhuān)利說(shuō)明】黃光室系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件等的制造中的、用于遮擋使抗蝕劑感光的光的波長(zhǎng)的
黃光室系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)線在大規(guī)模的無(wú)塵室內(nèi)具有多個(gè)集中了同種功能的處理裝置而成的被稱(chēng)作隔室的單元，采用了利用搬運(yùn)機(jī)器人、傳送帶來(lái)連接該隔室之間的加工車(chē)間方式的布局成為主流。
[0003]另外，成為如下生產(chǎn)系統(tǒng):在利用這樣的生產(chǎn)線處理而成的工件上使用12英寸等的大口徑的晶圓，進(jìn)而由一片晶圓制造出數(shù)千個(gè)半導(dǎo)體晶片。
[0004]但是，在該加工車(chē)間方式中，在重復(fù)多個(gè)相似的處理工序的情況下，隔室內(nèi)的搬運(yùn)、隔室之間的搬運(yùn)距離大幅度變長(zhǎng)，并且待機(jī)時(shí)間也增加，因此成為制造時(shí)間增長(zhǎng)而導(dǎo)致半成品的增加等成本上升的重要因素，作為大量處理工件的生產(chǎn)線，產(chǎn)生有生產(chǎn)率較低成為問(wèn)題的情況。
[0005]因此，也提出了將半導(dǎo)體處理裝置按照處理工序順序配置的基于流水車(chē)間方式的生產(chǎn)線來(lái)取代以往的加工車(chē)間方式的生產(chǎn)線。
[0006]另一方面，基于這樣的流水車(chē)間方式的生產(chǎn)線最適用于大量地制造單一產(chǎn)品的情況，但是在因變更制造品而必須改變制造順序(方法)的情況下，需要按照工件的處理流程順序?qū)ιa(chǎn)線的各半導(dǎo)體處理裝置的配置進(jìn)行排序。然而，若考慮到用于再配置的功夫及時(shí)間，在每次變更產(chǎn)品時(shí)進(jìn)行這樣的排序是不現(xiàn)實(shí)的。特別是在巨大的半導(dǎo)體處理裝置被固定配置在無(wú)塵室這樣的封閉空間內(nèi)的現(xiàn)狀下，在現(xiàn)實(shí)中不可能每次都對(duì)該半導(dǎo)體處理裝置進(jìn)行再配置。
[0007]另外，由于在迄今為止的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)中，作為用于極小地控制制造成本的要素，最為重視同時(shí)生產(chǎn)率(單位時(shí)間內(nèi)的生產(chǎn)量)，因此優(yōu)先考慮工件尺寸(硅晶圓尺寸)的大口徑化、制造單位數(shù)(針對(duì)一個(gè)產(chǎn)品的數(shù)量級(jí)數(shù))的增大，從而指向了被稱(chēng)作晶圓大廠的巨大化的制造系統(tǒng)。
[0008]在這樣的巨大的制造系統(tǒng)中，工序數(shù)量超越了數(shù)百個(gè)，與此呈比例地隔室數(shù)量、裝置數(shù)量也大幅度增加。
[0009]因此，雖然生產(chǎn)線整體的生產(chǎn)率得到了提高，但是為了構(gòu)建這樣的晶圓大廠需要進(jìn)行數(shù)千億日元的設(shè)備投資，總投資額巨額化。
[0010]另外，伴隨著這樣的制造系統(tǒng)的巨大化，裝置控制復(fù)雜化，搬運(yùn)系統(tǒng)的搬運(yùn)時(shí)間、待機(jī)時(shí)間顯著增大，因此滯留于生產(chǎn)線內(nèi)的半成品晶圓數(shù)量也相應(yīng)地顯著增加。在此，由于所使用的大口徑的晶圓的單價(jià)非常高，因此，若半成品片數(shù)增加，則會(huì)導(dǎo)致成本上升。
[0011 ] 這樣一來(lái)，包含設(shè)備投資在內(nèi)的總計(jì)下的生產(chǎn)率反而轉(zhuǎn)向減少的方向。
[0012]因此，為了削減該巨大化的設(shè)備投資，利用局部無(wú)塵化生產(chǎn)方式等方法來(lái)壓縮無(wú)塵室的做法開(kāi)始被認(rèn)為是速效的方法。該局部無(wú)塵化對(duì)于減少工廠的環(huán)境控制成本也具有效果。
[0013]作為將該局部無(wú)塵化生產(chǎn)方式應(yīng)用于工廠的全部工序中的制造例，如非專(zhuān)利文獻(xiàn)I所述的那樣，能夠?qū)雽?dǎo)體集成電路制造的前工序列舉為唯一的例子。在該半導(dǎo)體集成電路制造的前工序中，作為制造物的晶圓在獨(dú)立的制造裝置之間以收納在容器內(nèi)的方式被搬運(yùn)。在各裝置中裝備有前室。前室的門(mén)為兩扇。一扇為裝置主體與前室之間的門(mén)，另一扇為前室與外界之間的門(mén)。通過(guò)以始終使任意一扇門(mén)關(guān)閉的方式進(jìn)行操作，能夠始終遮擋裝置主體的內(nèi)部和外界。晶圓容器連結(jié)于前室。在連結(jié)狀態(tài)下，具有以某種程度的性能從外界遮擋晶圓環(huán)境的性能，從而能夠在容器與制造裝置之間交換晶圓。
[0014]對(duì)于容器而言，為了確保搬運(yùn)的方便程度，要求輕便、小巧以及結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。為了實(shí)現(xiàn)該要求，需要研究打開(kāi)/關(guān)閉容器的方法，特別是打開(kāi)容器門(mén)時(shí)的門(mén)的收納方法。具體來(lái)說(shuō)，在與前室連結(jié)時(shí)，將容器的門(mén)收納在晶圓容器內(nèi)的方式需要門(mén)的收納空間，因此必須留意違反該要求的情況。由此，晶圓容器的門(mén)被收納在前室內(nèi)被認(rèn)為是妥當(dāng)?shù)倪B結(jié)構(gòu)造。HP社關(guān)于考慮到這一點(diǎn)的連結(jié)方法，取得了一個(gè)專(zhuān)利(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。
[0015]該專(zhuān)利的主要特征在于，具有3個(gè)子系統(tǒng):(I)前室、(2)晶圓搬運(yùn)容器、(3)前室內(nèi)的晶圓轉(zhuǎn)送機(jī)構(gòu)，并且“將兩扇門(mén)合為一體，并向清潔的內(nèi)部空間移動(dòng)”。將兩扇門(mén)合為一體的理由如下。兩扇門(mén)在與含有微顆粒的外界相接觸的外側(cè)的面上分別附著有微顆粒。通過(guò)將該兩扇門(mén)合為一體而將所述微顆粒封閉于兩門(mén)之間，并收納在前室內(nèi)部，從而能夠防止微顆粒向局部無(wú)塵環(huán)境擴(kuò)散。
[0016]如圖1的(a)所示，容器I由容器主體3和容器門(mén)4構(gòu)成，前室2由前室主體5和前室門(mén)6構(gòu)成，在(a)容器主體3-容器門(mén)4、(b)前室主體5-前室門(mén)6、(c)容器主體3-前室主體5這三個(gè)位置設(shè)有密封部。該專(zhuān)利的要點(diǎn)在于由該兩扇門(mén)進(jìn)行的門(mén)表面附著微顆粒的夾持捕捉，但是并未將被夾持的微顆粒從該部位排除。另外，對(duì)于微顆粒從夾持的門(mén)的端面灑落而污染晶圓的危險(xiǎn)沒(méi)有提出對(duì)策。而且，由于并未形成將前室與晶圓搬運(yùn)容器間的連結(jié)封閉化的構(gòu)造，因此不具有完全防止外部污染晶圓的物質(zhì)侵入前室內(nèi)和晶圓搬運(yùn)容器內(nèi)的功能。
[0017]接著,Asyst社將用于在該HP社的專(zhuān)利中附加封閉性的一個(gè)改進(jìn)機(jī)構(gòu)專(zhuān)利化(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)，并作為200mm晶圓的系統(tǒng)實(shí)用化。
[0018]該Asyst社的專(zhuān)利的特征在于,如圖1的(b)所示,連結(jié)部分由4個(gè)結(jié)構(gòu)物、即容器(box)、容器門(mén)(box door)、前室(port)以及前室門(mén)(port door)構(gòu)成,在這4個(gè)結(jié)構(gòu)彼此的接觸中的、(a)容器主體3-容器門(mén)4、(b)前室主體5-前室門(mén)6、(c)容器主體3-前室主體5、(d)容器門(mén)4-前室門(mén)6這4個(gè)結(jié)構(gòu)間施加用于封閉化的密封。
[0019]之后，由于該封閉方式并不完善，因此授權(quán)了對(duì)該Asyst社的專(zhuān)利的幾個(gè)改進(jìn)專(zhuān)利。但是，這樣的一系列的改進(jìn)專(zhuān)利自身產(chǎn)生了如下這樣的致使機(jī)構(gòu)復(fù)雜化的弊害。即，導(dǎo)致制造成本增大、重量增加、新的微顆粒產(chǎn)生源的產(chǎn)生、容器清洗的困難度增大等。即便使用這些改進(jìn)專(zhuān)利，不僅氣體遮擋無(wú)法達(dá)到實(shí)用等級(jí)，微顆粒遮擋也不完善。
[0020]之后，從2000年左右起，當(dāng)晶圓尺寸變?yōu)?00mm時(shí)，提出了區(qū)別于Asyst社的所述密封方式的其它方式，其作為300_晶圓搬運(yùn)系統(tǒng)而成為世界標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)方式被稱(chēng)作FIMS (Front-opening Interface Mechanical Standard:前開(kāi)口接口機(jī)械標(biāo)準(zhǔn))系統(tǒng)，為SEMI規(guī)格(主要為SEMI Std.E57,E47.1，E62，E63)，并且被專(zhuān)利化(專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。在FIMS中，采用與容器門(mén)的水平方向的開(kāi)口之間水平連結(jié)的方式。
[0021]這與Asyst系統(tǒng)中的垂直方向連結(jié)相對(duì)照。另外，由于在Asyst系統(tǒng)中垂直地連結(jié)，因此晶圓被收納在容器內(nèi)部的盒中。連結(jié)后合為一體的兩扇門(mén)在被儲(chǔ)存于內(nèi)部之后以盒為單位向前室內(nèi)移動(dòng)。與此相對(duì)地，在FMS中省略了盒，且在水平方向上合為一體的兩扇門(mén)向前室內(nèi)移動(dòng)，繼而在該門(mén)沿垂直方向下降之后，使用位于前室內(nèi)的晶圓轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人將容器內(nèi)的晶圓直接向前室內(nèi)取出。
[0022]另外，在該FIMS專(zhuān)利中，與Asyst專(zhuān)利不同，關(guān)于各結(jié)構(gòu)體的接觸部的密封結(jié)構(gòu)并無(wú)具體的結(jié)構(gòu)定義。實(shí)際上，在該實(shí)用FMS系統(tǒng)中，設(shè)為有目的地在各結(jié)構(gòu)體間設(shè)置了Imm?2mm左右的間隙的結(jié)構(gòu)。具體來(lái)說(shuō)，在容器-前室間、前室與前室門(mén)間設(shè)置間隙。
[0023]作為其中的一個(gè)理由，當(dāng)設(shè)置基于物理接觸的密封結(jié)構(gòu)時(shí)，在該密封部分產(chǎn)生有機(jī)械摩擦，該摩擦?xí)l(fā)大量的微顆粒的產(chǎn)生。但是，由于存在有這些間隙，因此產(chǎn)生有相對(duì)于氣體分子而無(wú)法在原理上具有封閉性的缺點(diǎn)。
[0024]需要說(shuō)明的是，在200mm晶圓用的Asyst系統(tǒng)中，出于如下兩個(gè)理由在容器設(shè)有與外界貫通的泄壓孔，即，為了減少在連結(jié)后的容器門(mén)與前室門(mén)的打開(kāi)/關(guān)閉時(shí)在局部環(huán)境內(nèi)所產(chǎn)生的壓力變動(dòng)和因該壓力變動(dòng)而產(chǎn)生的氣流所引發(fā)的微顆粒的產(chǎn)生的問(wèn)題、以及為了防止在封閉容器的情況下容器門(mén)處于負(fù)壓而難以打開(kāi)的情況。此類(lèi)做法實(shí)際上，成為尤其是對(duì)于氣體分子而言不具有遮擋性能的結(jié)構(gòu)。
[0025]基于對(duì)以上現(xiàn)有事例的理解，在對(duì)各部分實(shí)施密封的封閉型機(jī)構(gòu)中，能夠構(gòu)建即使是對(duì)氣體等的小分子也具有有效的內(nèi)外分離性能的局部無(wú)塵化生產(chǎn)系統(tǒng)，但是，反之，產(chǎn)生有因密封部的機(jī)械摩擦等所導(dǎo)致的大量的微顆粒的產(chǎn)生這樣的副作用。相反，當(dāng)采用具有間隙的結(jié)構(gòu)時(shí)，能夠抑制微顆粒的產(chǎn)生，但是無(wú)法針對(duì)氣體分子確保內(nèi)外的分離性能。這是SMIF方式所具有的作為自我矛盾的缺陷。其結(jié)果是，在實(shí)用系統(tǒng)中，存在有不得不形成封閉性不完善的結(jié)構(gòu)的問(wèn)題點(diǎn)。
[0026]實(shí)際上,在與最新的300mm晶圓相對(duì)應(yīng)的全部半導(dǎo)體集成電路制造工廠中，在作為世界標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)入的FIMS系統(tǒng)中，由于具有間隙，因此不僅是對(duì)于氣體分子，就連對(duì)于微顆粒也無(wú)法具有完全的遮擋性能。作為該弊害，原本在遮擋性能這點(diǎn)上若為完全的局部無(wú)塵化生產(chǎn)系統(tǒng)，則應(yīng)無(wú)需無(wú)塵室，但是在實(shí)際的全部工廠中，依然在無(wú)塵室中導(dǎo)入有FMIS系統(tǒng)。即，現(xiàn)狀是需要無(wú)塵室和局部無(wú)塵化的雙重?zé)o塵化。此種情況致使設(shè)備投資額增大，另外需要高度的管理，從而大幅地增加了制造成本。
[0027]這樣，通過(guò)導(dǎo)入局部無(wú)塵化系統(tǒng)來(lái)試行半導(dǎo)體制造的前工序中的小型化。
[0028]然而，該系統(tǒng)僅適用于作為用于極小地控制制造成本的要素而最為重視同時(shí)生產(chǎn)率(單位時(shí)間內(nèi)的生產(chǎn)量)的、迄今為止的延長(zhǎng)線上的制造系統(tǒng)。即，依舊如以所述FMS為代表的那樣，指向了優(yōu)先考慮工件尺寸(硅晶圓尺寸)的大口徑化、制造單位數(shù)(針對(duì)一個(gè)產(chǎn)品的數(shù)量級(jí)數(shù))的增大的、被稱(chēng)作晶圓大廠的巨大化的制造系統(tǒng)。
[0029]圖13表示基于這樣的晶圓大廠的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)中的尺寸效果。
[0030]在將晶圓尺寸設(shè)為12英寸的現(xiàn)狀下的最先進(jìn)的半導(dǎo)體工廠(晶圓大廠)的情況下，裝置數(shù)為300臺(tái)，停留在系統(tǒng)內(nèi)的半成品晶圓數(shù)為17000片，使用的掩模數(shù)為34片，地面面積為20000平米，設(shè)備投資額達(dá)到大致3000億日元。在該情況下，以Icm芯片進(jìn)行換算，月產(chǎn)性能為全年I億4千萬(wàn)個(gè)，但是晶圓運(yùn)轉(zhuǎn)率為不足I %，資源利用效率為不足0.1%。但是，將前提條件設(shè)為:將各工序中的所需時(shí)間(周期時(shí)間)設(shè)為I分/wafer，將工序數(shù)在金屬8層半導(dǎo)體的情況下設(shè)為500工序，將外觀設(shè)計(jì)規(guī)則設(shè)為90nm。
[0031]另一方面，也存在有制造如工程樣本、泛在傳感器用等制造單位數(shù)為數(shù)個(gè)~數(shù)百個(gè)這樣的超少量的半導(dǎo)體的需求。
[0032]若不是這樣的巨大的制造系統(tǒng)，則該超少量生產(chǎn)能夠在不怎么犧牲性價(jià)比的情況下進(jìn)行，但是由于在這樣的巨大的制造系統(tǒng)中為流水車(chē)間方式，因此使該超少量生產(chǎn)在生產(chǎn)線上流動(dòng)會(huì)導(dǎo)致性價(jià)比變得極差，因此與此同時(shí)不得不使其他品種在該生產(chǎn)線上流動(dòng)。
[0033]然而，當(dāng)像這樣同時(shí)投入多品種進(jìn)行混流生產(chǎn)時(shí)，生產(chǎn)線的生產(chǎn)率隨著品種數(shù)的增大而進(jìn)一步降低，因此，其結(jié)果導(dǎo)致在這樣的巨大的制造系統(tǒng)中無(wú)法恰當(dāng)?shù)貞?yīng)對(duì)超少量生產(chǎn)且多品種生產(chǎn)。
[0034]迄今為止，在采用流水車(chē)間方式、加工車(chē)間方式的器件制造系統(tǒng)中，針對(duì)各種方式下的運(yùn)轉(zhuǎn)率的降低提出了各種努力(專(zhuān)利文獻(xiàn)4或?qū)＠墨I(xiàn)5)。
[0035]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0036]專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0037]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:美國(guó)專(zhuān)利第4532970號(hào)說(shuō)明書(shū)
[0038]專(zhuān)利文獻(xiàn)2:美 國(guó)專(zhuān)利第4674939號(hào)說(shuō)明書(shū)
[0039]專(zhuān)利文獻(xiàn)3:美國(guó)專(zhuān)利第5772386號(hào)說(shuō)明書(shū)
[0040]專(zhuān)利文獻(xiàn)4:日本特開(kāi)2005-197500號(hào)公報(bào)
[0041]專(zhuān)利文獻(xiàn)5:日本特開(kāi)2008-227086號(hào)公報(bào)
[0042]非專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0043]非專(zhuān)利文獻(xiàn)I ?,局部無(wú)塵化的世界”(原史朗，工業(yè)調(diào)查會(huì)，ISBN4-7693-1260-1(2006))
[0044]發(fā)明的概要
[0045]發(fā)明要解決的課題
[0046]專(zhuān)利文獻(xiàn)4和專(zhuān)利文獻(xiàn)5所記載的發(fā)明用于實(shí)現(xiàn)流水車(chē)間方式、加工車(chē)間方式中的效率化，但是對(duì)于多品種的超少量生產(chǎn)和單品種的大量生產(chǎn)中的任一種，則無(wú)法充分地一邊對(duì)品質(zhì)進(jìn)行擔(dān)保一邊獲得良好的性價(jià)比。即，對(duì)于變種變量生產(chǎn)，無(wú)法充分靈活地應(yīng)對(duì)。
[0047]另外，在現(xiàn)有的巨大的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)中，各個(gè)制造裝置均巨大，在工廠內(nèi)無(wú)法容易地移動(dòng)。因此，裝置的移動(dòng)較為困難，且為了縮短制造物的搬運(yùn)路線而進(jìn)行配置變更幾乎是不可能的，另外，由于無(wú)法向裝置制造工廠返送，因此維護(hù)、修理只能在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，因此需要大金額的出差人事費(fèi)，另外，存在有需要較多的時(shí)間這樣的困難。該裝置的巨大化是造成巨大的裝置價(jià)格和制造物制造成本高騰的重要因素。
[0048]另外，在如上所述的半導(dǎo)體制造系統(tǒng)的前工序中，構(gòu)建有避免形成于半導(dǎo)體晶圓上的感光性抗蝕劑被感光性光線(UV光線)照射的黃光室系統(tǒng)。此時(shí)，由于通常僅抗蝕劑涂敷一曝光一顯影這3個(gè)工序需要遮擋感光性光線，因此在黃光室內(nèi)一并配置該3個(gè)工序是高效的。
[0049]然而，雖然僅將該3個(gè)工序放入黃光室的做法初看較為高效，但是產(chǎn)生有必須始終一并配置該3個(gè)工序的全部裝置這樣的制約。具體來(lái)說(shuō)，由于基于該制約而按照制造方法的順序來(lái)配置裝置，因此無(wú)法實(shí)現(xiàn)通過(guò)極小地控制搬運(yùn)距離而能夠?qū)崿F(xiàn)高速化并且能夠?qū)⑽廴緳C(jī)會(huì)極小化的流水車(chē)間方式下的裝置配置。涂敷一曝光一顯影本身是連續(xù)工序，但是若不將之前的清洗、膜堆積、該3個(gè)工序之后的蝕刻和抗蝕劑去除工序等放入黃光室，則必須針對(duì)該3個(gè)工序中的每一個(gè)設(shè)置黃光室，由于該3個(gè)工序需進(jìn)行30次?40次，因此黃光室需要30個(gè)?40個(gè)左右的房間。如此一來(lái)，需要非常無(wú)效率的制造施設(shè)。為了避免此種情況，僅將該3個(gè)工序集中于I處并作為一個(gè)黃光室。其結(jié)果是，無(wú)法實(shí)現(xiàn)高效的流水車(chē)間。
[0050]另外，一并配置3個(gè)工序的黃光室的缺點(diǎn)在于:需要建設(shè)并準(zhǔn)備遮擋感光光線的房間的成本，由于房間是獨(dú)立的，因此增長(zhǎng)了工廠內(nèi)的搬運(yùn)距離。進(jìn)而，對(duì)于操作者而言，也無(wú)法創(chuàng)造舒適的工作環(huán)境。由于現(xiàn)在被實(shí)用化了的面向微小加工的制造裝置以配置于黃光室內(nèi)作為前提，因此形成為完全不考慮光的遮擋的結(jié)構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0051]本發(fā)明就是鑒于所述實(shí)際情況而做成的，其目的在于提供一種也能夠與所述局部無(wú)塵化生產(chǎn)系統(tǒng)相同地、靈活地應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體等的器件制造的前工序中的、變種變量生產(chǎn)的局部黃光室生產(chǎn)系統(tǒng)。
[0052]進(jìn)而，提供一種能夠大幅度削減裝置價(jià)格、制造物制造成本、或維護(hù)成本的局部黃光室生產(chǎn)系統(tǒng)。
[0053]特別是提供一種作為連結(jié)系統(tǒng)的局部黃光室生產(chǎn)系統(tǒng)，其無(wú)需將所述3個(gè)工序中的裝置集中于一處，通過(guò)在所述3個(gè)工序間的工件的搬運(yùn)中完全遮擋使工件上的感光性抗蝕劑感光的光線，并且具有物理上的空間遮擋構(gòu)造，從而能夠遮擋氣體分子，而且能夠排除微顆粒的產(chǎn)生。
[0054]用于解決課題的手段
[0055]本發(fā)明為了解決所述課題，提供一種黃光室系統(tǒng)，該黃光室系統(tǒng)具有:多個(gè)可搬運(yùn)的單位處理裝置，其具有規(guī)格化的相同的外形，且內(nèi)含用于遮擋向形成于工件上的感光材料上照射的感光光線的黃光室；搬運(yùn)容器，其本身形成為黃光室，并用于在所述單位處理裝置之間搬運(yùn)所述工件；以及遮光性的連結(jié)構(gòu)造，其連結(jié)所述單位處理裝置和所述搬運(yùn)裝置。
[0056]進(jìn)而，本發(fā)明設(shè)為如下黃光室系統(tǒng):
[0057]所述搬運(yùn)容器具有:搬運(yùn)容器主體，其形成所述工件的收納空間；搬運(yùn)容器門(mén)，其遮擋所述收納空間；以及第一密封構(gòu)造，其通過(guò)緊密連結(jié)所述搬運(yùn)容器主體和所述搬運(yùn)容器門(mén)而能夠封閉所述收納空間，并且所述搬運(yùn)容器主體、所述搬運(yùn)容器門(mén)以及所述第一密封構(gòu)造中的任一者均由遮擋向形成于所述工件上的感光材料照射的感光光線的構(gòu)件形成，
[0058]所述單位處理裝置均具有:前室，其與所述搬運(yùn)容器相連結(jié)；以及處理室，其與所述前室相連結(jié)，
[0059]所述前室具有:前室主體，其由遮擋所述感光光線的構(gòu)件形成；開(kāi)口部，其設(shè)于所述前室主體并向所述處理室開(kāi)口 ；以及前室門(mén)，其用于遮擋所述感光光線照射至所述前室主體，并且所述前室具有第二密封構(gòu)造，該第二密封構(gòu)造通過(guò)緊密連結(jié)所述前室門(mén)與所述前室主體而能夠封閉所述前室，并且能夠遮擋所述感光光線，
[0060]所述搬運(yùn)容器和所述前室具有通過(guò)緊密連結(jié)兩者而形成的、能夠封閉且能夠遮擋所述感光光線的第三密封構(gòu)造，所述搬運(yùn)容器和所述前室具有如下構(gòu)造:僅在所述搬運(yùn)容器和所述前室緊密連結(jié)時(shí)形成被所述第三密封構(gòu)造封閉化的一個(gè)未分割的連結(jié)室，且所述搬運(yùn)容器門(mén)從搬運(yùn)容器分離。
[0061]進(jìn)而，也可以構(gòu)成為在所述單位處理室內(nèi)的至少包含工件的處理位置在內(nèi)的作業(yè)區(qū)域和從所述作業(yè)區(qū)域至所述搬運(yùn)容器門(mén)的開(kāi)門(mén)位置為止的所述工件的搬運(yùn)區(qū)域內(nèi)遮擋所述感光光線。
[0062]另外，也可以構(gòu)成為具有如下構(gòu)造:通過(guò)利用所述前室門(mén)的磁鐵的磁力將所述搬運(yùn)容器門(mén)吸附于所述前室門(mén)而打開(kāi)所述搬運(yùn)容器門(mén)。
[0063]另外，也可以構(gòu)成為通過(guò)在所述搬運(yùn)容器門(mén)的被磁化的物體和所述搬運(yùn)容器主體的磁性體之間設(shè)置間隙，并且也在所述搬運(yùn)容器門(mén)的磁性體和所述前室門(mén)的磁鐵間設(shè)置間隙而打開(kāi)/關(guān)閉搬運(yùn)容器門(mén)。
[0064]另外，所述單位處理裝置是用于處理器件制造工序內(nèi)的單一處理工序的封閉型的處理裝置，該單位處理裝置是可搬運(yùn)的，所述搬運(yùn)容器是用于收納I片作為工件對(duì)象的晶圓的封閉型的搬運(yùn)容器，收納在所述封閉搬運(yùn)容器內(nèi)的所述晶圓為制作極小單位的器件的晶圓尺寸。
[0065]另外，也可以構(gòu)成為將所述極小單位設(shè)為一個(gè)，將所述晶圓尺寸設(shè)為直徑0.5英寸。
[0066]進(jìn)而，也可以構(gòu)成為，所述單位處理裝置構(gòu)成為向工件上涂敷感光材料的涂敷裝置，所述涂敷裝置具有:封閉型的容器主體，其用于收納所述感光材料并遮擋所述感光光線；供給構(gòu)件，其用于將所述感光材料向工件上供給；以及插件連接器，其可裝卸地連結(jié)所述容器主體和所述供給構(gòu)件，所述插件連接器是遮擋所述感光光線的構(gòu)造，具有在被連結(jié)的情況下成為打開(kāi)狀態(tài)的閥。
[0067]在此，“單位處理裝置”是指對(duì)能夠收納在一個(gè)可搬性的容器容量?jī)?nèi)的工序單位、例如涂敷、曝光、顯影、離子注入等工序中的一個(gè)進(jìn)行處理的裝置，除表示以往的器件處理工序中的一個(gè)處理工序之外，只要能夠收納在該容器容量?jī)?nèi)，也包括含有多個(gè)以往的處理工序的工序(例如，除了所述工序，在相同的處理裝置內(nèi)還包含有水洗、干燥處理的工序)、或?qū)⒁酝ㄟ^(guò)一個(gè)處理工序進(jìn)行的處理分割為多個(gè)的工序。
[0068]另外，“內(nèi)含黃光室”是指將單位處理裝置本身形成為遮擋感光光線的黃光室、或在單位處理裝置內(nèi)設(shè)置遮擋感光光線的處理空間。
[0069]進(jìn)而，“前室”是指與處理工件的處理室相連結(jié)的空間，但是在無(wú)需與處理室之間在空間上進(jìn)行劃分時(shí)，也可以是處理室本身。
[0070]發(fā)明效果
[0071]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種黃光室系統(tǒng)，其能夠靈活地應(yīng)對(duì)變種變量生產(chǎn)，并且能夠大幅度削減裝置價(jià)格、制造物制造成本以及維護(hù)成本。另外，由于作業(yè)者無(wú)需存在于黃光室內(nèi)，因此也能夠改善工作環(huán)境。
[0072]更加具體來(lái)說(shuō)，能夠提供一種黃光室系統(tǒng)，由于將容器內(nèi)部、由3個(gè)密封構(gòu)成的空間以及前室內(nèi)部各自的氣壓設(shè)為相同程度，因此無(wú)需將容器內(nèi)部設(shè)為與外部空氣相同的氣壓，從而在打開(kāi)/關(guān)閉時(shí)能夠防止塵、埃、顆粒等侵入前室內(nèi)部。并且，由于利用磁力來(lái)進(jìn)行容器門(mén)和前室門(mén)的裝卸，因此無(wú)需裝卸過(guò)程中的滑動(dòng)部，從而也不會(huì)產(chǎn)生微顆粒。能夠提供一種黃光室系統(tǒng)，其在形成磁的閉回路的情況下，磁不會(huì)向外部泄漏，而且能夠可靠地避免感光光線照射到工件上的感光性抗蝕劑。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0073]圖1的(a)、(b)是以往的搬運(yùn)容器與裝置的前室間的連接的示意圖，圖1的(C)是本發(fā)明的搬運(yùn)容器與裝置間的連結(jié)系統(tǒng)的示意圖。
[0074]圖2是形成本發(fā)明的搬運(yùn)容器與裝置間的連結(jié)系統(tǒng)的工序。
[0075]圖3是形成本發(fā)明的搬運(yùn)容器與裝置間的連結(jié)系統(tǒng)的工序。
[0076]圖4是形成本發(fā)明的搬運(yùn)容器與裝置間的連結(jié)系統(tǒng)的工序。
[0077]圖5是用于通過(guò)形成磁力的閉回路來(lái)打開(kāi)/關(guān)閉搬運(yùn)容器門(mén)的裝置。
[0078]圖6是在圖5所述的裝置中在搬運(yùn)容器側(cè)形成有磁力的閉回路的狀態(tài)的示意圖。
[0079]圖7是在圖5所述的裝置中以跨越搬運(yùn)容器門(mén)與裝置的方式形成有磁力的閉回路的狀態(tài)的示意圖。
[0080]圖8是本發(fā)明的搬運(yùn)容器門(mén)立體圖。
[0081]圖9是本發(fā)明的搬運(yùn)容器內(nèi)側(cè)立體圖。
[0082]圖10是本發(fā)明的單一處理裝置的立體圖。
[0083]圖11是將作為本發(fā)明的單一處理裝置的曝光裝置的一部分設(shè)為剖視圖的側(cè)視圖。
[0084]圖12是圖11的主視圖。
[0085]圖13是說(shuō)明半導(dǎo)體系統(tǒng)的尺寸效果的表。
【具體實(shí)施方式】
[0086]在本發(fā)明中，將搬運(yùn)容器以及單一處理裝置中的任一者構(gòu)成為避免感光光線照射到形成于工件上的感光材料、例如形成于晶圓上的感光性抗蝕劑的黃光室系統(tǒng)。
[0087]另外，將搬運(yùn)容器與該單一處理裝置中的前室氣密地連結(jié)，為了使內(nèi)容物在它們之間移動(dòng)而僅需設(shè)置兩扇必要的門(mén)。一扇是容器的門(mén)，另一扇是前室主體的門(mén)。所述兩扇門(mén)具有在僅氣密地連結(jié)搬運(yùn)容器與前室時(shí)能夠形成連結(jié)室的形狀。原本該連結(jié)室的內(nèi)表面是兩扇門(mén)的外表面，因此為有可能因暴露于外部空間而被污染的表面。因而，在形成連結(jié)室且具備連結(jié)室內(nèi)部的清潔化機(jī)構(gòu)的情況下，能夠進(jìn)一步確保清潔性，能夠?qū)崿F(xiàn)由搬運(yùn)容器內(nèi)部、前室內(nèi)部以及連結(jié)室構(gòu)成的內(nèi)部空間與外部之間的分離。
[0088]在本發(fā)明中，由于無(wú)需在空間上被固定化的前室，因此無(wú)需設(shè)置在前室與處理室之間設(shè)置的門(mén)，從而不僅能夠因該門(mén)的份額而將所需的門(mén)的數(shù)量減少一個(gè)，與此同時(shí)，也解決了以往的局部無(wú)塵化生產(chǎn)系統(tǒng)的不完善的內(nèi)外遮擋性能。在本發(fā)明中，在連結(jié)前室與搬運(yùn)容器時(shí)，形成從外部被封閉遮擋的連結(jié)室。為此，設(shè)置以下這3個(gè)密封結(jié)構(gòu)。
[0089]首先，搬運(yùn)容器由避免感光光線照射到形成于內(nèi)在的工件上的感光性抗蝕劑等感光材料的構(gòu)件構(gòu)成。也可以構(gòu)成為在搬運(yùn)容器的表面形成遮擋感光光線的遮擋膜。
[0090]而且，具有因搬運(yùn)容器主體與搬運(yùn)容器門(mén)間的緊密連結(jié)而能夠封閉的第一密封構(gòu)造(密封I)。作為緊密連結(jié)所使用的機(jī)構(gòu)，能夠采用插銷(xiāo)等公知的部件。
[0091]接著，前室構(gòu)成為避免感光光線照射到感光性抗蝕劑。然后，具有因前室主體與前室門(mén)間的緊密連結(jié)而能夠封閉的第二密封構(gòu)造(密封2)。最后，搬運(yùn)容器主體與前室主體具有因兩者的封閉連結(jié)而能夠封閉的第三密封構(gòu)造(密封3)。由于在連結(jié)搬運(yùn)容器與前室時(shí)，除了最初的兩個(gè)密封，還成立有第三個(gè)密封，因此利用這3個(gè)密封形成有未分割的一個(gè)封閉化的連結(jié)室。
[0092]所述第一?第三密封構(gòu)造(即，密封I?密封3)中的任一者皆由遮擋感光光線的構(gòu)件構(gòu)成。
[0093]在此，所述密封結(jié)構(gòu)能夠采用O型環(huán)、墊圈等公知的密封部件。
[0094]由于連結(jié)時(shí)所產(chǎn)生的連結(jié)室構(gòu)成封閉的室，因此能夠控制該連結(jié)室的壓力、微顆粒濃度、氣體濃度等環(huán)境。為了控制環(huán)境，在連結(jié)室裝備有以氣體的輸入/輸出或壓力控制為目的的輸入口和輸出口。在該結(jié)構(gòu)中，將容器門(mén)與前室門(mén)合為一體，無(wú)需捕捉并收納微顆粒。
[0095]在該結(jié)構(gòu)中，由于能夠獲得相對(duì)于微顆粒和氣體分子這兩者而將外界與制造物空間彼此完全遮擋的功能，因此將該結(jié)構(gòu)稱(chēng)為清潔氣密連結(jié)(Particle-Lock AirtightDocking,簡(jiǎn)稱(chēng) PLAD)結(jié)構(gòu)。
[0096]用于形成在前室與搬運(yùn)容器合為一體時(shí)所形成的連結(jié)室的壁由搬運(yùn)容器主體、搬運(yùn)容器門(mén)、前室主體、裝置門(mén)各自的一部分構(gòu)成。在前室與搬運(yùn)容器未合為一體的狀態(tài)下，成為其內(nèi)部壁的部分的表面與外部空間相接觸，從而因附著有外部空間的污染物質(zhì)、氣體分子而被污染。
[0097]向所述外部空間暴露的表面在合為一體時(shí)形成連結(jié)室的內(nèi)部壁，也依然被污染。附著于該連結(jié)室內(nèi)部壁的污染能夠通過(guò)從設(shè)于連結(jié)室的清潔氣體噴入用口噴出清潔氣體而利用該氣體的風(fēng)力使附著于壁的微顆粒從表面脫離，并從排氣用口排出。
[0098]另外，通過(guò)導(dǎo)入清潔氣體，化學(xué)性地吸附于表面的氣體分子也能夠通過(guò)與清潔氣體進(jìn)行置換而從表面脫離。
[0099]重要的是，由于無(wú)法通過(guò)導(dǎo)入清潔氣體而排除的固定物質(zhì)、以較強(qiáng)的結(jié)合力殘留于表面的分子類(lèi)與搬運(yùn)容器和裝置一體化，因此在打開(kāi)搬運(yùn)容器門(mén)和前室門(mén)之后也不會(huì)從表面脫離，因此能夠忽略。
[0100]進(jìn)而，通過(guò)在合為一體時(shí)使搬運(yùn)容器與前室物理性接觸，也能夠利用摩擦等在打開(kāi)兩扇門(mén)之前通過(guò)導(dǎo)入清潔氣體而將產(chǎn)生的微顆粒和氣體分子從連結(jié)室排除。這樣，因形成密封3而產(chǎn)生的連結(jié)室內(nèi)的污染能夠利用本方法來(lái)排除。
[0101]另外，若將連結(jié)室內(nèi)的環(huán)境控制為與前室內(nèi)部的環(huán)境相同的環(huán)境，則在打開(kāi)搬運(yùn)裝置門(mén)和前室門(mén)的前后，前室內(nèi)的環(huán)境的組成不會(huì)發(fā)生變化。
[0102]在利用清潔氣體對(duì)連結(jié)室進(jìn)行了清潔之后，開(kāi)放密封I和密封2，即，朝向裝置內(nèi)部打開(kāi)搬運(yùn)容器門(mén)和前室門(mén)，從而使搬運(yùn)容器與前室內(nèi)的空間一體化，使物體能夠在兩者之間搬運(yùn)。此時(shí)，當(dāng)物理性分離密封I和密封2的密封時(shí)，存在有所述密封部、兩扇門(mén)分別從與搬運(yùn)容器、前室的構(gòu)件相對(duì)的部位稍微產(chǎn)生有微顆粒、氣體分子的可能性。
[0103]若所述產(chǎn)生的污染物侵入到搬運(yùn)容器內(nèi)和前室內(nèi)，則成為污染搬運(yùn)的物體的原因。因而，需要設(shè)法使因該密封部而產(chǎn)生的污染物向連結(jié)室側(cè)移動(dòng)。通過(guò)將連結(jié)室的氣壓設(shè)定為比搬運(yùn)容器內(nèi)部以及前室內(nèi)部這兩者的氣壓低而能夠進(jìn)行污染物質(zhì)向連結(jié)室內(nèi)的移動(dòng)。該理由在于，物質(zhì)向氣壓較低的一者流動(dòng)。被吸引至連結(jié)室的污染物質(zhì)從排氣孔向外部排出。通過(guò)使容器內(nèi)部成為氣密并且設(shè)置連結(jié)室，從而能夠第一次利用這樣的連結(jié)部分來(lái)排除產(chǎn)生的污染物質(zhì)。
[0104]但是，在連結(jié)室的氣壓相對(duì)于搬運(yùn)容器內(nèi)部或者前室內(nèi)部的氣壓具有某種程度的氣壓差的情況下，存在有因抵抗該壓力差而難以打開(kāi)搬運(yùn)容器門(mén)、前室門(mén)的可能性。
[0105]如根據(jù)以上的結(jié)構(gòu)和操作所明確的那樣，暫時(shí)形成的連結(jié)室能夠進(jìn)行真空排氣。因而，在前室主體、搬運(yùn)容器內(nèi)部為真空壓力的情況下，也能夠通過(guò)使連結(jié)室成為真空而在門(mén)的兩側(cè)幾乎不存在壓力差的狀態(tài)下打開(kāi)門(mén)。
[0106]通常，在真空裝置中，為了避免在真空裝置主體的真空恢復(fù)為大氣時(shí)由此產(chǎn)生的污染，真空裝置主體始終保持為真空的情況較多。因此，通常在真空裝置內(nèi)設(shè)置室。該室用于使大氣與真空交替。因此，存在有將該室稱(chēng)作air-lock室的情況。在本發(fā)明中，由于連結(jié)室發(fā)揮了該air-lock的作用，即將大氣與真空交替，因此不需要以往類(lèi)型的被固定的室。通常，由于該室本身具有門(mén)、搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，因此該室的容積較大。因此，對(duì)該室進(jìn)行排氣也需要相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間。另一方面，在本發(fā)明中，由于連結(jié)室能夠由容器與前室合為一體時(shí)所獲得的微小的空間來(lái)形成，因此對(duì)于連結(jié)室自身的連結(jié)時(shí)的清潔化而言無(wú)需花費(fèi)多少時(shí)間，所需的裝置也為小規(guī)模的裝置。
[0107]在因微顆粒對(duì)制造物造成的污染成為問(wèn)題的情況下，尤其需要連結(jié)室的清潔化操作。另一方面，在微顆粒污染不存在問(wèn)題而氣體分子污染成為問(wèn)題的情況下，若該污染的影響并不大，則存在有能夠省略連結(jié)室的氣體導(dǎo)入和氣體排氣口的可能性。由于連結(jié)室的容積與以往的前室相比是極小的，因此其內(nèi)部的污染物質(zhì)的絕對(duì)量也較少，若將該污染物質(zhì)擴(kuò)散于搬運(yùn)容器和制造裝置的容積內(nèi)并進(jìn)行稀薄化，則降低至例如小數(shù)點(diǎn)后4位以上濃度。在該稀薄污染濃度下不存在問(wèn)題的用途中，無(wú)需進(jìn)行用于連結(jié)室的清潔化的真空化、或?yàn)榱藢?dǎo)入清潔氣體而設(shè)置口等。
[0108]接著，描述搬運(yùn)容器的打開(kāi)/關(guān)閉方法。
[0109]搬運(yùn)容器門(mén)具有在與前室合為一體之后向前室內(nèi)部打開(kāi)的結(jié)構(gòu)。假設(shè)在容器門(mén)在與前室合為一體之前向容器外打開(kāi)的方法中，為了使容器內(nèi)部不暴露于外部，還需要另一個(gè)門(mén)，因此在節(jié)省空間與機(jī)構(gòu)的效率的方面是不利的。在搬運(yùn)容器的門(mén)被收納在容器的內(nèi)部的方法中，當(dāng)向進(jìn)深方向?qū)氚徇\(yùn)容器的門(mén)時(shí)，搬運(yùn)容器的門(mén)的移動(dòng)所使用的容積相應(yīng)地增大，從而導(dǎo)致搬運(yùn)的容器大型化，是不理想的。因而，搬運(yùn)容器的門(mén)被收納在前室內(nèi)部。
[0110]在搬運(yùn)容器的門(mén)的內(nèi)部收納結(jié)構(gòu)中，有可能采用在門(mén)上安裝鉸鏈來(lái)進(jìn)行打開(kāi)/關(guān)閉的、住所用門(mén)所采用的方式。但是，由于從鉸鏈的滑動(dòng)部產(chǎn)生有大量的微顆粒，因此并非恰當(dāng)?shù)姆椒?。在本發(fā)明中，搬運(yùn)容器門(mén)以分離的方式收納于前室主體。封閉搬運(yùn)容器門(mén)和搬運(yùn)容器主體的密封I位于搬運(yùn)容器門(mén)與搬運(yùn)容器主體之間。當(dāng)搬運(yùn)容器門(mén)被垂直收納在前室主體并移動(dòng)時(shí)，相對(duì)于密封不存在橫向偏移，因此門(mén)與主體的摩擦被保持為最小限度。
[0111]容器門(mén)利用前室門(mén)所具備的門(mén)的鉤機(jī)構(gòu)等來(lái)進(jìn)行打開(kāi)/關(guān)閉。在本發(fā)明中，作為抑制微顆粒、氣體分子的產(chǎn)生的機(jī)構(gòu)，使用了磁鉤機(jī)構(gòu)。在具有很多通常所使用的滑動(dòng)部分的機(jī)械式的鍵機(jī)構(gòu)中，因打開(kāi)/關(guān)閉時(shí)所產(chǎn)生的滑動(dòng)而產(chǎn)生有大量的微顆粒。因而，不應(yīng)在要求高度的清潔化的情況下使用。由于使用磁的開(kāi)關(guān)機(jī)構(gòu)不伴隨這樣的機(jī)械式的動(dòng)作，不會(huì)產(chǎn)生滑動(dòng)，因此微顆粒的產(chǎn)生量極少，適用于高度的清潔化。
[0112]在本發(fā)明中，在搬運(yùn)容器主體和搬運(yùn)容器門(mén)設(shè)置磁性體(至少一者為磁鐵)，利用該磁性體間的引力來(lái)關(guān)閉搬運(yùn)容器門(mén)和搬運(yùn)容器。另外，通過(guò)在前室門(mén)組裝磁鐵并利用該磁力將搬運(yùn)容器門(mén)向前室門(mén)吸引而打開(kāi)搬運(yùn)容器門(mén)。此時(shí)，為了調(diào)整作用的磁力，也需要根據(jù)情況而使電磁鐵、磁性體等呈非緊貼狀態(tài)。
[0113]本發(fā)明這樣的磁開(kāi)關(guān)機(jī)構(gòu)與機(jī)械開(kāi)關(guān)機(jī)構(gòu)相比，在清潔化這點(diǎn)上是優(yōu)秀的，但是磁開(kāi)關(guān)機(jī)構(gòu)作為實(shí)際的搬運(yùn)容器的開(kāi)關(guān)機(jī)構(gòu)具有不足之處。其理由之一在于，磁力較大地取決于磁性體間的距離，吸引力為Imm以下則迅速變強(qiáng)，相反，為Imm以上的距離則迅速變?nèi)?，因此?duì)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)要求較高的精度。特別是在使磁性體彼此相接觸的情況下，若以微米比例尺觀察，則磁性體表面具有凹凸，若精度也未達(dá)到微米級(jí)，則磁吸引力無(wú)法成為預(yù)計(jì)的數(shù)值。另外，在如搬運(yùn)容器那樣具有很多相同的容器的情況下，由于各個(gè)容器的尺寸稍微不同，因此存在有各個(gè)容器的磁吸引力不同的可能性。
[0114]為了避免以上問(wèn)題，在本發(fā)明中，能夠采用能夠控制磁性體間的距離的結(jié)構(gòu)。由于兩個(gè)磁性體相接觸的微米比例尺的距離下的吸引力的變化較為激烈，因此在實(shí)際使用中避免使用這樣的接近距離。若以預(yù)先分離數(shù)十微米左右的距離的方式進(jìn)行設(shè)計(jì)，則ΙΟμπι的精度誤差下的吸引力之差變得較小。進(jìn)而，為了彌補(bǔ)該變小的吸引力之差，以原本吸引力變?nèi)鯐r(shí)所預(yù)想的磁力為基準(zhǔn)來(lái)確定裝置側(cè)的釋放機(jī)構(gòu)的磁力。
[0115][搬運(yùn)容器]
[0116]本發(fā)明中的搬運(yùn)容器是用于搬運(yùn)因直接與外部空氣接觸而產(chǎn)生污染、反應(yīng)等任意妨礙的物體(工件)的封閉容器，并且構(gòu)成為避免感光光線照射到形成于該物體上的感光性材料。作為該“物體”，用于半導(dǎo)體用基板、傳感器用基板等各種用途，現(xiàn)在，在無(wú)塵室、手套箱等裝置內(nèi)所使用的工件廣泛地成為對(duì)象。
[0117]能夠與這樣的被搬運(yùn)的物體的特性相對(duì)應(yīng)地選擇搬運(yùn)容器的主體和門(mén)的材料、特性，例如優(yōu)選使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙酯、石英、玻璃等防潮性以及尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異的材料。為了如所述那樣利用磁力進(jìn)行搬運(yùn)容器門(mén)的打開(kāi)/關(guān)閉，至少將磁性體以及磁鐵配置在用于封閉由所述材料所制成的搬運(yùn)容器主體與門(mén)的位置處。
[0118]另外，為了賦予搬運(yùn)容器遮光性，將所述材料選擇為遮擋感光光線的材料、或在所述材料的表面設(shè)置遮擋感光光線的遮擋層。
[0119]當(dāng)然，搬運(yùn)容器的大小取決于被搬運(yùn)的物體的大小，另外，也能夠設(shè)置用于將多個(gè)物體收納在I個(gè)搬運(yùn)容器內(nèi)的多個(gè)室。例如，能夠分別在I個(gè)搬運(yùn)容器的正面和背面各設(shè)置I個(gè)門(mén)，并在其內(nèi)部設(shè)置獨(dú)立的室、將多個(gè)門(mén)以相互鄰接的方式設(shè)于圓盤(pán)狀的搬運(yùn)容器的表面，并設(shè)置與各門(mén)相對(duì)應(yīng)的室等。
[0120]從利用性來(lái)說(shuō)，優(yōu)選具備用于在搬運(yùn)容器進(jìn)行搬運(yùn)的中途等的搬運(yùn)容器單獨(dú)作為容器來(lái)使用時(shí)鎖定門(mén)而使得門(mén)不會(huì)在無(wú)意中打開(kāi)的機(jī)構(gòu)，還設(shè)置在緊密連結(jié)搬運(yùn)容器與前室時(shí)自動(dòng)解除該鎖定的機(jī)構(gòu)。
[0121]由于當(dāng)無(wú)意移動(dòng)了收納在搬運(yùn)容器內(nèi)的物體時(shí)，打開(kāi)搬運(yùn)容器的門(mén)而向前室內(nèi)導(dǎo)入較為困難、收納的物體自身發(fā)生破損的可能性增大，因此在搬運(yùn)容器內(nèi)，需要設(shè)置用于固定被收納的物體的按壓構(gòu)件等任意的部件。
[0122][搬運(yùn)容器與前室的接口]
[0123]搬運(yùn)容器的門(mén)側(cè)的面連接于前室門(mén)，但是，在此，搬運(yùn)容器的門(mén)需要以相對(duì)于前室門(mén)無(wú)偏移的方式高精度地進(jìn)行定位。這一點(diǎn)即使是在以手將搬運(yùn)容器連接于前室門(mén)的情況下、或以搬運(yùn)裝置進(jìn)行連接的情況下均相同。
[0124]并且，若在搬運(yùn)容器與前室門(mén)之間存在摩擦的部分，則會(huì)從該部分產(chǎn)生顆粒，之后，很有可能污染前室內(nèi)、污染搬運(yùn)容器內(nèi)的物品。因此，需要在搬運(yùn)容器的門(mén)側(cè)具有特定的結(jié)構(gòu)。
[0125]首先，搬運(yùn)容器的門(mén)設(shè)置為埋入搬運(yùn)容器主體。然后，在搬運(yùn)容器主體的門(mén)側(cè)的面的周邊部設(shè)有直到搬運(yùn)容器側(cè)面為止的傾斜部。該傾斜部設(shè)于前室主體的口的周緣部，使得與朝向口中心部設(shè)置的傾斜部一致。
[0126]進(jìn)而，在搬運(yùn)容器的門(mén)的周?chē)陌徇\(yùn)容器主體部設(shè)有多個(gè)突起部，該突起部與設(shè)于前室主體的口的凹部嵌合。
[0127]進(jìn)而，在搬運(yùn)容器的門(mén)的外表面設(shè)有3個(gè)前端來(lái)作為半球狀的突起，與該突起相對(duì)應(yīng)地在前室門(mén)表面呈放射狀地設(shè)有3個(gè)V字狀的槽。
[0128]使用這樣構(gòu)造的搬運(yùn)容器主體、搬運(yùn)容器門(mén)、前室主體以及前室門(mén)，如下所述地將搬運(yùn)容器高精度地連接于前室門(mén)。
[0129]首先，向前室主體靠近過(guò)來(lái)的搬運(yùn)容器以使設(shè)于所述搬運(yùn)容器主體的門(mén)側(cè)的面的周邊部的傾斜部對(duì)準(zhǔn)設(shè)于前室主體的口的周邊部的傾斜部的方式開(kāi)始插入。直到插入中途為止，搬運(yùn)容器在相對(duì)于前室主體稍微具有余隙的程度下被定位。
[0130]接著，設(shè)于所述搬運(yùn)容器的門(mén)的周?chē)陌徇\(yùn)容器主體部的多個(gè)突起部與設(shè)于相對(duì)應(yīng)的該前室主體口的凹部嵌合。此時(shí)，所述少量余隙被相當(dāng)程度地減少，在一定程度上抑制了搬運(yùn)容器相對(duì)于垂直軸的旋轉(zhuǎn)。
[0131]在該狀態(tài)下，若搬運(yùn)容器主體進(jìn)一步接近前室門(mén)，則設(shè)于搬運(yùn)容器的門(mén)的3個(gè)前端呈半球狀的突起進(jìn)入設(shè)于前室主體的門(mén)的所述3個(gè)V字槽內(nèi)。此時(shí)，構(gòu)成一個(gè)V字槽的相對(duì)的兩個(gè)斜面分別與該半球狀的突起相接觸，該半球狀的突起在兩個(gè)位置分別與該相對(duì)的兩個(gè)斜面相接觸。
[0132]其結(jié)果是，搬運(yùn)容器在相對(duì)于垂直軸的旋轉(zhuǎn)方向上的抖動(dòng)消失，并且在水平方向上的抖動(dòng)也因放射狀的3個(gè)V字槽而消除。
[0133]采用這樣的機(jī)構(gòu)，搬運(yùn)容器以只能相對(duì)于裝置主體在垂直方向上移動(dòng)的方式被固定。
[0134]以下，基于附圖來(lái)說(shuō)明實(shí)施方式例。在本發(fā)明中，搬運(yùn)容器和單一處理裝置均被構(gòu)成為避免感光光線照射到形成于物體(工件)上的感光材料、例如形成于晶圓上的感光性抗蝕劑。
[0135]圖10?圖12是本發(fā)明的單一處理裝置整體的說(shuō)明圖。如圖所示，單一處理裝置50由下部處理裝置51、上部處理裝置52以及可分離地連接這些裝置的連接部60構(gòu)成，且構(gòu)成為能夠利用設(shè)于下部的可搬裝置61移動(dòng)。所述單一處理裝置具有將其外形規(guī)格化為臺(tái)式尺寸的相同的外形。在此，“臺(tái)式尺寸”指的是人比較容易搬運(yùn)的程度的尺寸，具體來(lái)說(shuō)，X:294mm, y:450mm,Zl:700mm, Z2:740mm。
[0136]在上部處理裝置52收納有作為處理裝置的晶圓曝光裝置，在下部處理裝置51配置有控制它們的控制裝置等。另外，在上部處理裝置52處，在其側(cè)面形成有觀察孔57，該觀察孔57由感光性抗蝕劑的感光光線無(wú)法進(jìn)入處理裝置內(nèi)部的具有透明性的遮光構(gòu)件構(gòu)成。[0137]另外，以從上部處理裝置52的正面?zhèn)认蜻M(jìn)深側(cè)挖掘的方式設(shè)有所需的大小的空間，以與該空間相對(duì)的方式設(shè)有上部工作臺(tái)55。
[0138]在該上部工作臺(tái)55上設(shè)有與搬運(yùn)容器對(duì)接的對(duì)接口 56，在該對(duì)接口 55的下方設(shè)有前室80。S卩，上部處理裝置52由該前室80和連結(jié)于該前室的處理部81構(gòu)成。
[0139]在該前室80設(shè)有將從對(duì)接口 55搬入到前室80內(nèi)的工件與處理部80之間進(jìn)行交接的搬運(yùn)裝置(未圖示)，并且在其正面?zhèn)纫钥裳b卸的方式設(shè)有前表面面板53。通過(guò)卸下前表面面板53，能夠進(jìn)行該搬運(yùn)裝置等的維護(hù)。
[0140]在上部工作臺(tái)55上配置有電源開(kāi)關(guān)等開(kāi)關(guān)類(lèi)，另外，在前室80的上方以隔開(kāi)空間的方式設(shè)有兼具操作面板的顯示裝置54。在該顯示裝置54的上方設(shè)有由用于顯示該單一處理裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)等的發(fā)光二極管等構(gòu)成的狀態(tài)顯示裝置54’。
[0141]需要說(shuō)明的是，如需要在空間上劃分前室80與處理室81，則能夠如圖2?圖4所示地適當(dāng)設(shè)置閘門(mén)82，但是該閘門(mén)82并不是本件發(fā)明所必須的構(gòu)件。
[0142]該單位處理裝置50的重量因各個(gè)單位處理裝置50所內(nèi)含的處理裝置的內(nèi)容而不同，標(biāo)準(zhǔn)重量為大致60千克。由此，由于能夠通過(guò)使用可搬裝置61等容易地搬運(yùn)，因此在流水車(chē)間、加工車(chē)間、多單元車(chē)間、分類(lèi)車(chē)間布局等中，布局變更較為容易。
[0143]另外，上部處理裝置52為大致長(zhǎng)方體的臺(tái)式尺寸，其標(biāo)準(zhǔn)重量為大約30千克。因而，利用連接部60僅將上部處理裝置52從單位處理裝置50分離并進(jìn)行搬運(yùn)是容易的，這樣，分離上部處理裝置52并移動(dòng)至所需的場(chǎng)所，從而對(duì)作為單位處理裝置50的功能進(jìn)行檢查、修理、或改進(jìn)也變得容易。
[0144]如圖11以及圖12所示，在本實(shí)施方式例的情況下，在處理室81內(nèi)收納有曝光裝置，在用于放置從前室80搬運(yùn)的工件的工件臺(tái)65的上方配置有UV光源70、工件檢測(cè)用攝像機(jī)71、對(duì)準(zhǔn)用的監(jiān)視攝像機(jī)72等。另外，構(gòu)成為通過(guò)使它們沿圖12所述的左右方向滑動(dòng)而選擇性配置于工件上的規(guī)定位置。因而，在結(jié)束對(duì)準(zhǔn)而移至曝光步驟的情況下，在工件臺(tái)65上配置有UV光源70，該光線向正下方照射。因而，如圖11所示，前室80的對(duì)接口 55的下方附近空間、即至少搬運(yùn)工件的空間成為在光學(xué)上遮擋UV光源70的空間。
[0145]附圖標(biāo)記61為工件臺(tái)65的X軸調(diào)整機(jī)構(gòu)，附圖標(biāo)記62為工件臺(tái)65的Y軸調(diào)整機(jī)構(gòu)，附圖標(biāo)記63為工件臺(tái)65的Z軸調(diào)整機(jī)構(gòu)。
[0146]圖1的(c)是構(gòu)成本發(fā)明的連結(jié)系統(tǒng)的將搬運(yùn)容器7與前室8(與前室80相同)緊密連結(jié)的圖，如上所述，緊密連結(jié)搬運(yùn)容器7與前室8的結(jié)果是，由搬運(yùn)容器7的容器門(mén)12與前室8的前室門(mén)9限定的連結(jié)室10形成為發(fā)揮以往的連結(jié)系統(tǒng)中的前室的作用的部分。
[0147]現(xiàn)有技術(shù)中的前室是為了將收納在搬運(yùn)容器內(nèi)的物品搬入裝置內(nèi)而減壓至大氣以下，或者為了將大氣與特定的環(huán)境下的環(huán)境不同的外部空氣在裝置內(nèi)連接而發(fā)揮功能。
[0148]與此相對(duì)地，本發(fā)明中的所述連結(jié)室10恰好如這樣的前室那樣，連結(jié)室10內(nèi)部的環(huán)境與緊密連結(jié)之后的外界為相同的環(huán)境，因此容器門(mén)12與前室門(mén)9成為一體并向前室內(nèi)移動(dòng)，在直到兩扇門(mén)打開(kāi)的過(guò)程中，能夠經(jīng)由連接于連結(jié)室的氣體供給用口 15和氣體排出用口 16調(diào)整為與前室內(nèi)的環(huán)境相同的環(huán)境。
[0149]如半導(dǎo)體這樣的具有在真空下進(jìn)行處理的工序的構(gòu)件特別需要這樣的清潔用氣體的供給與排出。在這種情況下，在多個(gè)工序中分別使用不同裝置的制造設(shè)備中，各工序所使用的裝置分別需要本發(fā)明的連結(jié)系統(tǒng)。
[0150]若裝置內(nèi)的環(huán)境為真空，則利用真空泵等從氣體排出用口 16排出連結(jié)室10內(nèi)的氣體，根據(jù)，接著通過(guò)進(jìn)行任意次數(shù)的、從氣體供給用口 15將非活性的氣體導(dǎo)入連結(jié)室內(nèi)后進(jìn)而從氣體排出用口 16排出該氣體的操作等，能夠使含有微顆粒等的連結(jié)室10內(nèi)的環(huán)境成為與前室內(nèi)的環(huán)境同等程度的環(huán)境。
[0151]當(dāng)然，根據(jù)作為目的的前室內(nèi)的清潔度、環(huán)境，根據(jù)需要，能夠使連結(jié)室10內(nèi)的環(huán)境接近前室內(nèi)的環(huán)境。
[0152]這樣，本發(fā)明能夠?qū)徇\(yùn)容器與前室直接緊密連結(jié)，因此，能夠在因緊密連結(jié)而形成的連結(jié)室10內(nèi)以連接氣體導(dǎo)入用口 15以及氣體排出用口 16的方式在前室8設(shè)置這些□。
[0153]在利用這些口使氣體在連結(jié)室10內(nèi)流通并進(jìn)行清潔化的過(guò)程中，氣體既需要遍布整個(gè)連結(jié)室10內(nèi)流通，也需要以能夠去除附著于容器門(mén)12與前室門(mén)9緊密連接而成的容器7的開(kāi)口部和前室主體8的開(kāi)口部的、顆粒等的方式流通。
[0154]接著，通過(guò)列舉將搬運(yùn)容器內(nèi)部的半導(dǎo)體器件制造用的晶圓17導(dǎo)入裝置內(nèi)的例子來(lái)表示使用了本發(fā)明的連結(jié)系統(tǒng)的搬運(yùn)容器7與前室8的緊密連結(jié)的詳細(xì)內(nèi)容。本發(fā)明并不局限于該例，此外，也可以導(dǎo)入例如微生物的培養(yǎng)基、不穩(wěn)定的化合物。
[0155]在圖2中，搬運(yùn)容器7由搬運(yùn)容器主體11和容器門(mén)12構(gòu)成，搬運(yùn)容器主體11和容器門(mén)12被公知的密封部件氣密地密封。因而，在搬運(yùn)容器7內(nèi)遮擋了感光光線。而且，在搬運(yùn)容器主體11內(nèi)以從容器門(mén)12朝向搬運(yùn)容器主體11的內(nèi)部的方式設(shè)有支承晶圓17的構(gòu)件。
[0156]考慮到使容器7與前室8緊密連結(jié)之后，搬運(yùn)容器7能夠在搬運(yùn)容器主體11的壁部設(shè)置磁鐵18，且能夠在容器門(mén)12的抵接于搬運(yùn)容器主體11的壁部的位置設(shè)置鐵等磁性體19。此時(shí)，延長(zhǎng)設(shè)置了該搬運(yùn)容器主體11的壁部和該容器門(mén)12的磁性體19的位置，在與容器門(mén)12的設(shè)置了磁性體19的位置相抵接的前室門(mén)9的位置預(yù)先配置電磁鐵14。
[0157]在圖2的狀態(tài)下，搬運(yùn)容器7的搬運(yùn)容器主體11利用磁力與容器門(mén)12強(qiáng)力地緊貼，從而可靠地遮擋了搬運(yùn)容器主體11的內(nèi)部與外部空氣。另外，前室8的前室門(mén)9利用任意構(gòu)件可靠地與前室主體13緊貼，前室主體13也處于與外部空氣可靠地隔斷的狀態(tài)。
[0158]需要說(shuō)明的是，如上所述，在前室8 ( S卩，單一處理裝置中的前室80)中且在與處理室的連結(jié)部設(shè)有處理室81和根據(jù)需要在空間上進(jìn)行劃分的劃分門(mén)82。這是在例如防止來(lái)自處理室81的感光光線直接照射前室80內(nèi)的工件等需要的情況下設(shè)置的。但是，在不具有這樣的危險(xiǎn)的情況下，該劃分門(mén)82并不是必須的，在未設(shè)置該劃分門(mén)82的情況下，前室80與處理室81的氣壓等環(huán)境處于相同，因此在搬運(yùn)容器7放置于前室80上部的對(duì)接口 56上的情況下與直接連結(jié)搬運(yùn)容器7和處理室81是相同的。
[0159]根據(jù)這樣的圖2的狀態(tài)，接著，如圖3所示，搬運(yùn)容器7在將容器門(mén)12朝向下方的狀態(tài)下以與前室8的裝置門(mén)9相重疊的方式被放置。此時(shí)，在搬運(yùn)容器7與前室8中的一者上設(shè)置定位用的銷(xiāo)，在另一者上設(shè)置用于嵌合該定位用銷(xiāo)的孔等，精確地重疊搬運(yùn)容器7與前室8是重要的。作為用于該定位的機(jī)構(gòu)，并不限定于銷(xiāo)，也能夠采用公知的定位構(gòu)件。
[0160]裝置主體13和前室門(mén)9也被公知的密封構(gòu)件氣密地密封。因而，在前室門(mén)關(guān)閉的狀態(tài)下，前室內(nèi)形成為遮擋感光光線的狀態(tài)。[0161]在將搬運(yùn)容器7以精確的位置放置于前室8上之后，進(jìn)行用于緊密連結(jié)兩者的操作。在未進(jìn)行緊密連結(jié)的情況下，搬運(yùn)容器7與前室8未被氣密地密封，在它們之間形成有間隙，若在該狀態(tài)下打開(kāi)門(mén)，則外部空氣侵入到搬運(yùn)容器7內(nèi)、前室8內(nèi)，從而導(dǎo)致它們的內(nèi)部被外部空氣和微顆粒等污染。
[0162]作為用于進(jìn)行該緊密連結(jié)的構(gòu)件，可以是插銷(xiāo)機(jī)構(gòu)等公知的構(gòu)件，作為該緊貼強(qiáng)度，可以是由夾設(shè)于搬運(yùn)容器主體11與前室主體13之間的墊圈等公知的密封構(gòu)件所形成的密封有效地發(fā)揮功能的程度的強(qiáng)度。另外，利用該緊密連結(jié)，形成為感光光線不會(huì)從該緊密連接部漏光的結(jié)構(gòu)。
[0163]在將搬運(yùn)容器7與前室8緊貼之后，在搬運(yùn)容器主體11與前室主體13之間，利用設(shè)于任意一者或者兩者的公知的密封構(gòu)件形成有氣密的密封結(jié)構(gòu)。然后，為了將在被該密封構(gòu)件劃分出的容器門(mén)12與前室門(mén)9之間形成的連結(jié)室10設(shè)為與前室內(nèi)的環(huán)境相同，使用預(yù)先設(shè)于前室的氣體供給用口 15以及氣體排出用口 16來(lái)調(diào)整連結(jié)室10內(nèi)的環(huán)境。
[0164]作為具體的調(diào)整方法，能夠采用由如下工序構(gòu)成的方法或重復(fù)該方法的方法，即，首先，將與外部空氣環(huán)境相同的連結(jié)室10內(nèi)的空氣從氣體排出用口 16排出而進(jìn)行減壓。接著，從氣體供給用口 15導(dǎo)入例如干燥后的氮?dú)?，進(jìn)而從氣體排出用口 16進(jìn)行排氣而進(jìn)行減壓。
[0165]根據(jù)這樣的方法，首先，處于與外部空氣相同的環(huán)境且除氧氣等反應(yīng)性氣體之外還存在有微顆粒等污染物質(zhì)的連結(jié)室10利用氣體的排氣與供給所形成的氣流來(lái)去除能夠去除的微顆粒等，并且氧氣等反應(yīng)性氣體也被排出。
[0166]之后，若形成與前室8內(nèi)的環(huán)境相同的環(huán)境、即前室8內(nèi)為減壓下的環(huán)境，則連結(jié)室10也為減壓下的環(huán)境，若前室8內(nèi)形成為非活性氣體環(huán)境下，則連結(jié)室10也被調(diào)整為非活性氣體環(huán)境下。當(dāng)然，連結(jié)室10的環(huán)境的調(diào)整也可以利用其它工序。
[0167]這樣的連結(jié)室10的環(huán)境的調(diào)整與對(duì)以往的裝置中的前室(即在空間上與處理室相隔離的前室)所進(jìn)行的調(diào)整并無(wú)特殊區(qū)別，但是與以往的前室相比，由搬運(yùn)容器7與前室8這兩者的門(mén)等所規(guī)定的連結(jié)室的空間壓倒性地縮小，因此對(duì)于氣體的供給、排氣所需要的裝置而言，更小規(guī)模的裝置就足夠了，另外，所需時(shí)間也變得非常短即可。
[0168]接著，說(shuō)明使收納在搬運(yùn)容器7內(nèi)的晶圓移動(dòng)至前室8內(nèi)的方法。
[0169]雖然均未圖示，但是在前室8內(nèi)設(shè)有用于打開(kāi)/關(guān)閉前室門(mén)9的升降機(jī)等裝置，以容器門(mén)12和前室門(mén)9為單位將固定于搬運(yùn)容器7的容器門(mén)的晶圓移送至前室8內(nèi)，并施加由裝置內(nèi)的處理機(jī)構(gòu)所進(jìn)行的處理。
[0170]當(dāng)使一體化的容器門(mén)12與前室門(mén)9 一起向前室8內(nèi)移動(dòng)時(shí)，解除容器門(mén)12與搬運(yùn)容器主體7間的緊貼狀態(tài)。
[0171]作為用于進(jìn)行該解除的手段的一個(gè)例子，列舉有以下手段。
[0172]設(shè)于容器門(mén)12的磁性體19受到設(shè)于搬運(yùn)容器主體7的壁的磁鐵18的磁力而與該磁鐵18磁力吸附。
[0173]因此，為了使容器門(mén)12離開(kāi)搬運(yùn)容器主體11，需要克服作用于磁性體19的來(lái)自磁鐵18的磁力，對(duì)磁性體19向離開(kāi)容器門(mén)12的方向施加力。
[0174]在圖3中，電流在設(shè)于前室門(mén)9的電磁鐵14內(nèi)流通，通過(guò)對(duì)磁性體19施加磁力，施加于磁性體19的磁力使電磁鐵14的磁力變得比磁鐵18的磁力強(qiáng)，從而形成有磁力的閉回路，其結(jié)果是，容器門(mén)12磁力吸附于前室門(mén)9。
[0175]這樣，通過(guò)在使容器門(mén)12磁力吸附于前室門(mén)9的狀態(tài)下使前室門(mén)9向下方移動(dòng)，如圖4所示，前室門(mén)9和容器門(mén)12被一起導(dǎo)入前室內(nèi)。向電磁鐵的通電可以在從磁鐵18至容器門(mén)12的磁力在一定程度上減弱的時(shí)刻停止。
[0176]在該狀態(tài)下，由前室門(mén)9和容器門(mén)12構(gòu)成的連結(jié)室10與前室8內(nèi)的空間相連通，但是由于連結(jié)室10已經(jīng)與前室8內(nèi)的環(huán)境相同，因此不會(huì)出現(xiàn)來(lái)自連結(jié)室10的前室內(nèi)的污染。
[0177]需要說(shuō)明的是，該例是在前室8設(shè)置氣體供給用口 15和氣體排出用口 16的例子，但是也存在有不設(shè)置所述口的情況。在該情況下，若比較前室8的容積與連結(jié)室10的容積，則由于連結(jié)室10的內(nèi)容積壓倒性地小，因此即使存在于連結(jié)室10的微顆粒、氣體混入裝置內(nèi)的環(huán)境，由此導(dǎo)致的污染程度也是極小的，從而能夠忽略。
[0178]此時(shí)，為了將所形成的連結(jié)室10與前室8內(nèi)的氣壓等環(huán)境設(shè)為相同，例如，也可以是在前室門(mén)9設(shè)置連通前室8內(nèi)與連結(jié)室10內(nèi)的能夠打開(kāi)/關(guān)閉的管路，在使搬運(yùn)容器7和前室8緊貼而形成連結(jié)室10之后，打開(kāi)該管路，使連結(jié)室10與前室8內(nèi)連通。
[0179]進(jìn)而，也可以是將所述實(shí)施例的前室8的前室門(mén)9的朝向設(shè)為橫向、或向下，將搬運(yùn)容器7的容器門(mén)12也設(shè)為橫向、或向上。
[0180]基于圖5來(lái)說(shuō)明利用磁力打開(kāi)/關(guān)閉容器門(mén)和前室門(mén)的其它機(jī)構(gòu)。
[0181]圖5是搬運(yùn)容器21緊貼于前室20的狀態(tài)下的圖，容器門(mén)23與前室門(mén)22的上表面相對(duì)，搬運(yùn)容器主體25的容器門(mén)23的周?chē)牟糠峙c前室主體24相對(duì)。
[0182]在前室門(mén)22內(nèi)埋入有電磁鐵26，該電磁鐵26的前端從前室門(mén)22的上表面上露出。以與該電磁鐵26的前端的位置相對(duì)的方式且以從容器門(mén)23的表面貫穿背面的方式埋入有磁性體27。該磁性體27埋入有多個(gè)，該多個(gè)磁性體27以磁力連接于磁鐵36的兩端。然后，埋入I個(gè)以上由這樣的兩個(gè)磁性體27和磁鐵36構(gòu)成的組。
[0183]另外，在磁性體27從容器門(mén)23的內(nèi)側(cè)、即搬運(yùn)容器主體側(cè)露出的位置處，埋入搬運(yùn)容器主體25的磁性體28發(fā)揮磁力，容器門(mén)23在產(chǎn)生于埋入內(nèi)部的磁性體27與埋入搬運(yùn)容器主體25的磁性體28之間的磁力所產(chǎn)生的引力的作用下，固定于搬運(yùn)容器主體25，因此，搬運(yùn)容器主體25的內(nèi)部被容器門(mén)23封閉。
[0184]埋入搬運(yùn)容器主體25的多個(gè)磁性體28在從與容器門(mén)23相對(duì)的部分分離的位置處被磁性體29連接，在該狀態(tài)下，磁力連接搬運(yùn)容器主體和容器門(mén)而形成閉回路。
[0185]在搬運(yùn)容器主體25的內(nèi)部收納有被處理物30，該被處理物30以能夠與容器門(mén)23一起在搬運(yùn)容器主體25與前室20內(nèi)之間移動(dòng)的方式固定于容器門(mén)23，為了防止外部空氣、微顆粒侵入前室主體24、搬運(yùn)容器主體25，并且使被處理物能夠在前室內(nèi)、或容器內(nèi)移動(dòng)，需要在搬運(yùn)容器21和前室20緊貼的狀態(tài)下形成連結(jié)室，且該連結(jié)室相對(duì)于外部空氣呈氣
LU O
[0186]因此，在圖5中，設(shè)有用于氣密地密封搬運(yùn)容器主體25與容器門(mén)23之間的O型環(huán)等密封構(gòu)件31，設(shè)有用于氣密地密封前室主體24與前室門(mén)22之間的O型環(huán)等密封構(gòu)件33，另外，設(shè)有用于氣密地密封搬運(yùn)容器主體25和前室主體24的O型環(huán)等密封構(gòu)件32，對(duì)于容器21的內(nèi)部和前室20的內(nèi)部，利用所述密封構(gòu)件，在容器21連接于前室20時(shí)自不必說(shuō)，即使是在容器21未連接于前室20時(shí)，內(nèi)部也能夠處于與外部空氣相隔離的狀態(tài)。[0187]進(jìn)而，容器21精確地連接于前室20，搬運(yùn)容器主體21內(nèi)的被處理物30在前室主體24的內(nèi)部來(lái)往，為了能夠精確地進(jìn)行處理，需要精確地嵌合設(shè)于搬運(yùn)容器主體25的多個(gè)定位銷(xiāo)34與設(shè)于前室主體24的多個(gè)孔、槽等。當(dāng)然，也可以在前室側(cè)設(shè)置定位銷(xiāo)，在容器側(cè)設(shè)置孔、槽，但是考慮到操作性，優(yōu)選在容器側(cè)設(shè)置定位銷(xiāo)，在前室側(cè)形成孔、槽以與該定位銷(xiāo)嵌合。
[0188]定位銷(xiāo)34的前端形狀既可以為圓球狀，也可以為圓錐狀、角錐狀，只要是作為銷(xiāo)而具有明確的前端的構(gòu)件即可。另外，孔、槽35以與該定位銷(xiāo)34嵌合的方式具有反映定位銷(xiāo)的前端形狀的內(nèi)表面的形狀即可，但是特別優(yōu)選V字狀的槽、U字狀的槽。此時(shí)，定位銷(xiāo)34的前端附近的兩點(diǎn)也可以與孔、槽35的底部附近的兩點(diǎn)相接觸。此時(shí)，也可以是例如，以定位銷(xiāo)34的前端呈圓球狀、孔、槽呈V字槽時(shí)的方式使定位銷(xiāo)的前端的圓球狀部分位于V字槽35的中心部。采用這樣的定位手段，能夠精確并且可靠地使容器21在前室20的對(duì)接口 56連接于預(yù)定的位置。
[0189]在圖5中雖未圖示，但由于在前室20設(shè)置圖2所示的氣體供給用口以及氣體排出用口，并且搬運(yùn)容器主體25與前室主體24之間被密封構(gòu)件32氣密地密封，因此為了使形成于前室門(mén)22與容器門(mén)23之間的連結(jié)室能夠與前室20、容器21內(nèi)的環(huán)境相配合，也可以利用任意氣體來(lái)填滿，另外，也可以形成為任意氣壓下。
[0190]在圖5中，容器、前室以及它們的門(mén)的形狀、電磁鐵的形狀、磁性體的形狀、銷(xiāo)、孔、槽并不限定于圖示的形狀，只要能夠發(fā)揮相同的功能，則可以為任意形狀。另外，也可以以磁鐵來(lái)取代電磁鐵26。
[0191]另外，如圖2?圖4所示，圖5所述的裝置也能夠使容器門(mén)與前室門(mén)一起向前室內(nèi)移動(dòng)并在前室內(nèi)進(jìn)行規(guī)定的處理等。
[0192]在圖6中僅示出在圖5所示的狀態(tài)和使搬運(yùn)容器位于離開(kāi)前室的場(chǎng)所的狀態(tài)下各磁性體和電磁鐵的關(guān)系。
[0193]在圖6中，搬運(yùn)容器位于離開(kāi)電磁鐵的場(chǎng)所，電磁鐵處于不具有磁力的狀態(tài)。另一方面，在搬運(yùn)容器中具有被埋入容器門(mén)的磁鐵36所連接的兩個(gè)磁性體27。而且，設(shè)于搬運(yùn)容器主體的磁性體28分別連接于該磁性體27，進(jìn)而，所述該磁性體28被磁性體29連接。這樣連接的結(jié)果是，如圖6所示，利用各個(gè)磁性體沿箭頭方向形成由磁力形成的電路。
[0194]相同地，在圖7中示出在搬運(yùn)容器連接于前室之后利用電磁鐵26產(chǎn)生了磁力時(shí)，容器門(mén)未打開(kāi)的狀態(tài)下的磁性體與電磁鐵的關(guān)系。
[0195]首先，在使電流在電磁鐵26內(nèi)流動(dòng)而產(chǎn)生電磁力時(shí)，在產(chǎn)生該電磁力之前在磁性體27內(nèi)部朝向磁性體28的磁力線因電磁鐵的磁力而不再朝向磁性體28，該磁力線朝向電磁鐵方向進(jìn)行再配置。其結(jié)果是，形成磁鐵36-磁性體27-電磁鐵26-電磁鐵26-磁性體27這樣的磁電路。如此一來(lái),磁性體27和電磁鐵26具有較強(qiáng)的吸引力。如此一來(lái)，由搬運(yùn)容器主體25和容器門(mén)23構(gòu)成的磁電路在磁性體27與磁性體28之間，磁力線變得很弱，事實(shí)上作為磁回路被切斷。即，磁性體27與磁性體28的吸引力變得極弱，搬運(yùn)容器主體25和容器門(mén)23被解除磁鎖定。
[0196]如上所述，由于當(dāng)以電磁鐵產(chǎn)生磁力時(shí)，搬運(yùn)容器主體和容器門(mén)的磁鎖定被解除，電磁鐵和容器門(mén)被磁鎖定，因此能夠打開(kāi)容器門(mén)。
[0197]這樣，由于能夠利用電磁鐵的作用同時(shí)進(jìn)行容器門(mén)的打開(kāi)/關(guān)閉和前室門(mén)的打開(kāi)/關(guān)閉，因此能夠防止外部空氣、外部的微顆粒流入容器內(nèi)部、前室內(nèi)部，此時(shí)，在容器門(mén)的打開(kāi)/關(guān)閉前后均形成有磁力的閉回路，因此磁力不會(huì)向外部泄漏。
[0198]在圖8中示出從搬運(yùn)容器門(mén)的內(nèi)部側(cè)觀察的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0199]該搬運(yùn)容器門(mén)12以埋入搬運(yùn)容器11的開(kāi)口部的方式關(guān)閉門(mén)，呈在整周上具有不垂直于該搬運(yùn)容器門(mén)12的上下表面的斜面37的圓盤(pán)狀，在該搬運(yùn)容器12的內(nèi)部側(cè)設(shè)有3根用于保持被搬運(yùn)物(未圖示)的爪38。例如，圓板狀的被搬運(yùn)物放置于所述爪38上、或利用嵌合被保持。另外，在該搬運(yùn)容器門(mén)12的外表面設(shè)有槽41。
[0200]在該搬運(yùn)容器門(mén)12內(nèi)埋入磁性體39以及磁鐵40。
[0201]基于圖8和圖9，說(shuō)明搬運(yùn)容器門(mén)12閉合于搬運(yùn)容器主體11的工序。
[0202]在將被搬運(yùn)物(未圖示)保持于該搬運(yùn)容器門(mén)12的爪38之后，以使搬運(yùn)容器門(mén)12嵌合于具備與前室間的定位銷(xiāo)34的搬運(yùn)容器主體11的方式將該被搬運(yùn)物放入該搬運(yùn)容器11內(nèi)。此時(shí)，反轉(zhuǎn)圖8所示的搬運(yùn)容器門(mén)，以使該搬運(yùn)容器門(mén)12的斜面37與搬運(yùn)容器11的內(nèi)部的斜面43相配合的方式進(jìn)行嵌合。此時(shí)，設(shè)于該搬運(yùn)容器門(mén)12的周?chē)牟?1與設(shè)于搬運(yùn)容器內(nèi)部的突起44嚙合。進(jìn)而，同時(shí)以設(shè)于該搬運(yùn)容器門(mén)的周?chē)⑶遗c斜面43相一致的方式設(shè)置的斜面37以與形成該搬運(yùn)容器主體的內(nèi)表面的斜面43緩緩相接的方式接近斜面43，在該搬運(yùn)容器門(mén)嵌合于該搬運(yùn)容器主體的同時(shí)，該斜面37也與斜面43相接觸。
[0203]進(jìn)而，如上所述，該搬運(yùn)容器門(mén)12的磁性體39配置為與設(shè)于搬運(yùn)容器主體11內(nèi)部的磁性體42相對(duì)。此時(shí)，磁鐵40的磁力線經(jīng)由磁性體39向磁性體42進(jìn)行取向，從而該搬運(yùn)容器主體11側(cè)的磁性體42被磁力向該搬運(yùn)容器門(mén)側(cè)的磁性體39吸引，由此，該搬運(yùn)容器門(mén)12被固定于該搬運(yùn)容器主體11。
[0204]這樣，氣密地連結(jié)搬運(yùn)容器與該單一處理裝置中的前室，為了使內(nèi)容物在它們之間移動(dòng)，僅需設(shè)置兩扇必要的門(mén)。一扇是容器的門(mén)，另一扇是前室主體的門(mén)。所述兩扇門(mén)具有能夠僅在氣密地連結(jié)搬運(yùn)容器與前室時(shí)形成連結(jié)室的形狀。原本該連結(jié)室的內(nèi)表面為兩扇門(mén)的外表面，因此是有可能因暴露于外部空間而被污染的表面。因而，在形成連結(jié)室且具有連結(jié)室內(nèi)部的清潔化機(jī)構(gòu)的情況下，能夠進(jìn)一步確保清潔性，能夠?qū)崿F(xiàn)由搬運(yùn)容器內(nèi)部、前室內(nèi)部以及連結(jié)室構(gòu)成的內(nèi)部空間與外部間的分離。
[0205]另外，說(shuō)明將單一處理裝置構(gòu)成為感光材料的涂敷裝置的情況。
[0206]對(duì)于迄今為止的黃光室而言，即使向設(shè)置于室內(nèi)的涂敷裝置供給感光材料，由于室整體被遮光，因此不存在供給的感光材料發(fā)生感光的隱患。但是，在本發(fā)明的黃光室的情況下，即使感光材料被遮光的容器導(dǎo)入，在將該容器設(shè)置于裝置內(nèi)時(shí)，無(wú)論如何也要打開(kāi)容器的蓋，因此存在有因產(chǎn)生有漏光而導(dǎo)致內(nèi)部的抗蝕劑感光的隱患。由此，需要研究解決此問(wèn)題的對(duì)策。
[0207]在本發(fā)明中，感光性材料以被封閉于由遮擋感光光線的材料作成的瓶形狀的容器(未圖示)的方式向單一處理裝置50供給。在該單一處理裝置50的下部處理裝置51設(shè)有該容器的收納空間，該容器插入該收納空間內(nèi)。
[0208]在上部處理裝置52配置有由工件放置臺(tái)、用于對(duì)工件放置臺(tái)上的工件(晶圓)滴下感光材料的涂出噴嘴以及使工件承載臺(tái)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)裝置構(gòu)成的所謂的旋涂器(均未圖示)。在向上部處理裝置52設(shè)有觀察孔57的情況下，該觀察孔57由遮擋感光光線的材料構(gòu)成。[0209]進(jìn)而，在下部處理裝置51的所述收納空間內(nèi)，用于將感光材料供給至所述涂出噴嘴的軟管的端部被配置為插口。該軟管也由遮擋感光光線的材料構(gòu)成。
[0210]在容器內(nèi)安裝插件型的抗蝕劑供給連接器。該連接器在容器單獨(dú)存在時(shí)呈封閉的狀態(tài)，在安裝于所述插口安裝時(shí)形成為管打開(kāi)的結(jié)構(gòu)，其本身由遮光性構(gòu)件構(gòu)成。這樣的插件連接器本身也可以是公知的結(jié)構(gòu)。
[0211]但是，在這樣的插件連接器的情況下，引起如下問(wèn)題:在連接器的裝卸時(shí)產(chǎn)生因摩擦而產(chǎn)生的微顆粒，繼而該微顆?；烊肟刮g劑材料中。為了防止該問(wèn)題，在本發(fā)明中，將微顆粒去除過(guò)濾器安裝于插口側(cè)至涂出噴嘴之間。利用以上的結(jié)構(gòu)的功能，無(wú)需將抗蝕劑容器安裝時(shí)的周邊設(shè)為光遮擋環(huán)境。
[0212]另外，如之前說(shuō)明的那樣，利用單位處理裝置50進(jìn)行的“單一處理工序”是指能夠收納在一個(gè)臺(tái)式尺寸的容器容量?jī)?nèi)的處理工序的一個(gè)概括，使用例子對(duì)其進(jìn)行具體的說(shuō)明。
[0213]實(shí)際中的半導(dǎo)體器件的晶圓工序主要由清洗、涂敷、曝光、顯影、蝕刻、堆積(CVD、濺射等)、雜質(zhì)控制(離子注入、擴(kuò)散等)、檢查、CMP(研磨)等工序構(gòu)成。各個(gè)工序進(jìn)而由詳細(xì)的要素工序構(gòu)成。例如，硅晶圓的清洗工序是如下工序組的通稱(chēng)。
[0214](I)超純水清洗(粗清洗)、(2)硫酸加水清洗(有機(jī)物去除)、(3)超純水清洗(洗濯)、(4) NH4OH-H2O2-H2O (SC-1)清洗(微顆粒去除)、(5)稀氟酸清洗(基于氧化物去除的附著微顆粒去除)、(6)HCl-H2O2-H2O(SC-2)清洗(金屬原子去除)、(7)稀氟酸清洗(氧化物去除)、(8)超純水清洗(洗濯)、(9) IPA (Isopropyl Alcohol)蒸氣干燥(水分去除)。
[0215]在本實(shí)施方式例中，一個(gè)單位處理裝置既可以進(jìn)行該一系列的清洗工序(I)?
(9)，也可以由進(jìn)行(1)、(2)的有機(jī)物去除和(3)?(9)的微顆粒和金屬原子去除這兩個(gè)清洗的兩個(gè)單位處理裝置構(gòu)成。
[0216]另外，其它半導(dǎo)體工序的例子、即涂敷工序?yàn)?a)表面處理、(b)抗蝕劑涂敷、(C)預(yù)焙(抗蝕劑的固化)的通稱(chēng)。其中，(a)是晶圓表面的親水疏水控制工序，因此也可以通過(guò)進(jìn)行所述清洗工序的(3)?(9)的單位處理裝置來(lái)進(jìn)行該(a)表面處理。
[0217]這樣，在本發(fā)明中，單位處理裝置的基本在于，將處理方法相類(lèi)似的要素工序總括到一起，以一個(gè)單位處理裝置進(jìn)行處理?；蛘?，即使處理方法區(qū)別較大，只要在相同裝置內(nèi)進(jìn)行連續(xù)的兩個(gè)工序的做法在技術(shù)上是有利的，則能夠以一個(gè)單位處理裝置I進(jìn)行處理。
[0218]作為一例，所述清洗工序(8)的洗濯工序之后的(9) IPA蒸氣干燥工序在(8)的處理后極力期望在一個(gè)單位處理裝置內(nèi)進(jìn)行。其理由在于，晶圓上的殘留水分具有以原子等級(jí)蝕刻晶圓表面原子的作用，若放置，則存在有蝕刻殘?jiān)Y(jié)為水印這樣的問(wèn)題，為了防止該問(wèn)題，需要在未進(jìn)行蝕刻時(shí)進(jìn)行IPA蒸氣干燥。
[0219]然后，該單位處理裝置將極小單位的半導(dǎo)體器件，作為實(shí)施方式例，將由0.5英寸尺寸的晶圓制成一個(gè)半導(dǎo)體器件的晶圓尺寸作為處理對(duì)象，并對(duì)其逐片進(jìn)行處理，換言之，進(jìn)行與實(shí)驗(yàn)階段中的半導(dǎo)體處理裝置相同等級(jí)的處理。因而，即使是研究室中的實(shí)驗(yàn)階段的研究開(kāi)發(fā)成果，也能夠利用該單位處理裝置中的處理裝置容易地獲取。
[0220]根據(jù)本發(fā)明，由于伴隨著該單位處理裝置50的布局變更的搬運(yùn)、定位作業(yè)等變得容易，因此能夠靈活地應(yīng)對(duì)制造單位數(shù)的變化。即，由于能夠極其容易地進(jìn)行流水車(chē)間布局、分類(lèi)車(chē)間布局以及多單元車(chē)間布局間的布局變更，因此不存在使各個(gè)制造裝置閑置的情況，能夠容易地構(gòu)成活躍/低迷變化極大的撓性的制造系統(tǒng)。另外，通過(guò)能夠使連接各單位處理裝置與外部的結(jié)構(gòu)、搬運(yùn)搬運(yùn)容器的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)、或配置單位處理裝置的結(jié)構(gòu)規(guī)格化等，能夠降低器件制造裝置本身的成本。進(jìn)而，也能夠使搬運(yùn)容器的搬運(yùn)控制簡(jiǎn)單化、效率化。進(jìn)而，若工件的對(duì)象為I片晶圓一一個(gè)器件的單張式，則能夠進(jìn)一步使單位處理裝置、搬運(yùn)容器以及搬運(yùn)機(jī)構(gòu)等簡(jiǎn)單化，能夠進(jìn)一步低價(jià)地構(gòu)建生產(chǎn)線。
[0221 ] 另外，在本發(fā)明中，通過(guò)同時(shí)具有黃光室系統(tǒng)和局部無(wú)塵化系統(tǒng)，單位處理裝置和搬運(yùn)系統(tǒng)內(nèi)部被與供人作業(yè)的空間相隔離，因此不需要用于收納器件制造裝置整體的無(wú)塵室、黃光室，因此對(duì)于作業(yè)者而言，作業(yè)效率良好。另外，作為處理對(duì)象，晶圓是極小單位的晶圓尺寸，而且也無(wú)需以往的無(wú)塵室、黃光室，因此與以往的晶圓大廠相比，制造上的能量效率極好。
[0222]更加具體來(lái)說(shuō)，必須收納在黃光室內(nèi)的涂敷、曝光、顯影裝置組的裝置設(shè)置面積為前工序整體的面積的1/4左右，若像本發(fā)明這樣地構(gòu)成黃光室系統(tǒng)，則能夠?qū)⒈仨殞?duì)光進(jìn)行管理的體積縮小 為以往的大致1/30以下。
[0223]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0224]I…以往的搬運(yùn)容器
[0225]2…以往的裝置的前室
[0226]3…以往的搬運(yùn)容器的主體
[0227]4…以往的搬運(yùn)容器的容器門(mén)
[0228]5…以往的裝置的主體
[0229]6…以往的裝置的裝置門(mén)
[0230]7、21…搬運(yùn)容器
[0231]8、80、20 …前室
[0232]9、22…前室門(mén)；
[0233]10…連結(jié)室
[0234]11、25…搬運(yùn)容器主體
[0235]12、23…容器門(mén)
[0236]13、24…前室主體
[0237]14、26…電磁鐵
[0238]15…氣體供給用口
[0239]16…氣體排出用口
[0240]17、30…被處理物(晶圓)
[0241]18、36 …磁鐵
[0242]19、27、28、29、39、42 …磁性體
[0243]31、32、33…密封構(gòu)件
[0244]50…單位處理裝置
[0245]51…下部處理裝置
[0246]52…上部處理裝置
[0247]54…操作面板
[0248]55…上部工作臺(tái)[0249] 56…對(duì)接口
[0250]57…觀察孔
[0251]60…連接部
[0252]61…可搬裝置
[0253]80…前室
[0254]81…處理室
【權(quán)利要求】
1.一種黃光室系統(tǒng)，其中， 該黃光室系統(tǒng)具有:多個(gè)可搬運(yùn)的單位處理裝置，其具有規(guī)格化的相同的外形，且內(nèi)含用于遮擋向形成于工件上的感光材料照射的感光光線的黃光室；搬運(yùn)容器，其本身形成為黃光室，并用于在所述單位處理裝置之間搬運(yùn)所述工件；以及遮光性的連結(jié)構(gòu)造，其連結(jié)所述單位處理裝置和所述搬運(yùn)裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黃光室系統(tǒng),其中， 所述搬運(yùn)容器具有:搬運(yùn)容器主體，其形成所述工件的收納空間；搬運(yùn)容器門(mén)，其遮擋所述收納空間；以及第一密封構(gòu)造，其通過(guò)緊密連結(jié)所述搬運(yùn)容器主體和所述搬運(yùn)容器門(mén)而能夠封閉所述收納空間，并且所述搬運(yùn)容器主體、所述搬運(yùn)容器門(mén)以及所述第一密封構(gòu)造中的任一者均由遮擋向形成于所述工件上的感光材料照射的感光光線的構(gòu)件形成， 所述單位處理裝置均具有:前室，其與所述搬運(yùn)容器相連結(jié)；以及處理室，其與所述前室相連結(jié)， 所述前室具有:前室主體，其由遮擋所述感光光線的構(gòu)件形成；開(kāi)口部，其設(shè)于所述前室主體并向所述處理室開(kāi)口 ；以及前室門(mén)，其用于遮擋所述感光光線照射至所述前室主體，并且所述前室具有第二密封構(gòu)造，該第二密封構(gòu)造通過(guò)緊密連結(jié)所述前室門(mén)與所述前室主體而能夠封閉所述前室，并且能夠遮擋所述感光光線， 所述搬運(yùn)容器和所述前室具有通過(guò)緊密連結(jié)兩者而形成的、能夠封閉且能夠遮擋所述感光光線的第三密封構(gòu)造，所述搬運(yùn)容器和所述前室具有如下構(gòu)造:僅在所述搬運(yùn)容器和所述前室緊密連結(jié)時(shí)形成被所述第三密封構(gòu)造封閉化的一個(gè)未分割的連結(jié)室，且所述搬運(yùn)容器門(mén)從搬運(yùn)容器分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的黃光室系統(tǒng),其特征在于， 該黃光室系統(tǒng)構(gòu)成為:在所述單位處理室內(nèi)的至少包含工件的處理位置在內(nèi)的作業(yè)區(qū)域和從所述作業(yè)區(qū)域至所述搬運(yùn)容器門(mén)的開(kāi)門(mén)位置為止的所述工件的搬運(yùn)區(qū)域內(nèi)遮擋所述感光光線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的黃光室系統(tǒng),其中， 該黃光室系統(tǒng)具有如下構(gòu)造:通過(guò)利用所述前室門(mén)的磁鐵的磁力將所述搬運(yùn)容器門(mén)吸附于所述前室門(mén)而打開(kāi)所述搬運(yùn)容器門(mén)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的黃光室系統(tǒng),其中， 通過(guò)在所述搬運(yùn)容器門(mén)的被磁化的物體和所述搬運(yùn)容器主體的磁性體之間設(shè)置間隙，并且也在所述搬運(yùn)容器門(mén)的磁性體和所述前室門(mén)的磁鐵間設(shè)置間隙而開(kāi)閉搬運(yùn)容器門(mén)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的黃光室系統(tǒng),其中， 所述單位處理裝置是用于處理器件制造工序內(nèi)的單一處理工序的封閉型的處理裝置，該單位處理裝置是可搬運(yùn)的， 所述搬運(yùn)容器是用于收納I片作為工件對(duì)象的晶圓的封閉型的搬運(yùn)容器， 收納在所述封閉搬運(yùn)容器內(nèi)的所述晶圓為制作極小單位的器件的晶圓尺寸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的黃光室系統(tǒng),其中， 將所述極小單位設(shè)為一個(gè)，將所述晶圓尺寸設(shè)為直徑0.5英寸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的黃光室系統(tǒng)，其中， 所述單位處理裝置構(gòu)成為向工件上涂敷感光材料的涂敷裝置，所述涂敷裝置具有:封閉型的容器主體，其用于收納所述感光材料并遮擋所述感光光線；供給構(gòu)件，其用于將所述感光材料向工件上供給；以 及插件連接器，其可裝卸地連結(jié)所述容器主體和所述供給構(gòu)件，所述插件連接器是遮擋所述感光光線的構(gòu)造，具有在被連結(jié)的情況下成為打開(kāi)狀態(tài)的閥。
【文檔編號(hào)】H01L21/027GK103975416SQ201280060033
【公開(kāi)日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2012年10月3日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月6日
【發(fā)明者】原史朗 申請(qǐng)人:獨(dú)立行政法人產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所