專利名稱：一種微粒外物清除裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清除微粒的裝置，特別涉及一種在電子半導(dǎo)體行業(yè)中產(chǎn)品表面微粒外物的清除裝置。
背景技術(shù)：
隨著科技的進步，各式各樣的電子產(chǎn)品已經(jīng)深入你我的生活之中，而這些電子產(chǎn) 品的內(nèi)部，大部分為半導(dǎo)體晶片。特別是近幾年來，由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，使得集成 電路的制造朝較大的芯片，且較小的線寬來進行，以達到相同大小的集成電路功能加強，且 降低其單位使用的成本。但半導(dǎo)體器件，尤其是高密度的集成電路，易受到各種污染的損 害。在半導(dǎo)體組件制作過程中，許多從管壁、閥件、濾紙等部位產(chǎn)生的微粒隨著流體進入制 程，而污染晶圓表面，導(dǎo)致上述致命的缺陷，降低產(chǎn)品良率。目前作業(yè)過程中微粒外物會沾 在產(chǎn)品表面之線路上，特別是金屬微粒，在封裝后無法清除，往往會造成產(chǎn)品電路短路影響 產(chǎn)品質(zhì)量，甚至使產(chǎn)品報廢。如何有效清除晶圓表面所沉積的微粒以及保持晶圓表面之潔 凈，是半導(dǎo)體現(xiàn)場制程人員每天必須面對的嚴(yán)肅挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的半導(dǎo)體生產(chǎn)制程均使用濕式 清洗技術(shù)清除晶圓表面的污染微粒，此一制程需要用到大量的有害化合物，造成作業(yè)人員 危害及環(huán)境污染的問題，此外，因濕式清洗與潤濕制程的超純水用量約占半導(dǎo)體廠超純水 用量的60 %，造成水資源的浪費，增加企業(yè)的生產(chǎn)成本。而現(xiàn)有的制程中的設(shè)備上又沒有一 種可以專門而有效的用來清除半導(dǎo)體產(chǎn)品上微粒的裝置。
發(fā)明內(nèi)容針對上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種可清除制程中殘 留在產(chǎn)品表面微粒外物的裝置，該裝置可用于制程中對于微粒進行有效清除以達到提高產(chǎn) 品良率的目的。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種微粒外物清除裝置，包括一水平軌道，兩根支架及至少一個吹風(fēng)除塵裝置，所 述兩根支架與水平軌道垂直，兩根支架分別與水平軌道的兩端連接，所述支架可連接在設(shè) 備上，并可沿垂直方向滑動；所述吹風(fēng)除塵裝置與水平軌道連接，并可在沿水平軌道滑動?；谏鲜鲋饕夹g(shù)特征，所述水平軌道上設(shè)有一長中空槽，所述吹風(fēng)除塵裝置通 過一手調(diào)螺栓與水平軌道連接?；谏鲜鲋饕夹g(shù)特征，所述吹風(fēng)除塵裝置包括一“L”形支架，所述“L”形支架的 一邊上設(shè)有一激光標(biāo)線器，該邊與水平軌道連接，所述“L”形支架的另一邊設(shè)有一吹風(fēng)治具?；谏鲜鲋饕夹g(shù)特征，所述激光標(biāo)線器固定在激光固定座上，所述激光固定座 通過壓塊與“L”形支架連接?；谏鲜鲋饕夹g(shù)特征，所述吹風(fēng)治具包括一基座，所述基座的一端設(shè)有可與氣 源連接的氣管，所述基座的另一端設(shè)有孔徑較小的吹氣針。[0010]上述技術(shù)方案具有如下有益效果該微粒外物清除裝置固定在半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè) 備上，吹風(fēng)除塵裝置可沿水平和垂直兩個方向滑動，從而可以對半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備上的 產(chǎn)品的不同位置進行進行吹起，將產(chǎn)品表面的微粒吹離，從而降低產(chǎn)品的不良率。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 并可依照說明書的內(nèi)容予以實施，以下以本發(fā)明的較佳實施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。 本發(fā)明的具體實施方 式由以下實施例及其附圖詳細(xì)給出。

圖1是本發(fā)明實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明實施例中水平導(dǎo)軌的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明實施例中吹風(fēng)治具的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行詳細(xì)的介紹。如圖1所示，作為本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例，該微粒外物清除裝置包括一水平導(dǎo) 軌2，水平導(dǎo)軌2的兩端連接有支架1，支架1與水平導(dǎo)軌2垂直，支架1與半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn) 設(shè)備連接，并可在垂直方向滑動。如圖2所示，水平導(dǎo)軌2上設(shè)有一長的中空滑槽，中空滑 槽內(nèi)設(shè)有一手調(diào)螺栓，手調(diào)螺栓與一“L”形支架6連接，“L”形支架6的橫邊上設(shè)有一激光 固定座5，激光固定座5上裝有激光標(biāo)線器3，激光標(biāo)線器3通過壓塊4與激光固定座5連 接；“L”形支架6的豎邊上預(yù)設(shè)角度夾持固定有一吹風(fēng)治具，如圖3所述，該吹風(fēng)治具包括 一基座，基座的一端設(shè)有可與氣源連接的氣管，基座的另一端設(shè)有孔徑較小的吹氣針。給裝置在使用時，根據(jù)產(chǎn)品尺寸借助Lasers標(biāo)線器3，對支架1進行Y軸位置調(diào) 整；松開“L”形主體6之固定螺栓，治具可在軌道2上滑動進行X軸位置調(diào)整，以達到需要 清除微粒之部位。開始作業(yè)時干燥壓縮空氣經(jīng)過壓力調(diào)整裝置，電磁閥后接入吹風(fēng)治具7 進氣端，產(chǎn)品經(jīng)過停頓時，電磁閥打開，壓縮空氣經(jīng)過吹風(fēng)治具7從吹風(fēng)治具針頭吹出，變 成強氣流，可將產(chǎn)品表面之微粒吹離，同時落到對面的集塵裝置上。將多組同樣的治具并排 在軌道2上，可同時完成多個產(chǎn)品的表面微粒外物清除，從而降低產(chǎn)品的不良率。以上對本發(fā)明實施例所提供的一種微粒外物清除裝置進行了詳細(xì)介紹，對于本領(lǐng) 域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明實施例的思想，在具體實施方式
及應(yīng)用范圍上均會有改變 之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制，凡以本發(fā)明設(shè)計思想所做任何 改變，均在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種微粒外物清除裝置，其特征在于包括一水平軌道，兩根支架及至少一個吹風(fēng) 除塵裝置，所述兩根支架與水平軌道垂直，兩根支架分別與水平軌道的兩端連接，所述支架 可連接在設(shè)備上，并可沿垂直方向滑動；所述吹風(fēng)除塵裝置與水平軌道連接，并可在沿水平 軌道滑動。
2.如權(quán)利要求1所述的一種微粒外物清除裝置，其特征在于所述水平軌道上設(shè)有一 長中空槽，所述吹風(fēng)除塵裝置通過一手調(diào)螺栓與水平軌道連接。
3.如權(quán)利要求2所示的一種微粒外物清除裝置，其特征在于所述吹風(fēng)除塵裝置包括 一“L”形支架，所述“L”形支架的一邊上設(shè)有一激光標(biāo)線器，該邊與水平軌道連接，所述“L” 形支架的另一邊設(shè)有一吹風(fēng)治具。
4.如權(quán)利要求3所述的一種微粒外物清除裝置，其特征在于所述激光標(biāo)線器固定在 激光固定座上，所述激光固定座通過壓塊與“L”形支架連接。
5.如權(quán)利要求4所述的一種微粒外物清除裝置，其特征在于所述吹風(fēng)治具包括一基 座，所述基座的一端設(shè)有可與氣源連接的氣管，所述基座的另一端設(shè)有孔徑較小的吹氣針。
專利摘要本實用新型公開了一種微粒外物清除裝置，包括一水平軌道，兩根支架及至少一個吹風(fēng)除塵裝置，所述兩根支架與水平軌道垂直，兩根支架分別與水平軌道的兩端連接，所述支架可連接在設(shè)備上，并可沿垂直方向滑動；所述吹風(fēng)除塵裝置與水平軌道連接，并可在沿水平軌道滑動。該微粒外物清除裝置固定在半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備上，吹風(fēng)除塵裝置可沿水平和垂直兩個方向滑動，從而可以對半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備上的產(chǎn)品的不同位置進行進行吹起，將產(chǎn)品表面的微粒吹離，從而降低產(chǎn)品的不良率。
文檔編號H01L21/00GK201868388SQ20102058977
公開日2011年6月15日 申請日期2010年11月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月3日
發(fā)明者陳秀龍 申請人:頎中科技(蘇州)有限公司