專利名稱：基板框架抽吸裝置及其控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
實(shí)施例涉及一種基板框架抽吸裝置，該基板框架抽吸裝置抽吸并且固定基板框架。
背景技術(shù)：
當(dāng)制造并且測(cè)試半導(dǎo)體封裝時(shí)，基板框架抽吸裝置被用于抽吸并且固定基板框架?；蹇蚣苤伪桓浇拥酱说陌雽?dǎo)體，以便形成半導(dǎo)體封裝。為了抽吸基板框架，基板框架抽吸裝置包括主體，該主體具有被限定在其中的頂側(cè)開(kāi)放的腔室；抽吸板，該抽吸板覆蓋開(kāi)放的腔室并且被提供有多個(gè)吸氣孔；以及壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，該壓力調(diào)節(jié)設(shè)備被連接到腔室以調(diào)節(jié)腔室中的壓力。 因此，當(dāng)腔室使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備達(dá)到負(fù)壓狀態(tài)時(shí)，負(fù)壓(真空壓力)被轉(zhuǎn)移到基板框架，并且進(jìn)而與吸氣孔相對(duì)應(yīng)的基板框架的部分被抽吸到抽吸板，使得基板框架被固定到基板框架抽吸裝置?；蹇蚣芎透浇拥娇蚣艿陌雽?dǎo)體被測(cè)試，同時(shí)基板框架被固定到基板框架抽吸裝置。

發(fā)明內(nèi)容
至少一個(gè)實(shí)施例提供了一種基板框架抽吸裝置，該基板框架抽吸裝置能夠以穩(wěn)定的方式抽吸基板框架。實(shí)施例的其它方面將會(huì)在下面的描述中被部分地闡述，并且部分地根據(jù)描述將是顯然的，或者可以通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐來(lái)獲知。在一個(gè)實(shí)施例中，基板框架抽吸裝置可以包括主體，該主體具有至少一個(gè)頂側(cè)開(kāi)放的腔室；抽吸板，該抽吸板是由多孔材料制成以覆蓋至少一個(gè)腔室的頂側(cè)；以及壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，該壓力調(diào)節(jié)設(shè)備被連接到至少一個(gè)腔室以調(diào)節(jié)至少一個(gè)腔室中的壓力。至少一個(gè)腔室可以包括使用分隔壁被限定在主體中的多個(gè)腔室。壓力調(diào)節(jié)設(shè)備可以被連接到相應(yīng)的腔室，以便實(shí)現(xiàn)對(duì)于多個(gè)腔室的單獨(dú)壓力調(diào)節(jié)。在一個(gè)實(shí)施例中，提供一種控制基板框架抽吸裝置的方法，該裝置包括多個(gè)腔室、抽吸板和壓力調(diào)節(jié)設(shè)備以抽吸基板框架。該方法可以包括使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)，使得與多個(gè)腔室分別相對(duì)應(yīng)的基板框架的部分被順次地抽吸到抽吸板。使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)可以按照從與基板框架的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室到與基板框架的另一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)可以按照從與基板框架的中心相對(duì)應(yīng)的腔室到與基板框架的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。該方法可以進(jìn)一步包括使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)，使得與多個(gè)腔室分別相對(duì)應(yīng)的基板框架的部分被順次地與抽吸板分尚。
使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)可以按照從與基板框架的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室到與基板框架的另一側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。使多個(gè)腔室順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)可以按照從與基板框架的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)腔室到與基板框架的中心相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的基板框架抽吸裝置可以通過(guò)由多孔材料制成的抽吸板來(lái)抽吸基板框架，并且因此可以均勻地抽吸基板框架的整個(gè)表面。此外，基板框架抽吸裝置可以包括被限定在主體中的多個(gè)腔室，并且因此可以使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備按部分順次地抽吸基板框架部分。以這種方式，基板框架抽吸裝置可以減少或者防止在抽吸基板框架的過(guò)程中可能以其它方式發(fā)生的基板框架的彎曲或者扭曲。


根據(jù)下面結(jié)合附圖進(jìn)行的簡(jiǎn)要描述，將更加清楚地理解示例實(shí)施例。圖I-圖7表 示沒(méi)有限制的在此描述的示例實(shí)施例。圖I是根據(jù)實(shí)施例的基板框架抽吸裝置的透視圖；圖2至圖4是圖示根據(jù)實(shí)施例的基板框架抽吸裝置的操作的側(cè)視圖；以及圖5至圖7是圖示根據(jù)另一實(shí)施例的基板框架抽吸裝置的操作的側(cè)視圖。應(yīng)當(dāng)注意的是，這些附圖旨在圖示在某些示例實(shí)施例中利用的方法、結(jié)構(gòu)和/或材料的普通特性并且補(bǔ)充下面提供的書(shū)面描述。然而，這些附圖沒(méi)有定標(biāo)并且可以不精確地反映任何給定的實(shí)施例的精確的結(jié)構(gòu)或者性能特性，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為限定或者限制由示例實(shí)施例包含的值或者屬性的范圍。例如，為了清楚起見(jiàn)，分子、層、區(qū)域和/或結(jié)構(gòu)元件的相對(duì)厚度和定位可以被減少或者被夸大。在各個(gè)附圖中的相似的或者相同的附圖標(biāo)記的使用旨在指示相似的或者相同的元件或者特征的存在。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參考附圖更加全面地描述示例實(shí)施例，在附圖中示出了示例實(shí)施例。然而，示例實(shí)施例可以以多種不同的形式具體化并且不應(yīng)被解釋為限于在此闡述的實(shí)施例；而是，這些實(shí)施例被提供使得本公開(kāi)將透徹的和全面的，并且對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將完全地傳達(dá)示例實(shí)施例的概念。在附圖中，為了清楚起見(jiàn)，層和區(qū)域的厚度被夸大。附圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件，并且因此將省略它們的描述。將理解的是，當(dāng)元件被稱為“被連接”或者“被耦合”到另一元件時(shí)，其能夠被直接地連接或者耦合到另一元件或者中間元件可以存在。相反地，當(dāng)元件被稱為“被直接地連接”或者“被直接地耦合”到另一元件時(shí)，沒(méi)有中間元件存在。相同的附圖標(biāo)記通篇指示相同的元件。如在此所使用的術(shù)語(yǔ)“和/或”包括所關(guān)聯(lián)的列表項(xiàng)目中的一個(gè)或者多個(gè)的任何和所有組合。應(yīng)當(dāng)以相同的方式(例如，“之間”對(duì)“直接在之間”、“相鄰”對(duì)“直接相鄰”、“在上面”對(duì)“直接在上面”)解釋被用于描述元件或者層之間的關(guān)系的其它詞語(yǔ)。將理解的是，盡管術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等等可以在此被用于描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部件，但是不應(yīng)當(dāng)通過(guò)這些術(shù)語(yǔ)來(lái)限制這些元件、組件、區(qū)域、層以及/或者部件。這些術(shù)語(yǔ)僅用于區(qū)分一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或者部件與另一元件、組件、區(qū)域、層或者部件。因此，在不脫離示例實(shí)施例的教導(dǎo)的情況下，在下面論述的第一元件、組件、區(qū)域、層或者部件可被稱為第二元件、組件、區(qū)域、層或者部件。諸如“在下面”、“在下方”、“較低的”、“在上面”、“上面的”等等的空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)可以在此為方便描述被用于描述如附圖中圖示的一個(gè)元件或者特征與另一元件或者特征的關(guān)系。將理解的是，空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)旨在包含除了在附圖中描述的取向之外的正在使用或者操作的設(shè)備的不同取向。例如，如果附圖中的設(shè)備被顛倒，則被描述為在另一元件的“下方”或者“下面”的元件或者特征的元件將被取向在其它的元件或特征的“上面”。因此，示例性術(shù)語(yǔ)“在下方”能夠包含在上面和在下方的取向。設(shè)備可以以其它的方式被取向(旋轉(zhuǎn)90度或者在其它取向)并且因此在此使用的空間相對(duì)敘述語(yǔ)被解釋。在此使用的術(shù)語(yǔ)是為了僅描述特定的實(shí)施例并且不旨在限制示例實(shí)施例。如在此使用的，單數(shù)形式“一”、“一個(gè)”以及“這個(gè)”旨在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另有明確指示。將進(jìn)一步理解的是，如在此使用的，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包括”、“包括”和/或“包括”指定了陳述的特征、整數(shù)、步驟、操作、元件、以及/或者組件的存在，但是沒(méi)有排除一個(gè)或者多個(gè)其它的特征、整數(shù)、步驟、操作、元件、組件、和/或其組的存在或者添加。參考作為示例實(shí)施例的理想化的實(shí)施例(和中間結(jié)構(gòu))的示意性圖示的橫截面圖在此描述了示例實(shí)施例。同 樣，應(yīng)當(dāng)預(yù)料到由于例如制造技術(shù)和/或公差的圖示的形狀的變化。因此，示例實(shí)施例不應(yīng)當(dāng)被解釋為限于在此圖示的區(qū)域的特定形狀，而是應(yīng)當(dāng)包括例如由于制造引起的形狀的偏差。例如，圖示為矩形的注入的區(qū)域可以在其邊緣處具有圓形的或者彎曲的特征和/或梯度的注入濃度，而不是從注入的到非注入的區(qū)域的二進(jìn)制改變。同樣地，通過(guò)注入形成的掩埋區(qū)域可能導(dǎo)致在掩埋區(qū)域和由此發(fā)生注入的表面之間的區(qū)域中的一些注入。因此，在附圖中圖示的區(qū)域在本質(zhì)上是示意性的并且其形狀并不旨在圖示設(shè)備的區(qū)域的實(shí)際形狀并且并不旨在限制示例實(shí)施例的范圍。除非另有定義，在此使用的所有術(shù)語(yǔ)(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ))具有與示例實(shí)施例所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的相同意義。進(jìn)一步將理解的是，諸如在常用的字典中所定義的術(shù)語(yǔ)應(yīng)被解釋為具有與在有關(guān)領(lǐng)域的上下文中的意義一致的意義，并且將不會(huì)以理想化的或者過(guò)度形式意義來(lái)解釋，除非在此清楚地如此定義。下面，將參考附圖詳細(xì)地描述根據(jù)實(shí)施例的基板框架抽吸裝置。如圖I中所示，基板框架抽吸裝置20包括主體21，該主體21具有至少一個(gè)頂側(cè)開(kāi)放的腔室21a ;抽吸板22，該抽吸板22覆蓋至少一個(gè)腔室21的頂側(cè)并且抽吸基板框架10 ；以及壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23，該壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23通過(guò)連接管24被連接到至少一個(gè)腔室21a以調(diào)節(jié)至少一個(gè)腔室21a中的壓力。在本示例性實(shí)施例中，抽吸板22是由如在海綿體中具有微孔的多孔材料制成，并且被配置成根據(jù)至少一個(gè)腔室21a中的壓力來(lái)抽吸基板框架10。具體地，當(dāng)至少一個(gè)腔室21中的壓力使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23變成負(fù)壓時(shí)，在由多孔材料制成的抽吸板22的微孔處產(chǎn)生吸力并且因此基板框架10被抽吸到抽吸板22。另一方面，當(dāng)至少一個(gè)腔室21a中的壓力使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23變成正壓時(shí)，在抽吸板22處產(chǎn)生的吸力消失并且因此基板框架10與抽吸板22分離。在實(shí)施例中，抽吸板可以是由其中具有微孔的硅材料制成。因?yàn)槌槲?2是由多孔材料制成，所以經(jīng)由形成在抽吸板22中的微孔向基板框架10的整個(gè)表面均勻地施加吸力。因此，可以防止吸力集中在基板框架10的特定部分或者可以減少基板框架10的特定部分上的吸力的集中。結(jié)果，可以抑制被抽吸的基板框架10的彎曲，如果吸力集中在基板框架10的特定部分處，則這可以以其它方式發(fā)生。在這個(gè)示例實(shí)施例中，至少一個(gè)腔室21a包括使用多個(gè)分隔壁21b被限定在主體21中的多個(gè)腔室21a。相應(yīng)的腔室21a單獨(dú)地被連接到壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23，使得單獨(dú)地控制每個(gè)腔室21a中的壓力。因此，通過(guò)使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23單獨(dú)地調(diào)節(jié)相應(yīng)的腔室21a中的壓力，吸力可能僅被選擇性地施加到與多個(gè)腔室21a分別相對(duì)應(yīng)的抽吸板22的部分。通過(guò)使用多孔材料來(lái)形成抽吸板22并且通過(guò)分隔壁21b來(lái)限定多個(gè)腔室21a，可以將吸力通過(guò)形成在抽吸板22中的微孔甚至轉(zhuǎn)移到與分隔壁21b相對(duì)應(yīng)的抽吸板22的部分。以這種方式，可以抑制基板框架10的彎曲，當(dāng)不同的吸力分別被施加到基板的不同部分時(shí)，這可以以其它方式發(fā)生。在下文中，將詳細(xì)地描述如上所述控制基板框架抽吸裝置的方法。如圖2中所示，當(dāng)所有的腔室21a是處于正壓狀態(tài)時(shí)，基板框架10被放置在抽吸 板22上。另一方面，通過(guò)在將半導(dǎo)體安裝在基板框架10的過(guò)程中施加的熱或者壓力，可以部分地或者整體地彎曲基板框架10。當(dāng)基板框架10居留于抽吸板22上時(shí)，壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23通過(guò)從腔室21a抽吸空氣來(lái)使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)。以這種方式，通過(guò)使腔室21a中的每一個(gè)進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)，僅在與相應(yīng)的腔室21a相對(duì)應(yīng)的抽吸板22的部分處可以產(chǎn)生吸力，并且進(jìn)而與相應(yīng)的腔室21a相對(duì)應(yīng)的基板框架10的部分被抽吸到抽吸板22。在這個(gè)示例實(shí)施例中，如圖3至圖5中所示，使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)按照從與基板框架10的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a到與基板框架10的另一側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a的順序發(fā)生。通過(guò)控制壓力調(diào)節(jié)設(shè)備21使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)的這個(gè)方式，基板框架10可以從基板框架10的一個(gè)側(cè)端到基板框架10的另一側(cè)端被部分地或者順次地抽吸到抽吸板22。通過(guò)使基板框架10能夠從框架10的一個(gè)側(cè)端到框架10的另一側(cè)端被部分地并且順次地抽吸到抽吸板22，可以抑制基板框架10的扭曲或者彎曲，如果當(dāng)基板框架的整個(gè)表面被馬上抽吸到抽吸板時(shí)，則這可能以其它方式發(fā)生。在基板框架10已經(jīng)被抽吸到抽吸板22之后，使用測(cè)試儀開(kāi)始測(cè)試基板框架10和部署在框架10中的半導(dǎo)體。一旦完成測(cè)試處理，則使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)。使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)按照從與基板框架10的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a到與基板框架10的另一側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a的順序發(fā)生。以這種方式，在抽吸板22處不再產(chǎn)生吸力并且因此基板框架10可以與抽吸板22分離。以這種方式，通過(guò)使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)，在抽吸處理期間被變形的基板框架10的部分可以被恢復(fù)到其原始的形狀，從而最小化基板框架10的移動(dòng)。在上面的示例實(shí)施例中，控制壓力調(diào)節(jié)設(shè)備22，使得使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)按照從與基板框架10的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a到與基板框架10的另一側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室21a的順序發(fā)生。然而，本發(fā)明不限于此。替代地，如圖6和圖7中所示，可以以使腔室21a中的每一個(gè)進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)按照從與基板框架10的中心相對(duì)應(yīng)的腔室21a到與基板框架10的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)腔室21a的順序發(fā)生的這樣的方式來(lái)控制壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23。
以這種方式，可以使用壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23使腔室21a兩個(gè)接兩個(gè)地順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)。因此，基板框架10可以被更快速地抽吸到抽吸板22。一旦完成對(duì)基板框架10的測(cè)試處理，則控制壓力調(diào)節(jié)設(shè)備23，使得使腔室21a中的每一個(gè)順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)可以按照從與基板框架10的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)腔室21a到與基板框架10的中心相對(duì)應(yīng)的腔室21a的順序發(fā)生。雖然已經(jīng)特別地示出和描述了示例實(shí)施例，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將理解的是，在不脫離權(quán)利要求的精神和范圍的情況下可以在其中進(jìn)行 形式和細(xì)節(jié)上的變化。
權(quán)利要求
1.一種基板框架抽吸裝置，包括 主體，所述主體具有至少一個(gè)頂側(cè)開(kāi)放的腔室； 抽吸板，所述抽吸板是由多孔材料制成，以覆蓋所述至少一個(gè)腔室的頂部；以及 壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，所述壓力調(diào)節(jié)設(shè)備被連接到所述至少一個(gè)腔室并且被配置成調(diào)節(jié)所述至少一個(gè)腔室中的壓力。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝置，其中所述至少一個(gè)腔室包括使用分隔壁被限定在所述主體中的多個(gè)腔室，并且 所述壓力調(diào)節(jié)設(shè)備被連接到相應(yīng)的腔室，以便實(shí)現(xiàn)所述多個(gè)腔室的單獨(dú)壓力調(diào)節(jié)。
3.—種控制基板框架抽吸裝置的方法，所述基板框架抽吸裝置包括多個(gè)腔室、抽吸板和壓力調(diào)節(jié)設(shè)備以抽吸基板框架，所述方法包括 使用所述壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，使所述多個(gè)腔室中的每一個(gè)順次地進(jìn)入負(fù)壓狀態(tài)，使得與所述多個(gè)腔室分別相對(duì)應(yīng)的所述基板框架的部分被順次地抽吸到所述抽吸板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中使所述多個(gè)腔室順次地進(jìn)入所述負(fù)壓狀態(tài)的步驟按照從與所述基板框架的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室到與所述基板框架的另一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中使所述多個(gè)腔室順次地進(jìn)入所述負(fù)壓狀態(tài)的步驟按照從與所述基板框架的中心相對(duì)應(yīng)的腔室到與所述基板框架的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)腔室的順序發(fā)生。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，進(jìn)一步包括 使用所述壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，使所述多個(gè)腔室中的每一個(gè)順次地進(jìn)入正壓狀態(tài)，使得與所述多個(gè)腔室分別相對(duì)應(yīng)的所述基板框架的所述部分被順次地與所述抽吸板分離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中使所述腔室中的每一個(gè)順次地進(jìn)入所述正壓狀態(tài)的步驟按照從與所述基板框架的一個(gè)側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室到與所述基板框架的另一側(cè)端相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中使所述腔室中的每一個(gè)順次地進(jìn)入所述正壓狀態(tài)的步驟按照從與所述基板框架的兩個(gè)側(cè)端分別相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)腔室到與所述基板框架的中心相對(duì)應(yīng)的腔室的順序發(fā)生。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基板框架抽吸裝置及其控制方法。在一個(gè)實(shí)施例中，基板框架抽吸裝置包括主體，該主體具有至少一個(gè)頂側(cè)開(kāi)放的腔室；抽吸板，該抽吸板覆蓋至少一個(gè)腔室的頂部；以及壓力調(diào)節(jié)設(shè)備，該壓力調(diào)節(jié)設(shè)備被連接到至少一個(gè)腔室并且被配置成調(diào)節(jié)至少一個(gè)腔室中的壓力。
文檔編號(hào)H01L21/683GK102820249SQ20121018654
公開(kāi)日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月7日
發(fā)明者樸淵默 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社