專利名稱：用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
所描述的技術(shù)通常涉及用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。
背景技術(shù)：
具有多種優(yōu)點(diǎn)(例如快速響應(yīng)速度、低功耗和寬視角)的有機(jī)發(fā)光顯示器已經(jīng)廣泛地用作電影顯示設(shè)備。此外，可以在低溫環(huán)境中制備有機(jī)發(fā)光顯示器，因?yàn)槠浠诂F(xiàn)有的半導(dǎo)體工藝技術(shù)，所以簡化了其制備過程。因此，作為下一代平板顯示器，有機(jī)發(fā)光顯示器已經(jīng)引起了廣泛的關(guān)注。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明的一個(gè)方面是用于制備可以改進(jìn)處理產(chǎn)率的有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置和使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。另一方面是用于制備可以減少因氣氛中產(chǎn)生的空氣而導(dǎo)致的缺陷的有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置、以及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。另一方面是用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置，包括第一輥，膜卷繞在所述第一輥上，從而被連續(xù)地拉拽；第二輥，設(shè)置為面向所述第一輥，并且所述膜連續(xù)地卷繞在所述第二輥上；多個(gè)腔，設(shè)置在所述第一輥和第二輥之間，所述膜通過所述多個(gè)腔，并且通過在所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層，在所述多個(gè)腔中在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI);以及閘單元，安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)中，并且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在所述膜通過時(shí)，保持內(nèi)部真空度。多個(gè)腔可以包括第一腔，從第一輥釋放的膜輸入第一腔中，第一腔具有沉積單元，沉積單元用于在膜的一個(gè)表面形成轉(zhuǎn)移層和向外部輸出其上形成有轉(zhuǎn)移層的膜。沉積單元可以包括多個(gè)支撐輥、多個(gè)輔助輥和沉積源，多個(gè)支撐輥支撐膜的另一表面，多個(gè)輔助輥支撐除了膜的一個(gè)表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域，沉積源向膜的一個(gè)表面噴射用于轉(zhuǎn)移層的材料。多個(gè)腔可以包括第二腔，第二腔設(shè)置在第一腔附近，從第一腔輸出的膜輸入第二腔，第二腔具有組合單元，組合單元使膜和襯底緊密地彼此接觸，以使膜的轉(zhuǎn)移層面向襯底，第二腔將彼此緊密地接觸的膜和襯底輸出到外部。組合單元可以包括襯底輸入設(shè)備，襯底輸入設(shè)備使得輸入到第二腔中的襯底接觸膜和多個(gè)上部和下部組合輥，多個(gè)上部和下部組合輥的每個(gè)從上側(cè)和下側(cè)支撐彼此接觸的膜和襯底，其中上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。多個(gè)腔可以包括第三腔，第三腔設(shè)置在第二腔附近，從第二腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第三腔中，第三腔具有轉(zhuǎn)移單元，轉(zhuǎn)移單元通過將激光束照射在膜或襯底上將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上，第三腔將彼此緊密接觸的膜和襯底輸出到外部。轉(zhuǎn)移單元可以包括將激光束照射到膜或襯底上的光束照射器、插入到光束照射器和膜或襯底之間的掩模、和對(duì)準(zhǔn)掩模和襯底的對(duì)準(zhǔn)器。多個(gè)腔可以包括第四腔，第四腔設(shè)置在第三腔附近，從第三腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第四腔中，第四腔具有將襯底與膜分離的分離單元，且將襯底輸出到外部。第二輥可以設(shè)置在第四腔中。分離單元可以包括分離輥，分離輥在一個(gè)方向上卷繞膜，以將膜與襯底分離。
襯底可以設(shè)置在膜的上面。閘單元可以包括閘塊對(duì)、多個(gè)墊單元和多個(gè)真空抽吸孔，閘塊對(duì)設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開，多個(gè)墊單元設(shè)置在彼此面向的多個(gè)閘塊的表面上且支撐多個(gè)膜，多個(gè)真空抽吸孔安裝在多個(gè)閘塊和多個(gè)墊中，以分別與多個(gè)墊單元對(duì)應(yīng)。多個(gè)墊單元的每個(gè)可以還包括抽吸單元，抽吸單元具有在膜附近延伸的邊緣，通過膜的壓力使邊緣彈性形變。另一方面是制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法，包括制備第一輥，膜卷繞所述第一輥；將所述膜從所述第一輥連續(xù)地拉拽，在膜上形成轉(zhuǎn)移層，使所述膜通過多個(gè)腔，在所述膜通過多個(gè)腔的過程中，進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)，以將所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底；當(dāng)所述膜通過所述多個(gè)腔時(shí)，通過閘單元保持每個(gè)所述腔中的真空度，所述閘單元安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)處并且設(shè)置在所安裝的所述多個(gè)腔的每個(gè)的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處；以及在與所述第一輥對(duì)應(yīng)設(shè)置的第二輥周圍，連續(xù)地卷繞通過所述多個(gè)腔的所述膜。多個(gè)腔可以包括第一腔，從第一輥輸出的膜輸入到第一腔中，在第一腔中，轉(zhuǎn)移層形成在膜的一個(gè)表面上。形成轉(zhuǎn)移層的步驟可以包括使用多個(gè)支撐輥支撐膜的另一表面，使用多個(gè)輔助輥支撐除了膜的一個(gè)表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域，并且使用沉積源向膜的一個(gè)表面噴射用于轉(zhuǎn)移層的材料。多個(gè)腔可以包括第二腔，第二腔設(shè)置在第一腔附近，從第一腔輸出的膜輸入第二腔，在第二腔中，膜和襯底緊密地接觸，以使膜的轉(zhuǎn)移層面向襯底。使膜和襯底緊密地彼此接觸的步驟可以包括使用襯底輸入設(shè)備將輸入第二腔的襯底與膜接觸，使用多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐彼此接觸的膜和襯底，其中上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。多個(gè)腔可以包括第三腔，第三腔設(shè)置在第二腔附近，從第二腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第三腔中，在第三腔中通過將激光束照射在膜或襯底上將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上。將轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底上的步驟可以包括對(duì)準(zhǔn)掩模和襯底，以及將激光束照射到膜或襯底上。多個(gè)腔可以包括第四腔，第四腔設(shè)置在第三腔附近，從第三腔輸出的彼此接觸的膜和襯底輸入到第四腔，在第四腔中，襯底與膜分開。第二輥可以設(shè)置在第四腔中。在將襯底與膜分離時(shí)，支撐膜的分離輥可在與襯底分離的方向上卷繞膜。襯底可以設(shè)置在膜的上面。閘單元可以包括閘塊對(duì)、多個(gè)墊單元和多個(gè)真空抽吸孔，閘塊對(duì)彼此面對(duì)地設(shè)置，并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分離，多個(gè)墊單元設(shè)置在閘塊彼此面對(duì)的表面上且支撐膜，多個(gè)真空抽吸孔安裝在閘塊和墊中，以分別與多個(gè)墊單元對(duì)應(yīng)，并且在彼此接近的閘塊對(duì)將模支撐在多個(gè)墊單元之間的狀態(tài)中，通過多個(gè)真空抽吸孔使多個(gè)墊單元之間的間隔變成真空。
多個(gè)墊單元中的每個(gè)可以還包括抽吸單元，抽吸單元具有在多個(gè)膜附近延伸的邊緣，通過膜的壓力使該邊緣彈性地變形。


圖I是示意地示出了根據(jù)實(shí)施方式通過用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法而制備的有機(jī)發(fā)光顯示面板的結(jié)構(gòu)的截面圖。圖2是根據(jù)實(shí)施方式設(shè)成輥對(duì)輥形式的供體膜的截面圖。圖3是根據(jù)實(shí)施方式示意地示出了用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置的結(jié)構(gòu)的視圖。圖4是示意地示出了圖3的加料腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖5是示意地示出了圖3的第一腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖6是示意地示出了圖5的沉積單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖7是示意地示出了圖3的第二腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖8是示意地示出了圖7的上部組合輥和下部組合輥的結(jié)構(gòu)的視圖。圖9是示意地示出了圖3的第三腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖10是示意地示出了圖9的掩模、第一相機(jī)單元和第二相機(jī)單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖11是示意地示出了圖3的第四腔的結(jié)構(gòu)的視圖。圖12是示意地示出了閘單元的結(jié)構(gòu)的視圖。圖13是圖12的部分A的放大截面圖。
具體實(shí)施例方式對(duì)有機(jī)發(fā)光層進(jìn)行構(gòu)圖的方法包括激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)。LITI是將光源照射出的激光轉(zhuǎn)換成熱能且利用該熱能將圖案形成材料轉(zhuǎn)移到目標(biāo)襯底的方法，從而形成圖案。為了使用該方法，需要在其上形成轉(zhuǎn)移層的供體膜、光源和目標(biāo)襯底。根據(jù)LITI，供體膜覆蓋作為受體的整個(gè)目標(biāo)襯底，并且供體膜和目標(biāo)襯底固定在臺(tái)上。在供體膜上進(jìn)行激光轉(zhuǎn)印，以完成構(gòu)圖。但是，LITI的某些過程在接近于真空的情況下進(jìn)行，另外一些過程在大氣壓下進(jìn)行。因此，在供體膜和目標(biāo)襯底相結(jié)合的過程中，因?yàn)榭諝獗幌拗圃诠w膜和目標(biāo)襯底之間，所以會(huì)產(chǎn)生空洞(void)。因此，產(chǎn)生結(jié)合缺陷。此外，當(dāng)供體膜和目標(biāo)襯底彼此分開時(shí)，由于填充供體膜和目標(biāo)襯底之間的間隙的空氣，所以有機(jī)物質(zhì)附著于供體膜。結(jié)果，生產(chǎn)率降低且處理時(shí)間延長。在整個(gè)說明書中，本文中使用的諸如“第一”和“第二”的術(shù)語僅用于描述各種組成元件，不應(yīng)通過該術(shù)語限制組成元件。該術(shù)語僅用于將一個(gè)組成元件與另一組成部分相區(qū)分。例如，第一組成元件可以稱作第二組成元件，反之亦然。本說明書中使用的術(shù)語僅用于解釋實(shí)施方式。因此，本說明書中單數(shù)的表示包括復(fù)數(shù)的表示，除非上下文中明確的規(guī)定。同時(shí)，諸如“包括”或“包含”的術(shù)語可視為表示某一特征、數(shù)量、步驟、操作、組成元件或其組合，不應(yīng)視為排除一個(gè)或多個(gè)其他特征、數(shù)字、步驟、操作、組成元件或其組合的存在或增加的可能性。將參照附圖詳細(xì)地描述實(shí)施方式。在附圖中，相同的參考標(biāo)記表示相同的元件。 圖I是示意地示出了根據(jù)實(shí)施方式通過用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置及使用其制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法而制備的有機(jī)發(fā)光顯示面板100的結(jié)構(gòu)的截面圖。參照圖1，有機(jī)發(fā)光顯示面板100包括第一襯底101。第一襯底101可以由諸如玻璃或塑料的絕緣襯底形成。也可以使用具有絕緣處理表面的金屬襯底。緩沖層102形成在第一襯底101上。緩沖層102由有機(jī)物質(zhì)或無機(jī)物質(zhì)形成，或者具有有機(jī)物質(zhì)和無機(jī)物質(zhì)交替沉積的結(jié)構(gòu)。緩沖層102具有阻擋氧氣和水分的功能，同時(shí)具有防止從第一襯底101產(chǎn)生的水分或雜質(zhì)的散布的功能。具有預(yù)定圖案的半導(dǎo)體活性層103形成在緩沖層102上。半導(dǎo)體活性層103可以由非晶硅或多晶硅形成。半導(dǎo)體活性層103還可以由氧化物半導(dǎo)體形成。例如，半導(dǎo)體活性層103可以是G-I-Z-O層[(In203)a(Ga203)b(Zn0)c層](a、b和c分別是實(shí)數(shù)，并滿足a彡0，b彡0，c>0)。此外，半導(dǎo)體活性層103也可以由有機(jī)半導(dǎo)體材料形成。源極區(qū)104和漏極區(qū)105形成在半導(dǎo)體活性層103上。溝道區(qū)106是源極區(qū)104和漏極區(qū)105之間的區(qū)域。由柵絕緣層107覆蓋半導(dǎo)體活性層103。柵絕緣層107可以由SiO2的單層或SiO2和SiNx的雙層形成。在柵絕緣層107的上表面上的預(yù)定區(qū)域中形成柵電極108。柵電極108連接到施加薄膜晶體管開/關(guān)信號(hào)的柵極線(未示出)。柵電極108可以由一種金屬或多種金屬形成，并且可由Mo、MoW、Cr、Al、Al合金、Mg、Al、Ni、W、Au等的單層膜或其組合的多層膜形成。層間絕緣層109形成在柵電極108的上表面上。源電極110經(jīng)由接觸孔電連接到源極區(qū)104。漏電極111電連接到漏極區(qū)105。保護(hù)層112或者鈍化和/或平坦化層112形成在源電極110和漏電極111的上表面上。保護(hù)層112可以由有機(jī)材料(例如壓克力或苯并環(huán)丁烯(BCB))或無機(jī)材料(例如SiNx)形成，并且可以具有各種變型，例如單層、雙層或多層。有機(jī)發(fā)光裝置114的第一電極115形成在保護(hù)層112的上表面上。像素限定層(PDU113可以由有機(jī)和/或無機(jī)材料形成，像素限定層113形成為覆蓋第一電極115的邊緣。第一電極115電連接到源電極110和漏電極111之一。有機(jī)層116形成在第一電極115的上表面上。有機(jī)發(fā)光裝置114的第二電極117形成在有機(jī)層116的上表面上。在有機(jī)發(fā)光裝置114的電極中，第一電極115用作陽極并且可以由各種傳導(dǎo)材料形成。在本實(shí)施方式中，第一電極115可以以透明電極或反射電極形成。例如，當(dāng)用作透明電極時(shí),第一電極115可以由ITO、IZ0、Zn0或In2O3形成。當(dāng)?shù)谝浑姌O115用作反射電極時(shí)，反射層由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、或其化合物形成，然后由ITO、IZO、ZnO、或In2O3形成的層形成在反射層上。在有機(jī)發(fā)光裝置114的電極中，第二電極117用作陰極并且可以形成為透明電極或反射電極。當(dāng)?shù)诙姌O117用作透明電極時(shí)，具有低功函數(shù)的金屬(即Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或其化合物)沉積在有機(jī)層116上，以具有較薄的厚度，然后可以使用形成透明電極的材料形成輔助電極層或總線電極線。當(dāng)用作反射電極時(shí)，通過將Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或其化合物沉積在顯示器的整個(gè)表面上來形成第二電極117。當(dāng)以透明電極或反射電極形成時(shí)，第一電極115可以具有與每個(gè)子像素的開口形狀相對(duì)應(yīng)的形狀?？梢酝ㄟ^將透明電極或反射電極沉積在顯示區(qū)的整個(gè)表面上，以形成第二電極117。第二電極117可以不必沉積在整個(gè)表面上，并且可以以各種圖案形成。第一電 極115和第二電極117可以沉積在相對(duì)的位置處。對(duì)于有機(jī)層116，可以使用小分子或聚合物有機(jī)層。當(dāng)使用小分子有機(jī)材料時(shí)，有機(jī)層116可以包括空穴注入傳輸層(HITL)、發(fā)光層(EML)和電子注入傳輸層(EITL)，它們沉積在單一結(jié)構(gòu)或復(fù)合結(jié)構(gòu)中。此外，對(duì)于有機(jī)層116，可以使用各種可用的有機(jī)材料，例如，酞菁銅(CuPc) N，N’ - 二(萘-I-基)-N，N’ - 二苯基-聯(lián)苯胺(NPB)、三-8-羥基喹啉鋁(Alq3)?？梢酝ㄟ^諸如真空沉積方法的方法形成這些小分子有機(jī)材料。當(dāng)使用聚合物有機(jī)材料時(shí)，有機(jī)層116可以包括HITL和EML。PEDOT用作HITL，諸如基于聚亞苯基乙烯(PPV)的材料或基于聚芴的材料的聚合物有機(jī)材料用作EML，其可以通過絲網(wǎng)印刷法或噴墨印刷法形成。有機(jī)層116不限于上述說明，其多種實(shí)施方式都可以使用。第二襯底118設(shè)在有機(jī)發(fā)光裝置114上面。第二襯底118可以是玻璃襯底或塑料襯底。代替第二襯底118，可通過使用覆蓋有機(jī)發(fā)光裝置114的薄膜，將有機(jī)發(fā)光裝置114密封，以不受外部空氣影響。在本說明書中，襯底120是指在形成包括EML的有機(jī)層116之前的狀態(tài)中的襯底。襯底120可以包括在有機(jī)層116中形成HITL的狀態(tài)。圖2是根據(jù)實(shí)施方式以輥對(duì)輥形式設(shè)置的供體膜200的截面圖。參照圖2，供體膜200包括基底膜203、設(shè)置在基底膜203上面的轉(zhuǎn)移層205、設(shè)置在基底膜203和轉(zhuǎn)移層205之間的光熱轉(zhuǎn)換層204。在向供體膜200照射激光束時(shí)，光熱轉(zhuǎn)換層204將光能轉(zhuǎn)換成熱能，因此轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120。用于實(shí)施特定功能(例如阻擋水分)的功能層可以進(jìn)一步設(shè)置在轉(zhuǎn)移層205的上表面、轉(zhuǎn)移層205和光熱轉(zhuǎn)換層204之間以及光熱轉(zhuǎn)換層204和基底膜203之間的任一處。在本說明書，沒有形成轉(zhuǎn)移層205的狀態(tài)稱為第一膜201，完全形成轉(zhuǎn)移層205的狀態(tài)稱為第二膜202。在一個(gè)實(shí)施方式中，當(dāng)供體膜200連續(xù)地通過多個(gè)腔時(shí)，以激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)方法制備有機(jī)發(fā)光顯示面板。圖3是根據(jù)實(shí)施方式示意地示出了用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置的結(jié)構(gòu)的視圖。參照圖3，用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置包括連續(xù)排列的第一、第二、第三和第四腔310、320、330和340。加料腔350和卸料腔360分別與第一腔310和第四腔340連通。在一個(gè)實(shí)施方式中，第一至第四腔310-340是獨(dú)立的真空腔。圖4是示意地示出了圖3的加料腔350的結(jié)構(gòu)的視圖。加料腔350與第一腔310連通，且將第一膜201提供到第一腔310。至少一個(gè)第一輥205設(shè)置在加料腔350中。加料腔350可以包括加載鎖定腔，以便于分離和安裝第一輥205。當(dāng)以新的第一輥更換使用中的第一輥205a時(shí)，可以在僅僅是加料腔350進(jìn)行排氣操作之后的產(chǎn)品維護(hù)(PM)操作期間，進(jìn)行該更換。也就是說，已處于準(zhǔn)備狀態(tài)的第一輥205b的第一膜201b被結(jié)合到正進(jìn)行操作的第一輥205a的第一膜201a上，然后在切斷點(diǎn)C2處切斷第一膜201a。此后，對(duì)加料腔350進(jìn)行真空泵抽。圖5是示意地示出了圖3的第一腔310的結(jié)構(gòu)的視圖。第一腔310包括安裝在內(nèi)部的沉積單元315。第一膜201從加料腔350通過第一腔310的一側(cè)進(jìn)入。沉積單元315通過在第一膜201的一個(gè)表面上形成轉(zhuǎn)移層205，而形成第二膜 202。第二膜202通過第一腔310的另一側(cè)輸出到第一腔310的外部。沉積單元315包括多個(gè)支撐輥311、多個(gè)輔助輥312和沉積源314。支撐輥311連接到獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)源(未示出)，以在一個(gè)方向上轉(zhuǎn)動(dòng)，并且支撐棍311可以支撐第一膜201的下表面。輔助輥312可以支撐第一膜201的上表面。如圖6所示，凹進(jìn)部分313形成在輔助輥312的中央部分，以支撐除第一膜201的上表面的沉積區(qū)域之外的其他區(qū)域，從而可以防止在第一膜201的上表面上形成的轉(zhuǎn)移層205損壞。輔助輥312可以設(shè)置在從沉積源314輸出用于轉(zhuǎn)移層205的材料的區(qū)域的外部。設(shè)置在第一膜201上面的沉積源314向第一膜201的上表面噴射用于轉(zhuǎn)移層205的材料。第一腔310可以處于真空狀態(tài)。雖然在圖5和6所示的實(shí)施方式中，沉積源314設(shè)置在第一膜201的上面并且在第一膜201的上表面上形成轉(zhuǎn)移層205，但是沉積源314可以設(shè)置在第一膜201的下面，以在第一膜201的下表面上形成轉(zhuǎn)移層205。圖7是示意地示出了圖3的第二腔320的結(jié)構(gòu)的視圖。第二腔320設(shè)置在第一腔310附近，從第一腔310輸出的第二膜202通過第二腔320的一側(cè)輸入到第二腔320中。組合單元328設(shè)置在第二腔320中。組合單元328抵靠襯底120在第二腔320中緊壓第二膜。與襯底120緊密接觸的第二膜202通過第二腔320的另一側(cè)輸出到外部。組合單元328包括襯底輸入設(shè)備329、多個(gè)上部組合輥326和多個(gè)下部組合輥325。襯底輸入設(shè)備329包括支撐單元321和傳送單元322，支撐單元321用于支撐通過獨(dú)立的輸入門輸入到第二腔320中的襯底120，傳送單元322用于從支撐單元321接收襯底120并傳送襯底120。傳送單元322包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)輥324和用于接收支撐單元321的接收單元323?？梢杂啥鄠€(gè)腿部形成支撐單元321。在每個(gè)腿部插入到接收單元323時(shí)，將襯底120容納在置于驅(qū)動(dòng)輥324上的第二膜202上。當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)輥324，以向上部組合輥326和下部組合輥325傳送第二膜202時(shí)，上部組合輥326支撐襯底120，下部組合輥325支撐第二膜202。組合輥326和325擠壓插入它們之間的第二膜202和襯底120，以使第二膜202和襯底120彼此緊密地接觸。如圖8所示，每個(gè)上部組合輥326在其中央部分具有凹進(jìn)部分327，凹進(jìn)部分327以稍小于襯底120厚度的距離凹進(jìn)。因此，每個(gè)上部組合輥326的中央部分通過擠壓襯底120的上表面來支撐襯底120。
第二腔320可以處于等于或小于第一腔310的真空度的真空狀態(tài)。在圖7和8的實(shí)施方式中，雖然襯底120容納在第二膜202的上表面上，但是襯底120也可以容納在第二膜202的下表面上。圖9是示意地示出了圖3的第三腔330的結(jié)構(gòu)的視圖。參照圖9，第三腔330設(shè)置在第二腔320附近，從第二腔320輸出的與襯底120緊密接觸的第二膜202輸入到第三腔330中。用于通過向第二膜202或襯底120上照射激光以將轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120的轉(zhuǎn)移單元336安裝在第三腔330中。轉(zhuǎn)移單元336包括光束照射器335、掩模332和對(duì)準(zhǔn)器337，光束照射器335用于向第二膜202或襯底120上照射激光束，掩模332插入在光束照射器335和第二膜202或襯底120之間，對(duì)準(zhǔn)器337用于對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。通過第三腔330中的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輥331，將襯底120和第二膜202傳送到圖9的左偵牝并且將襯底120和第二膜202容納在掩模332上。如圖10所示，在掩模332中形成用于傳輸激光束的圖案。該圖案與在襯底120上形成的像素圖案相對(duì)應(yīng)。
通過對(duì)準(zhǔn)器337對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。首先，第一相機(jī)單元333識(shí)別在襯底120上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，用于識(shí)別像素起點(diǎn)的第二相機(jī)單元334將掩模332與襯底120對(duì)準(zhǔn)。獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置連接到掩模332，從而可以通過對(duì)掩模332的精細(xì)調(diào)整，使掩模332對(duì)準(zhǔn)襯底120。在掩模332和襯底120對(duì)準(zhǔn)之后，由光束照射器335照射激光束，以使第二膜202上形成的轉(zhuǎn)移層205轉(zhuǎn)移到襯底120。第三腔330可以處于基本等于或小于第二腔320的
真空度的真空狀態(tài)。雖然圖9示出了光束照射器335設(shè)置在第三腔330的內(nèi)部，但光束照射器335也可以設(shè)置在第三腔330的外部，激光束可以通過聚光透鏡在第二膜202的光熱轉(zhuǎn)換層204處聚焦。圖11是示意地示出了圖3的第四腔340的結(jié)構(gòu)的視圖。參照圖11，第四腔340設(shè)置在第三腔330附近，與從第三腔330輸出的襯底120緊密接觸的第二膜202輸入到第四腔340中。用于將第二膜202和襯底120彼此分開的分離單元342設(shè)置在第四腔340中。分離單元342包括分離輥341，分離輥341支撐第二膜202且在一個(gè)方向上卷繞第二膜202，以使第二膜202與襯底120分開。在圖11的實(shí)施方式中，分離輥341在向下方向上卷繞第二膜202，以連接到第二輥206。為了快速的分離處理，第二輥206可以設(shè)置在第四腔340中，并且可以在PM操作期間更換第二輥206。當(dāng)在如上所述的第三腔330中完成LITI時(shí)，第二膜202的轉(zhuǎn)移層205以與掩模332的圖案相對(duì)應(yīng)的圖案轉(zhuǎn)移到襯底120。在此狀態(tài)中，與掩模332的圖案相對(duì)應(yīng)的第二膜
202(轉(zhuǎn)移層205已從其上除去)通過分離輥341，以被卷繞在第二輥206上。為了便于分離處理，襯底120可以設(shè)置在上側(cè)中，而第二膜202可以設(shè)置在下側(cè)中。如圖2所示，第二膜202包括光熱轉(zhuǎn)換層204，光熱轉(zhuǎn)換層204將激光束轉(zhuǎn)換為熱能。轉(zhuǎn)移層205由于熱能轉(zhuǎn)移到襯底120。轉(zhuǎn)移層205由于熱能融化且粘至襯底120的表面。熔化和粘著之后，由于重力，第二膜202趨于自然落下。在此狀態(tài)中，當(dāng)分離輥341向第二膜202'施加力，以使第二膜202'面向下時(shí)，第二膜202'自然地與襯底120分開。第四腔340可以處于基本等于或小于第三腔330的真空度的真空狀態(tài)。
已經(jīng)通過處理的襯底120被傳送到如圖3所示的卸料腔360中，并且在隨后的處
理中取出。在一個(gè)實(shí)施方式中，如圖12和13所示，閘單元400安裝在至少一個(gè)腔的膜入口和膜出口中的至少一個(gè)處，以在供體膜200通過時(shí)，保持內(nèi)部真空度。例如，閘單元400可以安裝在加料腔350和第一腔310之間、第一和第二腔310和320之間、第三和第四腔330和340之間、和/或第四腔340和卸料腔360之間。圖12是示意地示出了安裝在加料腔350和第一腔310之間的閘單元400的實(shí)施例的視圖。圖13是圖12的部分A的放大截面圖。第一閘塊410和第二閘塊420設(shè)置為彼此面對(duì)，并且可以被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開。第一和第二閘塊410和420都可以被驅(qū)動(dòng)，或者閘塊410和420中的一個(gè)可以被固定， 而另一個(gè)被驅(qū)動(dòng)。多個(gè)第一墊單元411形成在第一閘塊410面向第二閘塊420的表面上，多個(gè)第二墊單元421形成在第二閘塊420面向第一閘塊410的表面上。第一墊單元411和第二墊單元421從彼此面對(duì)的第一和第二閘塊410和420的表面突出。當(dāng)驅(qū)動(dòng)第一和第二閘塊410和420以彼此接近時(shí)，也就是說實(shí)施關(guān)閉操作時(shí)，第一墊單元411和第二墊單元421彼此接觸。第一真空抽吸孔412形成在第一閘塊410中，并且延伸到每個(gè)第一墊單元411。第二真空抽吸孔422形成在第二閘塊420中，并且延伸到每個(gè)第二墊單元421。每個(gè)第一墊單元411還包括第一抽吸單元413，第一抽吸單元413位于每個(gè)第一墊單元411面對(duì)每個(gè)第二墊單元421的表面上。第一抽吸單元413延伸，以使其邊緣向下彎曲。當(dāng)向下擠壓第一抽吸單元413時(shí)，邊緣向上彈性形變。每個(gè)第二墊單元421還包括第二抽吸單元423，第二抽吸單元423位于每個(gè)第二墊單元421面對(duì)每個(gè)第一墊單元411的表面上。第二抽吸單元423延伸，以使其邊緣向上彎曲。當(dāng)向上擠壓第二抽吸單元423時(shí)，邊緣向下彈性形變。第一抽吸單元413和第二抽吸單元423可以由彈性材料形成，例如橡膠、氨基甲酸酯或硅。在圖13中，第一抽吸單元413示出為大于第二抽吸單元423。但是，第二抽吸單元423也可以形成為大于第一抽吸單元413?？蛇x地，第一抽吸單元413和第二抽吸單元423可以具有相同的尺寸。第一真空抽吸孔412和第二真空孔422可以分別延伸到第一抽吸單元413和第二抽吸單元423。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，當(dāng)閘單元400關(guān)閉時(shí)，第一和第二塊410和420之間的間隔的真空度高于連接的腔，也就是說，經(jīng)由第一和第二真空抽吸孔412和422、第一和第二墊單元411和421、特別是第一和第二抽吸單元413和423，第一腔310可以利用真空壓力的差異吸住第一膜201。如上所述，因?yàn)榈谝缓偷诙槲鼏卧?13和423由彈性材料形成，從而彈性地變形并緊密地接觸第一膜201。因此,可以使用閘單元400保持第一腔310的密封。當(dāng)閘單元400打開時(shí)，第一和第二閘塊410和420之間的間隔可以減小。在一個(gè)實(shí)施方式中，第一膜201的厚度為約0. Olmm到約1mm，因此除了在與襯底120 —起移動(dòng)的情況下，第一和第二閘塊410和420之間的間隔可以保持為盡可能地窄。因此，可以保持安裝閘單元400的腔的真空度。因此，每當(dāng)在每個(gè)腔中進(jìn)行操作時(shí)，關(guān)閉閘單元400以保持密封。當(dāng)傳遞膜201時(shí)，閘單元400是打開的，以使真空損失盡可能地低。接著，將要描述使用根據(jù)實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示面板制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的方法。首先，如圖I所示，制備襯底120，在襯底120中，第一電極115和像素限定層113形成在保護(hù)層112上。在襯底120中，有機(jī)層116的HITL可以形成在第一電極115和像素限定層113上。制備如圖2所示的第一膜201。第一膜201卷繞在如圖3所示的第一輥205上。
在處理的最初階段，繞第一輥205卷繞的第一膜201可以卷繞在位于第四腔340中的第二輥206上。這旨在以輥對(duì)輥的處理方法進(jìn)行全面處理。獨(dú)立地保持每個(gè)腔的真空度。當(dāng)進(jìn)行處理時(shí)，安裝在相鄰腔之間的閘單元400打開，第一膜201從加料腔350移動(dòng)到第一腔310。在第一腔310中，由支撐輥311支撐第一膜201的下表面，由輔助輥312支撐第一膜201的上表面。輔助輥312支撐除了第一膜201的上表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域。沉積源314向第一膜201的上表面噴射用于轉(zhuǎn)移層205的材料。因此,轉(zhuǎn)移層205形成在第一膜201的上表面上，當(dāng)?shù)谝荒?01離開第一腔310時(shí)，第一膜201變成第二膜202。在沉積期間，關(guān)閉閘單元400，從而可以保持第一腔310的真空度。當(dāng)加料腔350和第一腔310的真空度基本相同時(shí)，可以打開加料腔350和第一腔310之間的閘單元400。當(dāng)?shù)谝磺?10和第二腔320的真空度相同時(shí)，可以打開第一腔310和第二腔320之間的閘單元400。接著，打開第一和第二腔310和320之間的閘單元400，從第一腔310輸出的第二膜202傳送到第二腔320。傳送之后，關(guān)閉第一和第二腔310和320之間的閘單元400，并且可以在第二腔320中進(jìn)行處理。但是，當(dāng)?shù)谝缓偷诙?10和320的真空度相同時(shí)，可以打開兩個(gè)腔310和320之間的閘單元400。襯底120通過獨(dú)立的入口輸入到第二腔320中。由支撐單元321支撐輸入到第二腔320中的襯底120。當(dāng)支撐部分321下降且插入接收單元323中時(shí)，襯底120容納在置于驅(qū)動(dòng)輥324上的第二膜202上。在此狀態(tài)中，當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)輥324以向上部組合輥326和下部組合輥325傳送第二膜202時(shí)，上部組合輥326支撐襯底120，下部組合輥325支撐第二膜202。上部和下部組合輥326和325擠壓插入它們之間的第二膜202和襯底120，以使第二膜202和襯底120彼此緊密地接觸。因?yàn)樯喜拷M合輥326的中央部分具有凹進(jìn)部分327，如圖8所示，凹進(jìn)部分327以稍微小于襯底120的厚度凹進(jìn)，因此上部組合輥326的中央部分?jǐn)D壓和支撐襯底120的上表面。接著，打開第二腔320和第三腔330之間的閘單元400，從第二腔320輸出的第二膜202和襯底120傳送到第三腔330。傳送之后，關(guān)閉第二和第三腔320和330之間的閘單元400，并且可以在第三腔330中進(jìn)行處理。但是，當(dāng)?shù)诙偷谌?20和330的真空度基本相同時(shí)，可以在處理期間打開腔320和330之間的閘單元400。
通過第三腔330中的驅(qū)動(dòng)輥331將襯底120和第二膜202 —起傳送，并且將襯底120和第二膜202容納在掩模332上。第一相機(jī)單元333識(shí)別在襯底120上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。通過用于識(shí)別像素的開始部分的第二相機(jī)單元334對(duì)準(zhǔn)掩模332和襯底120。掩模332連接到獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置，因此可以通過對(duì)掩模332的精細(xì)調(diào)整使掩模332對(duì)準(zhǔn)襯底120。在掩模332和襯底120對(duì)準(zhǔn)之后，光束照射器335照射激光束，以將形成在第二膜202上的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底120。接著，打開第三腔330和第四腔340之間的閘單元400，從第三腔330輸出的第二 膜202和襯底120傳送到第四腔340。通過使第三和第四腔330和340的真空度相同，可以打開第三腔330和第四腔340之間的閘單元400。在第四腔340中，因?yàn)榉蛛x輥341從第二膜202的下面卷繞將連接到第二輥206的第二膜202，所以第二膜202與襯底120分開。如此，為了便于分離處理，第二輥206可以設(shè)置在第四腔340中。如上所述，第二膜202設(shè)置在襯底120下面。上述的輥對(duì)輥處理可以通過改變每個(gè)腔的位置進(jìn)行各種改變。例如，如圖5所示，可以反轉(zhuǎn)第一膜的輸入方向，以在圖5的沉積處理中，使沉積源314設(shè)置在第一膜201的下面。在這種情況下，第二至第四腔320-340和卸料腔360設(shè)置在第一腔310的上面或下面，從而可以反轉(zhuǎn)從第一腔310輸出的第二膜202的上/下側(cè)和行進(jìn)方向。流向的反轉(zhuǎn)可以出現(xiàn)在第一和第二腔310和320之間、第二和第三腔320和330之間、和/或第三和第四腔330和340之間。可以在第一腔310的前端進(jìn)一步設(shè)置測試區(qū)，也就是說，在加料腔350中或在加料腔350和第一腔310之間，從而可以檢測第一膜201的缺陷。此外，可以在第四腔340中進(jìn)一步設(shè)置測試區(qū)。因此，已經(jīng)完成LITI處理的第二膜202'的缺陷可以通過復(fù)查測試進(jìn)行檢測，因此可以改進(jìn)第一至第四腔310-340中的每個(gè)處理。根據(jù)公開的實(shí)施方式中的至少一個(gè)，輥對(duì)輥型LITI方法在某些部分中連續(xù)地或非連續(xù)地呈現(xiàn)。因此，可以更加高效地制備有機(jī)發(fā)光顯示面板。此外，因?yàn)榭梢元?dú)立地保持每個(gè)腔的真空度并且在處理期間防止了襯底和/或膜暴露于空氣，因此可以防止由于空氣產(chǎn)生的缺陷(即在供體膜和襯底結(jié)合的過程中，當(dāng)空氣被限制在供體膜和襯底之間時(shí)形成的空洞)。此外，可以防止根據(jù)上述使生產(chǎn)率降低的問題而導(dǎo)致的結(jié)合缺陷。此外，當(dāng)供體膜與襯底彼此分開時(shí)，可以防止背面轉(zhuǎn)印現(xiàn)象，在背面轉(zhuǎn)印現(xiàn)象中，當(dāng)供體膜和襯底彼此分開時(shí)，由于侵入在供體膜和襯底之間的空氣，有機(jī)物質(zhì)附著于供體膜上。因此，可以改善產(chǎn)率且可以減少處理時(shí)間。雖然已經(jīng)參照附圖描述了上述實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不背離權(quán)利要求的精神和范圍的情況下，本發(fā)明的形式和細(xì)節(jié)可以進(jìn)行各種改變。
權(quán)利要求
1.一種用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置，包括 第一輥，膜卷繞在所述第一輥上，從而被連續(xù)地拉拽； 第二輥，設(shè)置為面向所述第一輥，并且所述膜連續(xù)地卷繞在所述第二輥上； 多個(gè)腔，設(shè)置在所述第一輥和第二輥之間，所述膜通過所述多個(gè)腔，并且基于在所述膜上形成的轉(zhuǎn) 移層，在所述多個(gè)腔中在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)??；以及 閘單元，安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)中，并且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在所述膜通過時(shí)，保持所述腔中的基本真空狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第一腔，所述第一腔配置為接收由所述第一輥釋放的所述膜，其中所述第一腔包括沉積單元，所述沉積單元配置為在所述膜的第一表面上形成所述轉(zhuǎn)移層，并且其中所述第一腔配置為輸出其上形成有所述轉(zhuǎn)移層的所述膜。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述沉積單元包括 多個(gè)支撐輥，配置為支撐所述膜的第二表面，其中所述第二表面與所述第一表面相對(duì)； 多個(gè)輔助輥，支撐除了所述膜的所述第一表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域；以及 沉積源，配置為向所述膜的所述第一表面噴射用于所述轉(zhuǎn)移層的材料。
4.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第二腔，所述第二腔設(shè)置為鄰近于所述第一腔，并且所述第二腔配置為接收從所述第一腔輸出的所述膜，其中所述第二腔包括組合單元，所述組合單元配置為使所述膜和所述襯底彼此緊密接觸，以使所述膜的所述轉(zhuǎn)移層面向所述襯底，并且其中所述第二腔進(jìn)一步配置為輸出所述膜和襯底。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述組合單元包括i)襯底輸入設(shè)備和ii)多個(gè)上部和下部組合輥，所述襯底輸入設(shè)備配置為使輸入到所述第二腔中的所述襯底接觸所述膜，所述多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐所述膜和襯底； 并且其中，所述上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。
6.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第三腔，所述第三腔設(shè)置為鄰近于所述第二腔，并且所述第三腔配置為接收從所述第二腔輸出的所述膜和襯底，其中所述第三腔包括轉(zhuǎn)移單元，所述轉(zhuǎn)移單元配置為基于照射在所述膜或所述襯底上的激光束，使所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底，并且其中所述第三腔進(jìn)一步設(shè)置為輸出所述膜和襯底。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述轉(zhuǎn)移單元包括i)光束照射器、ii)掩模和iii)對(duì)準(zhǔn)器，所述光束照射器配置為將激光束照射在所述膜或所述襯底上，所述掩模插入在所述光束照射器和所述膜或所述襯底之間，所述對(duì)準(zhǔn)器配置為對(duì)準(zhǔn)所述掩模和所述襯底。
8.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述多個(gè)腔包括第四腔，所述第四腔設(shè)置為鄰近于所述第三腔，并且所述第四腔配置為接收從所述第三腔輸出的所述膜和襯底，其中所述第四腔包括分離單元，所述分離單元配置為將所述襯底與所述膜分離，并且其中所述第四腔進(jìn)一步配置為輸出所述襯底。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述第二輥設(shè)置在所述第四腔中。
10.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述分離單元包括分離輥，所述分離輥在一個(gè)方向上卷繞所述膜，以使所述膜與所述襯底分開。
11.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述襯底設(shè)置在所述膜的上面。
12.如權(quán)利要求I所述的裝置，其中，所述閘單元包括i)一對(duì)閘塊、ii)多個(gè)墊單元和iii)多個(gè)真空抽吸孔，所述一對(duì)閘塊設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開，所述多個(gè)墊單元設(shè)置在所述閘塊彼此面向的表面上且支撐所述膜，所述多個(gè)真空抽吸孔安裝在所述閘塊和墊中，以分別與所述墊單元對(duì)應(yīng)。
13.如權(quán)利要求12所述的裝置，其中，每個(gè)所述墊單元還包括抽吸單元，所述抽吸單元具有延伸接近所述膜的邊緣，并且其中所述邊緣配置為基于從所述膜施加的壓力彈性形變。
14.一種制備有機(jī)發(fā)光顯不面板的方法,包括 制備第一輥，膜卷繞所述第一輥； 將所述膜從所述第一輥連續(xù)地拉拽，以使所述膜通過多個(gè)腔，在所述膜通過多個(gè)腔的過程中，進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印，以將所述膜上形成的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到襯底； 當(dāng)所述膜通過所述多個(gè)腔時(shí)，通過閘單元在每個(gè)所述腔中保持基本真空狀態(tài)，所述閘單元安裝在所述多個(gè)腔的至少一個(gè)處并且設(shè)置在所安裝的所述多個(gè)腔的每個(gè)的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處；以及 在與所述第一輥對(duì)應(yīng)設(shè)置的第二輥周圍，連續(xù)地卷繞通過所述多個(gè)腔的所述膜。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第一腔，所述第一腔配置為接收由所述第一輥釋放的所述膜，并且其中在所述第一腔中所述轉(zhuǎn)移層形成在所述膜的第一表面上。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，形成所述轉(zhuǎn)移層的步驟包括 經(jīng)由多個(gè)支撐輥支撐所述膜的第二表面，其中所述第二表面與所述第一表面相對(duì)； 經(jīng)由多個(gè)輔助輥支撐除了所述膜的所述第一表面的沉積區(qū)域之外的區(qū)域；以及 向所述膜的所述第一表面沉積用于所述轉(zhuǎn)移層的材料。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第二腔，所述第二腔設(shè)置為鄰近于所述第一腔，并且所述第二腔配置為i)接收從所述第一腔輸出的所述膜，ii)使所述膜和所述襯底在所述第二腔中彼此緊密地接觸，以使所述膜的所述轉(zhuǎn)移層面向所述襯底。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，使所述膜和所述襯底彼此緊密地接觸的步驟包括 將經(jīng)由襯底輸入設(shè)備將輸入到所述第二腔中的所述襯底與所述膜接觸；以及 經(jīng)由多個(gè)上部和下部組合輥分別從上側(cè)和下側(cè)支撐所述膜和襯底； 其中，所述上部和下部組合輥中的至少一個(gè)具有凹進(jìn)的中央部分。
19.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第三腔，所述第三腔設(shè)置為鄰近于所述第二腔，并且所述第三腔配置為接收從所述第二腔輸出的所述膜和襯底，其中基于照射在所述第三腔中的所述膜或所述襯底上的激光束，將所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，將所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到所述襯底的步驟包括 對(duì)準(zhǔn)掩模和所述襯底；以及 將激光束照射到所述膜或所述襯底上。
21.如權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述多個(gè)腔包括第四腔，所述第四腔設(shè)置為鄰近于所述第三腔，并且所述第四腔配置為接收從所述第三腔輸出的所述膜和襯底，在所述第四腔中，所述襯底與所述膜分開。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，所述第二輥設(shè)置在所述第四腔中。
23.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，將所述膜分開的步驟包括經(jīng)由分離輥卷繞所述膜，所述分離輥在一個(gè)方向上支撐所述膜，以將所述膜與所述襯底分開。
24.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述襯底設(shè)置在所述膜的上面。
25.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述閘單元包括i)一對(duì)閘塊、ii)多個(gè)墊單元和iii)多個(gè)真空抽吸孔，所述一對(duì)閘塊設(shè)置為彼此面對(duì)并且被驅(qū)動(dòng)為彼此接近和分開，所述多個(gè)墊單元設(shè)置在所述閘塊彼此面對(duì)的表面上且支撐所述膜，所述多個(gè)真空抽吸孔安裝在所述閘塊和墊中，以分別與所述墊單元對(duì)應(yīng)，并且所述多個(gè)真空抽吸孔處于彼此接近的所述一對(duì)閘塊將所述膜支撐在所述墊單元之間的狀態(tài)中，以及其中通過所述真空抽吸孔使所述墊單元之間的間隔基本變成真空。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其中，每個(gè)所述墊單元還包括抽吸單元，所述抽吸單元 具有延伸到所述膜附近的邊緣，通過從所述膜施加的壓力使所述邊緣彈性形變。
全文摘要
公開了一種用于制備有機(jī)發(fā)光顯示面板的裝置。在一個(gè)實(shí)施方式中，該裝置包括i)第一輥、ii)第二輥、iii)多個(gè)腔和iv)閘單元，膜卷繞在第一輥上以被連續(xù)地拉拽，第二輥設(shè)置為面對(duì)第一輥且膜連續(xù)地卷繞在第二輥上，多個(gè)腔設(shè)置在第一和第二輥之間并且膜通過多個(gè)腔，在多個(gè)腔中，通過在膜上形成轉(zhuǎn)移層，在襯底上進(jìn)行激光熱轉(zhuǎn)印(LITI)，閘單元安裝在至少一個(gè)腔處且設(shè)置在所安裝的腔的膜入口和膜出口的至少一個(gè)處，以在膜通過期間，在腔中保持基本為真空的狀態(tài)。
文檔編號(hào)H01L51/56GK102969461SQ20121030169
公開日2013年3月13日 申請日期2012年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者李炳哲, 樸宰奭, 林在夏, 樸鎮(zhèn)翰, 金東述 申請人:三星顯示有限公司