專利名稱：機(jī)械式晶圓固定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械式晶圓固定裝置，特別是涉及一種具緩沖效 果且不易損壞晶圓的指形壓夾。
謂"
晶圓在蝕刻的制程中需有 一 的械具令其位置固定，而該械具的設(shè)計(jì)良 窳，則直接關(guān)系到晶圓制程的良率，如何設(shè)計(jì)出一可有效固定，卻又不會(huì) 使晶圓損壞的夾具，實(shí)為一改良重點(diǎn)所在。
請(qǐng)參閱中國(guó)臺(tái)灣專利申請(qǐng)案號(hào)87212441號(hào)，"千式蝕刻機(jī)的晶圓夾具"， 以及美國(guó)專利640664號(hào)，『Clamp for affixing a wafer in an etching chamberi，上述兩件習(xí)用前案，其皆是利用 一鉗環(huán)式的夾具以固定晶圓， 該鉗環(huán)內(nèi)徑具有復(fù)數(shù)向圓心略為伸出的凸耳，借該凸耳以壓觸于晶圓的外 圍，并達(dá)到固定晶圓的目的；
上述習(xí)用前案雖具定位晶圓之效，然而其無(wú)可避免的會(huì)有下列缺失
1. 直接以環(huán)鉗的凸耳壓迫于晶圓上的固定方式，該環(huán)鉗、凸耳、晶圓 之間并無(wú)法設(shè)計(jì)出有一效的緩沖機(jī)制，意即一但環(huán)鉗的壓力過(guò)大，該壓力 便會(huì)立刻經(jīng)由凸耳施于晶圓上，而晶圓與凸耳接觸之處便難逃損壞的命運(yùn)。
2. 無(wú)法限制鉗環(huán)對(duì)晶圓的向下總壓力最大值，若該鉗環(huán)因夾放動(dòng)作的 行程過(guò)大，造成總下壓力突增時(shí)，則該總下壓力亦會(huì)完全傳遞至晶圓上， 如此突增的過(guò)大的總壓力，不單會(huì)造成晶圓磨損，甚至?xí)罹A破裂。
3. 如申請(qǐng)案號(hào)87212441的前案圖5至7所示，由于鉗環(huán)上每一凸耳 的施力均相同且無(wú)法單獨(dú)調(diào)整控制，若遇特殊規(guī)格的晶圓則難以配合使用， 需配合更換不同規(guī)格鉗環(huán)以配合之，如此不僅成本較高且操作上更為不便。
綜上所述可知，習(xí)用晶圓夾具可說(shuō)是相當(dāng)?shù)牟痪哂袑?shí)用性，仍有加以 改良的必要。
有鑒于上述現(xiàn)有的晶圓夾存在的缺陷，本設(shè)計(jì)人基于從事此類產(chǎn)品設(shè) 計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研 究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的機(jī)械式晶圓固定裝置，能夠改進(jìn)一般現(xiàn) 有的晶圓夾，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過(guò)反復(fù)試 作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的在于，克服現(xiàn)有的晶圓夾存在的缺陷，而提供
一種新型結(jié)構(gòu)的機(jī)械式晶圓固定裝置，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其改善習(xí) 用的晶圓固定裝置不具緩沖功效、無(wú)法限制向下總壓力、單一凸耳難以各 別調(diào)整等缺失，從而更加適于實(shí)用。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn) 的。依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種機(jī)械式晶圓固定裝置，其本體是包括一基 部與一身部，該基部是供固定本體之用，而該身部前端設(shè)有一壓件與一彈 性件，借該彈性件提供壓件壓固時(shí)的緩沖效果。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可以可采用以下的技術(shù)措施來(lái) 進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的身部設(shè)有一較壓件凸出的停 止塊。
前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的身部前端設(shè)有一穿孔供壓件 與彈性件容設(shè)。
前述的初4戒式晶圓固定裝置，其中所述的穿孔頂端設(shè)有一固定件。 前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的基部設(shè)有至少一定位孔。 前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的本體是由基部向身部前端漸
縮，而呈一流線型。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。依
據(jù)本實(shí)用新型提出的一種機(jī)械式晶圓固定裝置，其本體是包括一基部與一
身部，該基部是供固定本體之用，而該身部前端形成有一具彈性的壓件，
借該壓件自身的彈力而提供壓固時(shí)的緩沖效果。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可以采用以下的技術(shù)措施來(lái)進(jìn)
一步實(shí)現(xiàn)。
前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的身部設(shè)有一較壓件凸出的停 止塊。
前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的基部設(shè)有至少一定位孔。 前述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其中所述的本體是由基部向身部前端漸 縮，而呈一流線型。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。 本實(shí)用新型本體是用以裝設(shè)于蝕刻機(jī)的整流環(huán)上，其是包括一基部與 一身部，該本體是由基部向身部前端漸縮而呈一流線型，有助于氣流通過(guò)， 該基部設(shè)有定位孔可配合螺固件以固定于蝕刻機(jī)整流環(huán)，而該身部前端設(shè) 有一穿孔，該穿孔內(nèi)設(shè)有一壓件與一彈性件，該壓件是呈一細(xì)長(zhǎng)桿狀，有 效縮小該壓件與晶圓的接觸面積，且借該彈性件提供壓件壓固時(shí)的緩沖效 果，再配合該本體身部設(shè)有一較壓件凸出的停止塊，本實(shí)用新型用于壓固 定位蝕刻機(jī)載盤上的晶圓時(shí)，該本體是可隨蝕刻機(jī)的整流環(huán)上下位移而達(dá)
到固定與釋放晶圓之效，而該身部則可借停止塊與栽盤外圍無(wú)晶圓之處抵 頂，限制本體的向下總壓力最大值，據(jù)以防止本體行程過(guò)大，而將過(guò)大的
向下總壓力直接施于晶圓上，避免晶圓破裂或損壞；
而該本體身部前端的壓件，其是用以壓固定位晶圓，該壓件位于身部 穿孔內(nèi)的凸肋是與彈性件相抵接，除具緩沖效果外，借由選用適當(dāng)彈性系 數(shù)的彈性件，是可精準(zhǔn)的掌握每一壓件下壓于晶圓時(shí)，對(duì)晶圓所產(chǎn)生的壓 力，以確保晶圓在最穩(wěn)定的狀態(tài)下被固定于該位，并維持晶圓的完整性；
再者，每一本體每可單獨(dú)做調(diào)整，以因應(yīng)不同或特殊規(guī)格的晶圓制程， 而增加蝕刻機(jī)整體的適用性，因此本實(shí)用新型實(shí)是一種相當(dāng)具有實(shí)用性及 進(jìn)步性的實(shí)用新型，值得產(chǎn)業(yè)界來(lái)推廣，并公諸于社會(huì)大眾。
綜上所述，本實(shí)用新型具有上述諸多優(yōu)點(diǎn)及實(shí)用價(jià)值，其不論在產(chǎn)品 結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大的改進(jìn)，在技術(shù)上有顯著的進(jìn)步，并產(chǎn)生了好用及 實(shí)用的效果，且較現(xiàn)有的晶圓夾具有增進(jìn)的突出功效，從而更加適于實(shí)用， 并具有產(chǎn)業(yè)的廣泛利用價(jià)值，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。
上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí) 用新型的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施 例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖l是本實(shí)用新型機(jī)械式晶圓固定裝置立體分解圖。
圖2是本實(shí)用新型機(jī)械式晶圓固定裝置與蝕刻機(jī)臺(tái)組裝局部示意圖。
圖3是本實(shí)用新型機(jī)械式晶圓固定裝置與蝕刻機(jī)臺(tái)組裝整體俯視圖。
圖4是本實(shí)用新型機(jī)械式晶圓固定裝置壓固晶圓使用狀態(tài)剖視示意圖。
10:本體101:上表面
102:下表面
11:基部111:定位孔
112:螺固件
12:身部121:穿孔
122:壓件
1221:凸肋123:彈性件
124:固定件
125:停止塊20:整流環(huán)
201:螺孔
21:栽盤22:晶圓
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及
功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的機(jī)械式晶圓固 定裝置其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
本實(shí)用新型是有關(guān)于一種機(jī)械式晶圓固定裝置，請(qǐng)參閱圖1至圖3所 示，這種機(jī)械式晶圓固定裝置其本體IO主要是用以裝設(shè)于晶圓制程用的蝕 刻機(jī)整流環(huán)20上，該本體10具有上表面101與下表面102,而該本體10 是包括
一基部ll，該基部11略呈一梯形狀，該基部11于本體10的上表面101 與下表面102間貫穿設(shè)置有至少一定位孔111，該定位孔111是可配合'螺固 件112而令本體10由基部11被鎖設(shè)固定于蝕刻機(jī)的整流環(huán)20相對(duì)應(yīng)的螺 孔201上；該本體10的基部11與蝕刻機(jī)除鎖設(shè)固定的方式外，亦可釆嵌 卡固定、焊接固定或其它固定方式，且并不以上述的固定方式為限；
一身部12,該身部12是由基部11向一端延伸而形成者，該本體10的 整體形態(tài)是由基部11向身部12前端漸縮，而形成指形具流線型易于氣體 流通的外表；
該身部12前端處設(shè)有一穿孔121，該穿孔121概呈階級(jí)狀，該穿孔121 位于上表面101處的內(nèi)徑較下表面102處的內(nèi)徑大，該穿孔121內(nèi)容設(shè)有 一壓件122與一彈性件123，并于穿孔121上表面101端以一固定件124將 壓件122與彈性件123限位于穿孔121內(nèi)；該壓件122是概呈一細(xì)長(zhǎng)桿狀， 以減少與晶圓接觸的面積，其中端形成有一較大外徑的凸肋1221以供彈性 件123抵頂，該壓件122前較是可由穿孔121伸出于本體IO的下表面102, 該彈性件123則抵頂于壓件122凸肋1221與固定件124之間；
該身部12在穿孔121與基部11之間向下表面102的方向延伸出有一 停止塊125，且該停止塊125較壓件122更為凸出，而具有擋止限制本體 10的向下總壓力之效。
將復(fù)數(shù)個(gè)本體10以基部11的定位孔111與螺固件112鎖設(shè)，平均的裝 設(shè)于蝕刻機(jī)的整流環(huán)20上，如圖2與圖3所示，如此便完成該本體10的 組裝。
續(xù)請(qǐng)參閱圖4所示，本實(shí)用新型用于壓固定位蝕刻機(jī)載盤21上的晶圓 22時(shí)，該本體10是可隨蝕刻機(jī)的整流環(huán)20上下位移而達(dá)到固定與釋放晶 圓22之效，而該身部12則可借停止塊125與載盤21外圍無(wú)晶圓22之處 抵頂，限制本體10的向下總壓力最大值，據(jù)以防止本體IO行程過(guò)大，而 將過(guò)大的向下總壓力直接施于晶圓22上，避免晶圓22破裂或損壞；
而該本體10身部12前端的壓件122,其是用以壓固定位晶圓22，該 壓件U2位于身部12穿孔121內(nèi)的凸肋1221是與彈性件123相抵接，除
具緩沖效果外，借由選用適當(dāng)彈性系數(shù)的彈性件123,是可精準(zhǔn)的掌握每一 壓件122下壓于晶圓22時(shí)，對(duì)晶圓22所產(chǎn)生的壓力，以確保晶圓22在最 穩(wěn)定的狀態(tài)下被固定于該位，并維持晶圓22的完整性。
由上所述者僅為用以解釋本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非企圖據(jù)以對(duì) 本實(shí)用新型做任何形式上的限制，是以，凡有在相同的創(chuàng)作精神下所做有 關(guān)本實(shí)用新型的任何修飾或變更者，皆仍應(yīng)包括在本實(shí)用新型意圖保護(hù)的
范疇內(nèi)，其中如該壓件亦可采用具彈性的材質(zhì)所制，并直接成形于身部上， 如此亦可借由該壓件自身彈力，而提供壓固晶圓時(shí)的緩沖效果。
權(quán)利要求1、一種機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于其本體是包括一基部與一身部，該基部是供固定本體之用，而該身部前端設(shè)有一壓件與一彈性件，借該彈性件提供壓件壓固時(shí)的緩沖效果。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述身部 設(shè)有一較壓件凸出的停止塊。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述 身部前端設(shè)有 一 穿孔供壓件與彈性件容設(shè)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述穿孔 頂端設(shè)有一固定件。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述 基部設(shè)有至少一定位孔。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述 本體是由基部向身部前端漸縮，而呈一流線型。
7、 一種機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于其本體是包括一基部與一 身部，該基部是供固定本體之用，而該身部前端形成有一具彈性的壓件， 借該壓件自身的彈力而提供壓固時(shí)的緩沖效果。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述身部 設(shè)有一較壓件凸出的停止塊。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所述 基部設(shè)有至少一定位孔。
10、 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的機(jī)械式晶圓固定裝置，其特征在于所 述本體是由基部向身部前端漸縮，而呈一流線型。
專利摘要本實(shí)用新型是關(guān)于一種機(jī)械式晶圓固定裝置，其主要是用以裝設(shè)于蝕刻機(jī)的整流環(huán)上，其是包括一基部與一身部，該本體是由基部向身部前端漸縮而呈一流線型，有助于氣流通過(guò)，該基部設(shè)有定位孔可配合螺固件以固定于蝕刻機(jī)整流環(huán)，而該身部前端設(shè)有一穿孔，該穿孔內(nèi)設(shè)有一壓件與一彈性件，該壓件是呈一細(xì)長(zhǎng)桿狀，有效縮小該壓件與晶圓的接觸面積，且借該彈性件提供壓件壓固時(shí)的緩沖效果，再配合該本體身部設(shè)有一較壓件凸出的停止塊，以防止本體對(duì)晶圓產(chǎn)生過(guò)大的向下總壓力而造成破裂。
文檔編號(hào)H01L21/687GK201072755SQ20072014829
公開(kāi)日2008年6月11日 申請(qǐng)日期2007年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月18日
發(fā)明者陳慶安 申請(qǐng)人:志圣工業(yè)股份有限公司