專(zhuān)利名稱(chēng)：用于跟蹤基板的邊緣及從基板的邊緣去除涂層的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光伏裝置及生產(chǎn)方法。
背景技術(shù)：
光伏裝置可包括沉積在基板上的半導(dǎo)體材料，例如，半導(dǎo)體材料具有用作窗ロ層的第一層及用作吸收層的第二層。半導(dǎo)體窗ロ層可允許太陽(yáng)輻射穿透到將太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換成電的吸收層(例如，碲化鎘層)。光伏裝置還可包括ー個(gè)或多個(gè)透明的導(dǎo)電氧化物層，所述ー個(gè)或多個(gè)透明的導(dǎo)電氧化物層通常還作為電荷的導(dǎo)體。


圖I是用于跟蹤光伏模塊的邊緣的系統(tǒng)的示意圖。圖2是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖3a是光伏模塊的示意圖。圖3b是光伏模塊的示意圖。圖4a是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖4b是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖5是光伏模塊的示意圖。圖6a是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖6b是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖7是光伏模塊的示意圖。圖8a是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖Sb是用于從光伏模塊去除材料的系統(tǒng)的示意圖。圖9是光伏模塊的示意圖。
具體實(shí)施例方式光伏裝置可包括靠近基板的透明導(dǎo)電氧化物層及半導(dǎo)體材料層。半導(dǎo)體材料層可包括鉍(bi)層，鉍層可包括n型半導(dǎo)體窗ロ層和p型半導(dǎo)體吸收層。n型窗ロ層和p型吸收層可彼此接觸地布置，以生成電場(chǎng)。光子可以是自由電子-空穴對(duì)，該自由電子-空穴對(duì)與n型窗ロ層接觸，將電子發(fā)送到n側(cè)及將空穴發(fā)送到p側(cè)。電子可通過(guò)外部電流路徑回流到P側(cè)。由此產(chǎn)生的電子流提供電流，該電流與來(lái)自電場(chǎng)的由此產(chǎn)生的電壓相結(jié)合而生成電能。結(jié)果是將光子能量轉(zhuǎn)換成電能。通常需要從光伏裝置的邊緣去除一部分半導(dǎo)體材料及一部分其他涂層。例如，行業(yè)要求指示光伏裝置在其周界的周?chē)３肿钚》菍?dǎo)電寬度。因此，有利于控制非導(dǎo)電區(qū)域的寬度，以使光伏裝置的輸出最大化?？刂七吘墝挾鹊膫鹘y(tǒng)方法(例如，精密固定裝置和XY定位臺(tái))通常昂貴，且需要相當(dāng)長(zhǎng)的停エ期以保持期望的精確定位公差?？蛇x方式是利用邊緣跟蹤儀器來(lái)定位光伏裝置的邊緣。然后，可基于無(wú)涂覆邊緣的要求調(diào)節(jié)涂層去除裝置的位置。在從邊緣去除一部分涂層之后，涂層去除裝置可重新調(diào)節(jié)及重新啟用，直到滿(mǎn)足無(wú)涂覆邊緣的要求為止。類(lèi)似地，光伏裝置可被調(diào)節(jié)，以允許在邊緣的相鄰區(qū)域上去除涂層，從而實(shí)現(xiàn)所述相鄰區(qū)域的相同的無(wú)涂覆邊緣寬度。ー種用于從基板去除涂層的方法可包括定位基板的邊緣；以適合于沿著第二路徑重新引導(dǎo)激光束的入射角度，沿著第一路徑引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的表面上接近基板的邊緣的第一位置，引導(dǎo)激光束通過(guò)基板，引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的第二表面上與基板的被定位的邊緣對(duì)應(yīng)的第二位置，其中，第二表面可包括涂層；使位于基板的第二表面上的第二位置處的至少一部分涂層消融。
所述方法可包括各種可選特征。例如，所述方法可包括沿著接近基板的被定位的邊緣的區(qū)域掃描激光束。掃描可包括將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。掃描可包括將激光源調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。掃描可包括靠近第一無(wú)涂覆區(qū)形成ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)。消融可包括形成第一無(wú)涂覆區(qū)。第一無(wú)涂覆區(qū)可基本等于最小無(wú)涂覆邊緣寬度。消融可包括形成一個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)，其中，所述ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)和第一無(wú)涂覆區(qū)的組合可基本等于最小無(wú)涂覆邊緣寬度。所述方法可包括將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。調(diào)節(jié)可包括在水平面或豎直面上重新布置基板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置基板。所述方法可包括將激光源調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。調(diào)節(jié)可包括在水平面或豎直面上重新布置激光，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置激光。ー種用于從基板去除涂層的系統(tǒng)可包括第一數(shù)據(jù)接ロ，可操作以接收和傳送與基板的ー個(gè)或多個(gè)邊緣相關(guān)的數(shù)據(jù)；第二數(shù)據(jù)接ロ，可操作以接收和傳送與基板的ー個(gè)或多個(gè)邊緣相關(guān)的數(shù)據(jù)；傳感器，與第一數(shù)據(jù)接ロ通信，其中，傳感器可以可操作以檢測(cè)和跟蹤基板的邊緣，且傳感器還可以可操作以通過(guò)第一數(shù)據(jù)接ロ輸出邊緣位置標(biāo)識(shí)符，其中，邊緣位置標(biāo)識(shí)符可定義基板的邊緣的位置；控制器，與傳感器通信，其中，控制器可被構(gòu)造成通過(guò)第一數(shù)據(jù)接ロ從傳感器接收邊緣位置標(biāo)識(shí)符，并基于接收的邊緣位置標(biāo)識(shí)符輸出調(diào)節(jié)信號(hào)；涂層去除裝置，被構(gòu)造成從基板的邊緣去除一部分涂層，以形成一個(gè)或多個(gè)無(wú)涂覆區(qū)，其中，涂層去除裝置包括激光源。所述系統(tǒng)可包括各種可選特征。例如，控制器還可被構(gòu)造成接收邊緣寬度標(biāo)識(shí)符，并基于邊緣寬度標(biāo)識(shí)符輸出調(diào)節(jié)信號(hào)，其中，邊緣寬度標(biāo)識(shí)符定義基板的最小邊緣寬度。系統(tǒng)可包括致動(dòng)器，其中，致動(dòng)器可被構(gòu)造成通過(guò)第二數(shù)據(jù)接ロ從控制器接收調(diào)節(jié)信號(hào)。致動(dòng)器可被構(gòu)造成基于接收的調(diào)節(jié)信號(hào)將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。致動(dòng)器可被構(gòu)造成在水平面或豎直面上重新布置基板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置基板。致動(dòng)器可被構(gòu)造成基于接收的調(diào)節(jié)信號(hào)將安裝板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。致動(dòng)器可被構(gòu)造成在水平面或豎直面上調(diào)節(jié)安裝板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上調(diào)節(jié)安裝板。安裝板可包括間隙，使得安裝板的兩個(gè)部分彼此部分地分開(kāi)且平行地平放。該間隙可被構(gòu)造成容納基板。涂層去除裝置可沿著間隙的邊緣安裝。涂層去除裝置可布置在基板上?？刂破骺刹贾迷诎惭b板上。傳感器可布置在安裝板上。傳感器可包括超聲波傳感器、紅外傳感器、非接觸式傳感器、霍爾效應(yīng)傳感器、接近傳感器或光電ニ極管傳感器。ー種激光劃線(scribing)設(shè)備可包括激光源，提供脈沖激光束，該脈沖激光束在近紅外基頻下具有波長(zhǎng)、具有大約50千赫茲至大約100千赫茲范圍內(nèi)的脈沖頻率、具有大約8納秒至大約70納秒范圍內(nèi)的脈沖持續(xù)時(shí)間。激光源可以是提供脈沖激光束的釩酸釔激光源、摻釹型激光源、Q開(kāi)關(guān)激光源、ニ極管泵浦激光源，該脈沖激光束在其近紅外基頻下具有大約1064納米的波長(zhǎng)、在大約50千赫茲至大約100千赫茲范圍內(nèi)的脈沖頻率下操作、具有大約8納秒 至大約70納秒范圍內(nèi)的脈沖持續(xù)時(shí)間。該脈沖激光束可被ー個(gè)或多個(gè)反射鏡反射到引導(dǎo)激光束以執(zhí)行劃線的XYZ檢流計(jì)控制的反射鏡系統(tǒng)。更具體地說(shuō)，XYZ檢流計(jì)控制的反射鏡系統(tǒng)可包括檢流計(jì)控制的聚焦裝置，使透鏡水平地運(yùn)動(dòng)，以控制光束沿著Z方向的焦距；檢流計(jì)控制的雙反射鏡組件，沿著XY方向引導(dǎo)光束，從而共同地提供XYZ控制?？赏ㄟ^(guò)引導(dǎo)激光束通過(guò)基板的無(wú)涂覆表面到達(dá)基板的涂覆表面、到達(dá)用于劃線的不同區(qū)域來(lái)執(zhí)行劃線，使得劃線的層受到用于每個(gè)劃線器的激光的功率級(jí)控制。通過(guò)劃線器從基板的無(wú)涂覆表面進(jìn)行激光劃線，不會(huì)存在由提供劃線的消融形成的氣體煙流，從而該煙流不能防止下ー個(gè)激光脈沖通過(guò)涂層以提供每個(gè)下一次消融。激光劃線設(shè)備可包括氣體壓力定位器和真空定位器，氣體壓力定位器和真空定位器使基板在基板的無(wú)涂覆表面上保持平坦且相對(duì)于輸送方向橫向地布置基板，從而被聚焦的脈沖激光束的焦點(diǎn)沿著Z方向位于正被劃線的ー層或多層上。這些定位器布置在豎直地延伸的裝置中，位于激光束穿過(guò)玻璃片基板以提供激光劃線的位置的上游和下游?？稍趧澗€位置的上游存在五個(gè)定位器及在劃線位置的下游存在五個(gè)定位器。每個(gè)定位器可具有中央位置，真空從真空源通過(guò)相關(guān)管道施加到該中央位置。每個(gè)定位器的環(huán)形多孔滲透構(gòu)件可在該中央位置的周?chē)由?，并通過(guò)相關(guān)管道從氣源接收增壓氣體。定位器可將無(wú)涂覆的玻璃片表面定位在大約4微米至大約6微米內(nèi)，以為激光束聚焦以及在正被劃線的ー層或多層上進(jìn)行的消融提供精確位置。布置在劃線位置的上游的激光檢測(cè)器可提供從無(wú)涂覆表面反射回來(lái)的激光檢測(cè)光束，以檢測(cè)基板的精確位置，且激光檢測(cè)器可響應(yīng)于在運(yùn)動(dòng)范圍內(nèi)檢測(cè)的位置以及使劃線激光束進(jìn)行劃線，通過(guò)連接到檢流計(jì)反射鏡系統(tǒng)的聚焦裝置使脈沖劃線激光束聚焦。該檢測(cè)可適用于基板的任何非平面度，例如，當(dāng)制造玻璃基板時(shí)形成的輥波。激光劃線站輸送器可以在涂覆的基板保持靜止期間，在每個(gè)激光劃線器之間設(shè)置輸送系數(shù)，使得激光束在首先已經(jīng)水平地調(diào)節(jié)以在先前形成的相鄰劃線之間設(shè)置合適的間隔之后，豎直地運(yùn)動(dòng)以執(zhí)行劃線。還可能沿著輸送方向連續(xù)地輸送涂覆的基板，然后，激光劃線的路徑沿著輸送方向和相對(duì)于真實(shí)豎直方向均存在角度，在毎次劃線完成之后，重新設(shè)置檢流計(jì)控制的反射鏡系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)，使得完整的通道具有大致為蝴蝶結(jié)的構(gòu)造。在輸送到第一劃線站之前，涂覆的基板的兩個(gè)上角被激光標(biāo)刻有通過(guò)ー對(duì)相機(jī)檢測(cè)的相應(yīng)基準(zhǔn)，以為面板的精確位置及所述基準(zhǔn)之間的間隔提供信號(hào)，以使得可精確地定位劃線。這允許對(duì)于熱膨脹或收縮所必需的調(diào)節(jié)以及允許在不同基板上的基準(zhǔn)之間存在不同間隔。另外，每個(gè)基板可設(shè)置有通過(guò)條形碼讀取器感測(cè)的條形碼，以提供對(duì)正被劃線的每個(gè)特定基板的識(shí)別。另外，設(shè)備包括排氣罩，該排氣罩接收來(lái)自正被劃線的基板的涂覆側(cè)的排氣。為了確保以合適的功率級(jí)執(zhí)行劃線，檢流計(jì)控制的反射鏡可將激光束周期性地反射到功率計(jì)，然后，可使用功率計(jì)感測(cè)的功率，以提供對(duì)來(lái)自脈沖激光源的功率級(jí)進(jìn)行任何必需的調(diào)節(jié)。為了提供通過(guò)不同層的第一組劃線、第二組劃線、第三組劃線，激光的平均功率級(jí)分別是大約20瓦、大約8瓦至9瓦、大約4瓦至5瓦。參照通過(guò)示例的方式給出的圖I，用于從基板150 (例如，用于光伏模塊的基板)去除涂層的系統(tǒng)可包括邊緣跟蹤系統(tǒng)100。邊緣跟蹤系統(tǒng)100可包括傳感器110和微處理器120。傳感器110和微處理器120可通過(guò)數(shù)據(jù)接ロ 170彼此通信，數(shù)據(jù)接ロ 170可以可操作以接收和傳送與基板150的邊緣位置相關(guān)的數(shù)據(jù)。傳感器110可以可操作，以檢測(cè)和跟蹤基板150的邊緣160，且傳感器110可通過(guò)數(shù)據(jù)接ロ 170將邊緣位置標(biāo)識(shí)符傳送到微處理器120。傳感器110可包括任何合適的位置傳感器，所述任何合適的位置傳感器包括例如超聲波傳感器、紅外傳感器、非接觸式傳感器、霍爾效應(yīng)傳感器、接近傳感器或光電ニ極管傳感器。邊緣160可包括基板150的頂部邊緣、基板150的側(cè)部和/或基板150的底部邊緣。邊緣160可部分地呈圓形。邊緣160可被部分地涂覆、充分地涂覆、或完全地涂覆。數(shù)據(jù)接ロ 170可以可操作，以通過(guò)包括無(wú)線通信或固線通信的任何合適的方式接收和傳送數(shù)據(jù)。在一個(gè)實(shí)施例中，微處理器120可被構(gòu)造成通過(guò)數(shù)據(jù)接ロ 170從傳感器110接收邊緣位置標(biāo)識(shí)符。微處理器120可被構(gòu)造成基于邊緣位置標(biāo)識(shí)符和存儲(chǔ)的寬度標(biāo)識(shí)符計(jì)算調(diào)節(jié)標(biāo)識(shí)符，其中，寬度標(biāo)識(shí)符定義了基板150的邊緣160的最小無(wú)涂覆寬度。寬度標(biāo)識(shí)符可表示指定的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)或者任何其他要求。微處理器120可通過(guò)數(shù)據(jù)接ロ 180輸出調(diào)節(jié)標(biāo)識(shí)符。數(shù)據(jù)接ロ 180可使用包括無(wú)線通信或固線通信的任何合適的通信形式傳送調(diào)節(jié)標(biāo)識(shí)符。參照?qǐng)D2，邊緣跟蹤系統(tǒng)100可被安裝為靠近安裝板200。安裝板200可包括間隙220，使得安裝板200的兩個(gè)部分彼此部分地分開(kāi)且平行地平放。間隙220可被構(gòu)造成容納基板150。參照?qǐng)DI和圖2，安裝板200可被安裝為靠近致動(dòng)器230，致動(dòng)器230可被構(gòu)造成通過(guò)數(shù)據(jù)接ロ 180從微處理器120接收調(diào)節(jié)標(biāo)識(shí)符。致動(dòng)器230還可被構(gòu)造成基于接收的調(diào)節(jié)標(biāo)識(shí)符沿著任何需要的方向調(diào)節(jié)安裝板200的位置。例如，致動(dòng)器230可被構(gòu)造成在水平面、豎直面、或者在水平面和豎直面的任意組合上調(diào)節(jié)安裝板200。參照?qǐng)D2，涂層去除裝置210可被安裝在安裝板200上的任意位置。例如，涂層去除裝置210可沿著間隙220的邊緣安裝。參照?qǐng)D2、圖3a和圖3b，涂層去除裝置210可被構(gòu)造成從基板150的邊緣160去除一部分涂層310，以形成第一無(wú)涂覆區(qū)300。涂層去除裝置210可包括用于從光伏裝置去除涂層的任何合適的裝置。例如，涂層去除裝置210可包括激光源。圖4a、圖4b、圖8a和圖Sb通過(guò)非限制的方式描述了包括激光源400的涂層去除裝置210的使用。通過(guò)引導(dǎo)激光束410到達(dá)基板150的玻璃基板側(cè)820，隨著激光束410通過(guò)基板150的與涂覆相対的ー側(cè)，可從邊緣160去除一部分涂層310，如圖Sb所描述。涂層去除裝置210可被構(gòu)造成掃描基板150，以去除涂層310的另外的部分。 返回參照?qǐng)D3a和圖3b，涂層310可包括用于光伏模塊的制造的任何合適的涂覆材料，且涂層310可由多個(gè)層組成。例如，涂層310可包含鎘或硅。涂層310可包含非晶硅。涂層310可包含化合物半導(dǎo)體材料。例如，涂層310可包括碲化鎘層和/或硫化鎘層。圖2中的涂層去除裝置210可被構(gòu)造成從基板150去除一些涂層310或全部涂層310。激光束410通過(guò)基板150的路徑是可預(yù)測(cè)的。參照通過(guò)示例的方式給出的圖8a、圖8b和圖9，激光束410在激光入射點(diǎn)800處以相對(duì)于法線940的入射角度920進(jìn)入玻璃層830的基本上平坦的無(wú)涂覆側(cè)310。玻璃層830的折射率910與基板150外部的外部折射率900不同，從而一旦激光束410通過(guò)玻璃層830就改變激光束410的速度、角度和路徑。激光束410以相對(duì)于法線940的折射角度930延伸通過(guò)玻璃層830，到達(dá)激光出射點(diǎn)810。折射角度930通過(guò)下面的等式與入射角度920建立關(guān)系^1Xsin 0 i = n2Xsin 0 2,其中,Ii1定義了外部折射率900，n2定義了玻璃層折射率910，0 i定義了入射角度920，9 2定義了折射角度930。因此，折射率可用于跟蹤和預(yù)測(cè)激光束410的激光出射點(diǎn)810，從而允許相對(duì)于激光的角度和位置對(duì)基板150進(jìn)行策略性布局。與激光束410的預(yù)測(cè)路徑相關(guān)的計(jì)算可在外部進(jìn)行計(jì)算，或者在涂層去除裝置400內(nèi)進(jìn)行計(jì)算。參照?qǐng)D2、圖4a和圖4b，致動(dòng)器230還可被構(gòu)造成將安裝板200從第一位置420 調(diào)節(jié)到新位置430。致動(dòng)器230可將安裝板200調(diào)節(jié)到多個(gè)新位置430。每個(gè)新位置430允許涂層去除裝置210在新涂覆區(qū)域上操作，以靠近第一無(wú)涂覆區(qū)300形成ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)500。參照?qǐng)D6a和圖6b，基板150還可(通過(guò)致動(dòng)器、機(jī)器人手臂或者任何其他合適的裝置)被調(diào)節(jié)，以使得在涂層去除裝置210的前方布置新涂覆區(qū)600。在ー個(gè)實(shí)施例中，新涂覆區(qū)600可靠近無(wú)涂覆區(qū)橫向地平放。所述無(wú)涂覆區(qū)可以是第一無(wú)涂覆區(qū)300中的任意ー個(gè)，可以是ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)500中的任意ー個(gè)，或者可以是上述情形的任意組合。用于基板150的調(diào)節(jié)平面可以與用于安裝板200的調(diào)節(jié)平面不同。例如，安裝板200可在水平面上調(diào)節(jié)，從而允許涂層去除裝置210沿著指定的最小無(wú)涂覆邊緣寬度運(yùn)動(dòng)?；?50可通過(guò)間隙220，以允許涂層去除裝置210針對(duì)基板150的邊緣160上的寬度上相鄰的列進(jìn)行有效地操作。參照通過(guò)示例的方式給出的圖7，如果安裝板200和基板500兩者均以在此討論的方式調(diào)節(jié)及重新調(diào)節(jié)，則可獲得與期望的無(wú)涂覆邊緣寬度一致的無(wú)涂覆邊緣的連續(xù)段700。使用在此討論的方法制造的光伏裝置/模塊可集成到ー個(gè)或多個(gè)光伏陣列中。所述陣列可集成到用于發(fā)電的各種系統(tǒng)中。例如，光伏模塊可利用光束照明，以產(chǎn)生光電流?？墒占怆娏?，將光電流從直流(DC)轉(zhuǎn)換成交流(AC)，將光電流分配到電網(wǎng)?？梢龑?dǎo)任何合適波長(zhǎng)的光到達(dá)光伏模塊，以產(chǎn)生光電流，例如，所述任何合適波長(zhǎng)的光包括波長(zhǎng)大于400nm或小于700nm的光(例如，紫外光)。從ー個(gè)光伏模塊產(chǎn)生的光電流可與從其他光伏模塊產(chǎn)生的光電流結(jié)合。例如，光伏模塊可以是光伏陣列的一部分，可從該光伏陣列產(chǎn)生并分配聚集的電流。通過(guò)說(shuō)明和示例的方式提供上面描述的實(shí)施例。應(yīng)該理解的是，上面提供的示例可以在一定的方面進(jìn)行改變且仍然落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，雖然已經(jīng)參照上述優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是其他實(shí)施例也在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種用于從基板去除涂層的方法，所述方法包括 定位基板的邊緣； 以適合于沿著第二路徑重新引導(dǎo)激光束的入射角度，沿著第一路徑引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的表面上接近基板的邊緣的第一位置，引導(dǎo)激光束通過(guò)基板，引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的第ニ表面上與基板的被定位的邊緣對(duì)應(yīng)的第二位置，第二表面包括涂層； 使位于基板的第二表面上的第二位置處的至少一部分涂層消融。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，所述方法還包括沿著接近基板的被定位的邊緣的區(qū)域掃描激光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，掃描包括將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，掃描包括將激光源調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，掃描包括靠近第一無(wú)涂覆區(qū)形成ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，消融包括形成第一無(wú)涂覆區(qū)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，第一無(wú)涂覆區(qū)基本等于最小無(wú)涂覆邊緣寬度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，消融包括形成一個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)， 其中，所述ー個(gè)或多個(gè)相鄰的無(wú)涂覆區(qū)和第一無(wú)涂覆區(qū)的組合基本等于最小無(wú)涂覆邊緣寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，所述方法還包括將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，調(diào)節(jié)包括在水平面或豎直面上重新布置基板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置基板。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，所述方法還包括將激光源調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，調(diào)節(jié)包括在水平面或豎直面上重新布置激光，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置激光。
13.ー種用于從基板去除涂層的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括 第一數(shù)據(jù)接ロ，用于接收和傳送與基板的ー個(gè)或多個(gè)邊緣相關(guān)的數(shù)據(jù)； 第二數(shù)據(jù)接ロ，用于接收和傳送與基板的ー個(gè)或多個(gè)邊緣相關(guān)的數(shù)據(jù)； 傳感器，與第一數(shù)據(jù)接ロ通信，傳感器用于檢測(cè)和跟蹤基板的邊緣，傳感器還用于通過(guò)第一數(shù)據(jù)接ロ輸出邊緣位置標(biāo)識(shí)符，邊緣位置標(biāo)識(shí)符定義基板的邊緣的位置； 控制器，與傳感器通信，控制器被構(gòu)造成通過(guò)第一數(shù)據(jù)接ロ從傳感器接收邊緣位置標(biāo)識(shí)符，并基于接收的邊緣位置標(biāo)識(shí)符輸出調(diào)節(jié)信號(hào)； 涂層去除裝置，被構(gòu)造成從基板的邊緣去除一部分涂層，以形成一個(gè)或多個(gè)無(wú)涂覆區(qū)，涂層去除裝置包括激光源。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中，控制器還被構(gòu)造成接收邊緣寬度標(biāo)識(shí)符，并基于邊緣寬度標(biāo)識(shí)符輸出調(diào)節(jié)信號(hào)，邊緣寬度標(biāo)識(shí)符定義基板的最小邊緣寬度。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)還包括致動(dòng)器，其中，致動(dòng)器被構(gòu)造成通過(guò)第二數(shù)據(jù)接ロ從控制器接收調(diào)節(jié)信號(hào)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其中，致動(dòng)器被構(gòu)造成基于接收的調(diào)節(jié)信號(hào)將基板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，致動(dòng)器被構(gòu)造成在水平面或豎直面上重新布置基板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上重新布置基板。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其中，致動(dòng)器被構(gòu)造成基于接收的調(diào)節(jié)信號(hào)將安裝板調(diào)節(jié)到ー個(gè)或多個(gè)新位置。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，致動(dòng)器被構(gòu)造成在水平面或豎直面上調(diào)節(jié)安裝板，或者在水平面和豎直面兩個(gè)平面上調(diào)節(jié)安裝板。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，安裝板包括間隙，使得安裝板的兩個(gè)部分彼此部分地分開(kāi)且平行地平放。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中，所述間隙被構(gòu)造成容納基板。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其中，涂層去除裝置沿著所述間隙的邊緣被安裝。
23.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，涂層去除裝置布置在安裝板上。
24.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，控制器布置在安裝板上。
25.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，傳感器布置在安裝板上。
26.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中，傳感器包括超聲波傳感器、紅外傳感器、非接觸式傳感器、霍爾效應(yīng)傳感器、接近傳感器或光電ニ極管傳感器。
全文摘要
一種用于從基板去除涂層的方法，所述方法可包括定位基板的邊緣；以適合于沿著第二路徑重新引導(dǎo)激光束的入射角度，沿著第一路徑引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的表面上接近基板的邊緣的第一位置，引導(dǎo)激光束通過(guò)基板，引導(dǎo)激光束到達(dá)基板的第二表面上與基板的被定位的邊緣對(duì)應(yīng)的第二位置，其中，第二表面可包括涂層；使位于基板的第二表面上的第二位置處的至少一部分涂層消融。
文檔編號(hào)H01L31/00GK102655949SQ201080042358
公開(kāi)日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2010年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月22日
發(fā)明者史蒂夫·迪德力西, 史蒂芬·P·墨菲, 邁克爾·卡塔拉諾 申請(qǐng)人:第一太陽(yáng)能有限公司