專利名稱：圖案形成方法及其計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖案直接形成裝置(不使用掩模而執(zhí)行圖案形成的裝置)中的圖案形成方法及其計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，該圖案直接形成裝置通過使用多個空間光調(diào)制元件使對象物(圖案形成目標(biāo))的表面曝光來在該對象物的表面上形成所希望的圖案，該空間光調(diào)制元件安裝并分配給沿對象物的相對移動方向限定的各個曝光區(qū)域。
背景技術(shù)：
利用例如數(shù)字微反射鏡器件(DMD)等空間光調(diào)制元件曝光對象的圖案直接形成裝置，即無掩模曝光裝置為了連續(xù)曝光具有較大圖案形成區(qū)域的對象基板(對象物)，通過以均勻的傳送速度相對于圖案形成裝置沿一個方向相對移動對象基板，同時根據(jù)相對移動改變從空間光調(diào)制元件輸出的圖案，來執(zhí)行曝光過程，以在對象基板的表面上形成圖案(例如參見供參考的JP-A-2005-300805)。在這種情況下，限制了以下區(qū)域，在該區(qū)域上，一個空間光調(diào)制元件可以沿與對象基板的相對移動方向(傳送方向)垂直的方向執(zhí)行圖案形成一次。這樣，多個空間光調(diào)制元件沿與對象基板的傳送方向垂直的方向排列，使得圖案直接形成裝置可以沿此方向在對象物上均勻地執(zhí)行圖案形成。
當(dāng)直接曝光在對象基板上形成的抗蝕劑時，使用數(shù)字微反射鏡器件的無掩模曝光裝置生成與用于曝光的圖案對應(yīng)的圖案數(shù)據(jù)，將圖案數(shù)據(jù)輸入到數(shù)字微反射鏡器件，并根據(jù)圖像數(shù)據(jù)以傾斜方式移動數(shù)字微反射鏡器件中多個微反射鏡的每一個。如此，無掩模曝光裝置通過適當(dāng)?shù)馗淖兺ㄟ^將光投射到數(shù)字微反射鏡器件上而獲得的來自每一微反射鏡的反射光的方向以及使對象基板上的抗蝕劑曝光，來形成與圖案數(shù)據(jù)對應(yīng)的曝光圖案(例如參見供參考的JP-A-10-112579)。
數(shù)字微反射鏡器件的微反射鏡二維排列，使得每一列的排列方向與每一行的排列方向垂直(例如參見供參考的JP-A-2004-009595)?？梢酝ㄟ^使安裝在圖案形成頭(patterninghead)上的數(shù)字微反射鏡器件的微反射鏡行(或列)相對于對象基板的相對移動方向(即其上安裝對象基板的工作臺的掃描方向)傾斜預(yù)定角度，來以比數(shù)字微反射鏡器件的微反射鏡之間的間距更細(xì)微的分辨率執(zhí)行曝光過程。在這種情況下，適當(dāng)?shù)卮_定數(shù)字微反射鏡器件的微反射鏡的傾斜角度，以便使得對象基板的表面上的一個點(diǎn)通過以大致均勻的間隔彼此隔開定位在掃描線上的多個微反射鏡曝光多次。可以利用多個微反射鏡的多次曝光抑制數(shù)字微反射鏡器件中的不均勻照度和不同數(shù)字微反射鏡器件之間的不均勻照度。
在圖案直接形成裝置中，由數(shù)字微反射鏡器件形成的圖像由于安裝在具有數(shù)字微反射鏡器件的圖案形成頭上的光學(xué)系統(tǒng)的透鏡像差和組裝透鏡過程中的誤差而失真，因而在多次曝光時出現(xiàn)光點(diǎn)的位置偏移。
圖18A至18D是說明在多次曝光時可能出現(xiàn)在使用數(shù)字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置中的光點(diǎn)的位置偏移的示意圖。在圖18A至18D中，每一白色圓點(diǎn)表示由每一微反射鏡在對象基板上形成的相應(yīng)照射點(diǎn)。如圖18A所示，在這樣的理想情況下，即不存在安裝在圖案直接形成裝置的圖案形成頭上的光學(xué)系統(tǒng)的透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等，失真不會出現(xiàn)在對象基板的表面上的圖像中，并且照射點(diǎn)通過微反射鏡以均勻的間隔形成于相同掃描線L上。然而，如上所述，透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等實(shí)際上出現(xiàn)在光學(xué)系統(tǒng)中。從而，如圖18B至18D所示，在對象基板的表面上的圖像中出現(xiàn)失真，因而發(fā)生由微反射鏡形成的照射點(diǎn)的位置偏移。同樣，由于由微反射鏡形成的照射點(diǎn)的位置偏移，所以由微反射鏡形成的相同掃描線L上的照射點(diǎn)之間的間隔變得不均勻。由于光學(xué)系統(tǒng)單獨(dú)安裝在每一圖案形成頭上，所以由微反射鏡形成的照射點(diǎn)的位置偏移對于每個圖案形成頭，即每個數(shù)字微反射鏡器件是不同的。從而，如圖18B至18D所示，通過利用多個微反射鏡的多次曝光獲得的一個照射點(diǎn)中的曝光量(即光照射的累積量)對于每個數(shù)字微反射鏡器件是不同的。
圖19是說明利用圖案直接形成裝置中的數(shù)字微反射鏡器件的光的照度分布的一個實(shí)例的簡圖。如圖所示，三個數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點(diǎn)和黑色圓點(diǎn)各代表數(shù)字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡。各個數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3安裝在圖案直接形成裝置的每一圖案形成頭上，使得二維排列的微反射鏡行(或列)相對于對象基板的相對移動方向傾斜預(yù)定角度。
圖19所示黑色圓點(diǎn)表示位于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的微反射鏡排列平面的接合部分(以下稱為“接縫部分(stitchportion)”)附近的微反射鏡。與數(shù)字微反射鏡器件的中心附近相比，數(shù)字微反射鏡器件的接縫部分處的光的照度由于通過參照圖18B至18D所述的透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等而減小。由于光的照度分布的不均勻性而在對象基板上出現(xiàn)曝光不均勻性。
圖20是說明使用數(shù)字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置的曝光不均勻性和析像不良(defective resolution)之間關(guān)系的簡圖。如圖所示，三個數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板P的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點(diǎn)和黑色圓點(diǎn)分別代表數(shù)字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡，并且黑色圓點(diǎn)特別表示存在于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分附近的微反射鏡。
將說明以下情況作為一個實(shí)例，即將要成為半導(dǎo)體封裝件的小塊Q1至Q8安裝在對象基板P的表面上，并且配線圖案形成于每一小塊上。另外，在各個小塊Q1至Q8上存在形成高密度配線圖案的區(qū)域(圖中用點(diǎn)劃線表示)。特別地，在下文中，形成高密度配線圖案的區(qū)域稱為“細(xì)微圖案區(qū)域”。
在數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3曝光以圖20所示位置關(guān)系相對于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3相對移動的對象基板P時，位于數(shù)字微反射鏡器件的中心附近的每一微反射鏡曝光對象基板P上的區(qū)域R1、R2和R3，并且位于數(shù)字微反射鏡器件的接縫部分附近的每一微反射鏡曝光區(qū)域T1和T2。當(dāng)引起曝光不均勻性的位于數(shù)字微反射鏡器件的接縫部分附近的微反射鏡曝光細(xì)微圖案區(qū)域(用陰影區(qū)域表示)(區(qū)域T1和T2)時，在相應(yīng)區(qū)域中出現(xiàn)析像不良。
為了去除引起析像不良的曝光不均勻性，可以考慮使用較高精度的光學(xué)系統(tǒng)或者以較高精度精細(xì)調(diào)整圖案形成頭的安裝位置。然而，在組裝或調(diào)整圖案直接形成裝置的工作中需要大量時間、勞動和成本。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上情況做出本發(fā)明，本發(fā)明提供圖案直接形成裝置中的圖案形成方法及其計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，該圖案直接形成裝置利用多個空間光調(diào)制元件使對象物的表面曝光以在該對象物的表面上形成所希望的圖案，該空間光調(diào)制元件沿與該對象物的相對移動方向垂直的方向安裝，從而不會在該對象物的表面上出現(xiàn)析像不良。
在某些實(shí)施方式中，提供本發(fā)明的一種用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成方法，所述圖案形成方法包括確定所述對象物關(guān)于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數(shù)目的多個預(yù)定區(qū)域位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所述預(yù)定區(qū)域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩(wěn)定曝光區(qū)域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區(qū)域的中心部分，所述曝光區(qū)域沿所述對象物的所述相對移動方向限定；以及在所確定的布置可用范圍內(nèi)設(shè)定所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的設(shè)置位置，以通過分別分配給所述曝光區(qū)域的多個空間光調(diào)制元件使位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中的所述預(yù)定區(qū)域曝光。
也就是說，根據(jù)本發(fā)明的以上方面，在對象物沿與相對移動方向垂直的方向移動，使得該對象物的表面上本來位于曝光區(qū)域的邊界附近的預(yù)定區(qū)域位于空間光調(diào)制元件的曝光區(qū)域的中心部分附近之后，所述預(yù)定區(qū)域由與曝光區(qū)域?qū)?yīng)的空間光調(diào)制元件曝光。
該圖案形成方法可以通過由例如計(jì)算機(jī)等算術(shù)處理單元執(zhí)行的計(jì)算機(jī)程序?qū)崿F(xiàn)。用于執(zhí)行圖案形成方法的裝置或允許計(jì)算機(jī)執(zhí)行該圖案形成方法的計(jì)算機(jī)程序可以由能夠理解下列說明的所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來實(shí)現(xiàn)。另外，允許計(jì)算機(jī)執(zhí)行圖案形成方法的計(jì)算機(jī)程序可以存儲在存儲裝置上這一事實(shí)已為所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所知。
在某些實(shí)施方式中，提供本發(fā)明的一種具有程序的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述程序包括允許計(jì)算機(jī)執(zhí)行用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成處理的指令，所述指令包括確定所述對象物關(guān)于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數(shù)目的多個預(yù)定區(qū)域位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所述預(yù)定區(qū)域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩(wěn)定曝光區(qū)域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區(qū)域的中心部分，所述曝光區(qū)域沿所述對象物的所述相對移動方向限定；以及在所確定的布置可用范圍內(nèi)設(shè)定所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的設(shè)置位置，以通過分別分配給所述曝光區(qū)域的多個空間光調(diào)制元件使位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中的所述預(yù)定區(qū)域曝光。


圖1是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的第一示例性簡圖。
圖2是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的第二示例性簡圖。
圖3是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的流程圖。
圖4是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第一示例性簡圖。
圖5是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第二示例性簡圖。
圖6A和6B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第三示例性簡圖。
圖7A和7B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第四示例性簡圖。
圖8A和8B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第五示例性簡圖。
圖9A和9B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第六示例性簡圖。
圖10A和10B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第七示例性簡圖。
圖11A和11B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第八示例性簡圖。
圖12A和12B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第九示例性簡圖。
圖13A和13B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第十示例性簡圖。
圖14A和14B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第十一示例性簡圖。
圖15A和15B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第十二示例性簡圖。
圖16A和16B是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例確定對象基板的設(shè)置位置的具體實(shí)例的第十三示例性簡圖。
圖17是說明由存儲在計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)程序執(zhí)行的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案形成處理的框圖。
圖18A至18D是說明在通過微反射鏡多次曝光時可能出現(xiàn)在使用數(shù)字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置中的光點(diǎn)的位置偏移的示意圖。
圖19是說明利用圖案直接形成裝置中的數(shù)字微反射鏡器件的光照度分布的一個實(shí)例的簡圖。
圖20是說明使用數(shù)字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置的曝光不均勻性和析像不良之間關(guān)系的簡圖。
具體實(shí)施例方式
圖1和圖2是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案直接形成裝置的操作原理的簡圖。在本實(shí)施例中，三個數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板P的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點(diǎn)和黑色圓點(diǎn)分別代表數(shù)字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡。特別地，黑色圓點(diǎn)表示存在于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分附近的微反射鏡。在本實(shí)施例中，例如將要成為半導(dǎo)體封裝件的小塊Q1至Q8安裝在對象基板P的表面上，并且配線圖案形成于每個小塊上。在每一小塊Q1至Q8上存在細(xì)微圖案區(qū)域(圖中用點(diǎn)劃線表示)，在該區(qū)域中，以較高密度形成配線圖案，達(dá)到曝光不均勻性影響析像的程度。另外，數(shù)字微反射鏡器件的數(shù)目和安裝在對象基板上的小塊的數(shù)目不局限于本發(fā)明的實(shí)施例，而是可以使用其它數(shù)目。
利用數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的曝光區(qū)域劃分成兩種區(qū)域，即穩(wěn)定曝光區(qū)域R1、R2和R3以及區(qū)域T1和T2，穩(wěn)定曝光區(qū)域R1、R2和R3位于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的中心附近，在區(qū)域T1和T2中，可能由于存在于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分中的微反射鏡而出現(xiàn)曝光不均勻性。
各個小塊Q1、Q3、Q5和Q7沿與相對移動方向垂直的方向排列在對象基板P的表面上。圖1中示出了這樣的狀態(tài)，即小塊Q1、Q3、Q5和Q7中最大數(shù)目的細(xì)微圖案區(qū)域存在于數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的穩(wěn)定曝光區(qū)域R1、R2和R3中。如圖所示，小塊Q1中的細(xì)微圖案區(qū)域位于數(shù)字微反射鏡器件D1的穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，并且小塊Q7中的細(xì)微圖案區(qū)域位于數(shù)字微反射鏡器件D3的穩(wěn)定曝光區(qū)域R3中。當(dāng)使小塊Q1和Q7中位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中的細(xì)微圖案區(qū)域曝光時，對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的位置確定為該對象在與相對移動方向垂直的方向上的設(shè)置位置。在本實(shí)施例中，通過以圖1所示位置關(guān)系使用數(shù)字微反射鏡器件D1和D3照射光來使小塊Q1和Q7曝光。同樣，通過在圖1所示位置關(guān)系下使用數(shù)字微反射鏡器件D1和D3照射光來使分別相對于小塊Q1和Q7沿對象基板的相對移動方向定位的小塊Q2和Q8曝光。
同時，在圖1所示位置關(guān)系下，小塊Q3中的細(xì)微圖案區(qū)域不位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中，而是位于由處于數(shù)字微反射鏡器件D1和D2之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區(qū)域T1中。同樣，在圖1所示位置關(guān)系下，小塊Q5中的細(xì)微圖案區(qū)域不位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中，而是位于由處于數(shù)字微反射鏡器件D2和D3之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區(qū)域T2中。當(dāng)細(xì)微圖案區(qū)域由引起曝光不均勻性的位于接縫部分中的微反射鏡曝光時，可能出現(xiàn)析像不良。從而，在本實(shí)施例中，至于小塊Q3和Q5中的細(xì)微圖案區(qū)域，未在圖1所示位置關(guān)系下照射光，因此未使小塊Q3和Q5中的細(xì)微圖案區(qū)域曝光。
在圖1所示位置關(guān)系下，沿與相對移動方向垂直的方向移動對象基板P，以便使得如圖2所示，小塊Q3和Q5中位于數(shù)字微反射鏡器件之間的接縫部分附近的細(xì)微圖案區(qū)域位于數(shù)字微反射鏡器件的穩(wěn)定曝光區(qū)域中。也就是說，移動對象基板P，使得小塊Q3中的細(xì)微圖案區(qū)域位于數(shù)字微反射鏡器件D2的穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且小塊Q5中的細(xì)微圖案區(qū)域位于數(shù)字微反射鏡器件D3的穩(wěn)定曝光區(qū)域R3中。當(dāng)使小塊Q3和Q5中位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2和R3中的細(xì)微圖案區(qū)域曝光時，對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的位置確定為該對象物在與相對移動方向垂直的方向上的設(shè)置位置。也就是說，通過在圖2所示位置關(guān)系下使用數(shù)字微反射鏡器件D2和D3照射光來使小塊Q3和Q5中的細(xì)微圖案區(qū)域曝光。同樣，通過在圖2所示位置關(guān)系下使用數(shù)字微反射鏡器件D2和D3照射光來使分別相對于小塊Q3和Q5沿對象基板的相對移動方向定位的小塊Q4和Q6曝光。
圖3是說明確定根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的對象基板的設(shè)置位置的操作的流程圖。另外，圖4至16B是說明用于確定對象基板的設(shè)置位置的一個具體實(shí)例的簡圖。
在該具體實(shí)例中，將參考以下情況進(jìn)行說明，即通過使用圖4所示三個數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3來使圖5所示對象基板P曝光。
在圖4中，粗箭頭表示數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的相對移動方向，并且白色圓點(diǎn)表示數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3中二維排列的微反射鏡。在本實(shí)施例中，為了做出清楚的說明，沿與相對移動方向垂直的方向設(shè)置圖中所示坐標(biāo)軸。在具體實(shí)例中，將數(shù)字微反射鏡器件D1、D2和D3的中心附近的各個穩(wěn)定曝光區(qū)域在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設(shè)為“60”。另外，將穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R2之間的距離和穩(wěn)定曝光區(qū)域R2和R3之間的距離設(shè)為“30”。也就是說，沿著與相對移動方向垂直的方向，將數(shù)字微反射鏡器件D1的中心附近的穩(wěn)定曝光區(qū)域R1定位在“0到60”范圍內(nèi)，將數(shù)字微反射鏡器件D2的中心附近的穩(wěn)定曝光區(qū)域R2定位在“90到150”范圍內(nèi)，并將數(shù)字微反射鏡器件D3的中心附近的穩(wěn)定曝光區(qū)域R3定位在“180到240”范圍內(nèi)。
在本實(shí)施例中，如圖5所示，不應(yīng)該由位于數(shù)字微反射鏡器件之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區(qū)域F1至F8(稱為“分配目標(biāo)區(qū)域”)沿與相對移動方向垂直的方向以均勻的間隔排列在對象基板P上。在具體實(shí)例中，分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8就是上述細(xì)微圖案區(qū)域。在具體實(shí)例中，還在對象基板P的表面上除分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8之外的區(qū)域形成配線圖案。然而，假定即使當(dāng)位于數(shù)字微反射鏡器件之間的接縫部分中的微反射鏡用于曝光時，也可以在不引起析像不良的情況下使這些配線圖案曝光。
在具體實(shí)例中，將對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設(shè)為“210”。為方便起見，對象基板P的最左端稱為PL，其最右端稱為PR。只要未特別提及，對象基板P的位置就表示為“對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)”。各個分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設(shè)為“15”，并且分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8之間均勻間隔的距離設(shè)為“10”。對象基板P的最左端PL和分配目標(biāo)區(qū)域F1的最左側(cè)之間的距離設(shè)為“10”，并且對象基板P的最右端PR和分配目標(biāo)區(qū)域F8的最右側(cè)之間的距離也設(shè)為“10”。
首先，在圖3所示步驟S100中，判斷是否存在尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域，這在下面說明。
在圖3所示步驟S101中，將沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標(biāo)區(qū)域中位于最左端的分配目標(biāo)區(qū)域分配給最左邊的穩(wěn)定曝光區(qū)域。也就是說，如圖6A所示，在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8中，位于對象基板P的最左端的分配目標(biāo)區(qū)域F1分配給位于最左端的穩(wěn)定曝光區(qū)域R1。之后，沿與對象基板P的相對移動方向垂直的方向從一側(cè)按順序，即如下所述按照本實(shí)施例中的分配目標(biāo)區(qū)域F1、F2、F3、F4、F5、F6、F7和F8的順序執(zhí)行計(jì)算對象基板P的臨時布置范圍的處理(即圖3中步驟S102的處理)，在該范圍內(nèi)，分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。另外，本發(fā)明不局限于本實(shí)施例中的計(jì)算處理的順序，而是可以按照本實(shí)施例的相反順序，即F8、F7、F6、F5、F4、F3、F2和F1的順序執(zhí)行該處理。在這種情況下，在圖3的步驟S101中，可以在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標(biāo)區(qū)域F1至F8中位于對象基板P的最右端的分配目標(biāo)區(qū)域F8分配給穩(wěn)定曝光區(qū)域R3之后執(zhí)行該處理。
首先，如參照圖6A和6B所述，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，在該范圍內(nèi)，分配目標(biāo)區(qū)域F1可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。當(dāng)對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖6A所示最左端PL位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最左端的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“0”)和如圖6B所示最右端PR位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R3的最右端的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“30”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F1位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，并且對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F1可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到30”。
繼而，參考圖7A和7B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F1相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即圖6A和6B中所述的分配目標(biāo)區(qū)域F1位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。從而，在以上已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到30”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。也就是說，當(dāng)對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖7A所示最左端PL位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最左側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“0”)和如圖7B所示分配目標(biāo)區(qū)域F2的最右端位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最右側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“10”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F1可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。另外，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。從而，即使當(dāng)對象基板P的臨時布置范圍是“0到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到10”。
繼而，參考圖8A和8B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F2相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A和7B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。從而，在以上已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。在這種情況下，如圖8A和8B所示，即使當(dāng)對象基板P臨時設(shè)置在作為臨時布置范圍的“0到10”范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F3的最左端的坐標(biāo)也僅僅位于“60到70”范圍內(nèi)，無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，不在這一步中計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也不給分配目標(biāo)區(qū)域F3分配任何穩(wěn)定曝光區(qū)域。
繼而，參考圖9A和9B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F3相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F4可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F4可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A和7B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，當(dāng)計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F4可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標(biāo)區(qū)域F3排除在計(jì)算之外。也就是說，當(dāng)對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖9A所示分配目標(biāo)區(qū)域F4的最左側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2的最左側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“5”)和如圖9B所示分配目標(biāo)區(qū)域F2的最右側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最右側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“10”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F4位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。另外，如已經(jīng)參照圖6A和6B所述，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。從而，即使當(dāng)對象基板P的臨時布置范圍是“5到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F4可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
繼而，參考圖10A和10B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F4相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A和9B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F4也位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，當(dāng)計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標(biāo)區(qū)域F3排除在計(jì)算之外。也就是說，當(dāng)對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖10A所示分配目標(biāo)區(qū)域F4的最左側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2的最左側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“5”)和如圖10B所示分配目標(biāo)區(qū)域F2的最右側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最右側(cè)的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標(biāo)是“10”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，分配目標(biāo)區(qū)域F4可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。另外，如已經(jīng)參照圖6A和6B所述，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。從而，即使當(dāng)對象基板P的臨時布置范圍是“5到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
繼而，參考圖11A和11B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F5相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中并且分配目標(biāo)區(qū)域F4和F5也位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，當(dāng)計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標(biāo)區(qū)域F3排除在計(jì)算之外。在這種情況下，如圖11A和11B所示，即使當(dāng)對象基板P臨時設(shè)置在“5到10”的臨時布置范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F6的最左端的坐標(biāo)也只是位于“140到145”范圍內(nèi)，而分配目標(biāo)區(qū)域F6無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，不在這一步中計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也不給分配目標(biāo)區(qū)域F6分配任何穩(wěn)定曝光區(qū)域。
繼而，參考圖12A和12B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F6相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中并且分配目標(biāo)區(qū)域F4和F5也位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A、8B、11A和11B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3和F6無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，當(dāng)計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標(biāo)區(qū)域F3和F6排除在計(jì)算之外。在這種情況下，如圖12A和12B所示，即使當(dāng)對象基板P臨時設(shè)置在“5到10”的臨時布置范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F7的最左端的坐標(biāo)也只是位于“165到170”范圍內(nèi)，而分配目標(biāo)區(qū)域F7不位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，不在這一步中計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也給分配目標(biāo)區(qū)域F7分配任何穩(wěn)定曝光區(qū)域。
接下來，參考圖13A和13B所示，計(jì)算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F7相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中并且分配目標(biāo)區(qū)域F4和F5也位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A、8B、11A、11B、12A和12B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7無法位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中。從而，當(dāng)計(jì)算分配目標(biāo)區(qū)域F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7排除在計(jì)算之外。在這種情況下，如圖13A和13B所示，當(dāng)對象基板P處于作為所計(jì)算出的對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R3中。另外，分配目標(biāo)區(qū)域F4和F5可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。因此，對象基板P的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F8可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R3中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
如上所述，對于分配目標(biāo)區(qū)域F1、F2、F3、F4、F5、F6、F7和F8完成了圖3中步驟S102中的計(jì)算處理。因此，由于對象基板P的最終臨時布置范圍計(jì)算為“5到10”，所以在圖3中的步驟S103中，將“5到10”的范圍確定為在與對象基板P的相對移動方向垂直的方向上的布置可用范圍。當(dāng)對象基板P安裝在“5到10”的布置可用范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F1和F2位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，分配目標(biāo)區(qū)域F4和F5位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F8位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R3中。從而，當(dāng)對象基板P安裝在“5到10”的布置可用范圍內(nèi)時，使位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的分配目標(biāo)區(qū)域F1、F2、F4、F5和F8曝光。反之，由于尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7不位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所以不在這一步中執(zhí)行曝光過程。
至于尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7，在沿與相對移動方向垂直的方向移動曝光目標(biāo)基板P之后，再次執(zhí)行圖3中的步驟S102中的計(jì)算處理。也就是說，在圖3中的步驟S100中判斷存在尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域之后，再次執(zhí)行步驟S101至S103的每一處理。另外，將圖6A至13B所示對象基板P重新定義為對象基板P′，其中，如圖14A和14B所示，分配目標(biāo)區(qū)域F3的最左側(cè)設(shè)置為對象基板的最左端PL′，并且分配目標(biāo)區(qū)域F7的最右側(cè)設(shè)置為對象基板的最右端PR′。之后，執(zhí)行計(jì)算處理。
在圖3所示步驟S101中，在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P′的表面上的尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7中，位于最左端的分配目標(biāo)區(qū)域F3分配給最左邊的穩(wěn)定曝光區(qū)域R1。之后，沿與對象基板P′的相對移動方向垂直的方向從一側(cè)按順序，即按照分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7的順序執(zhí)行計(jì)算對象基板P′的臨時布置范圍的處理(即圖3中步驟S102的處理)，在該范圍內(nèi)，分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。
首先，在圖14A和14B中，計(jì)算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。當(dāng)對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖14A所示分配目標(biāo)區(qū)域F3的最左側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最左側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“0”)和如圖14B所示分配目標(biāo)區(qū)域F3的最右側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最右側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“45”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。因此，對象基板P′的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到45”。
繼而，參考圖15A和15B所示，計(jì)算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F3相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P′的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖14A和14B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P′的臨時布置范圍的“0到45”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。當(dāng)對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖15A所示分配目標(biāo)區(qū)域F6的最左側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2的最左側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“15”)和如圖15B所示分配目標(biāo)區(qū)域F3的最右側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1的最右側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“45”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F3可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中。因此，對象基板P′的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F6可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中這一條件的臨時布置范圍是“15到45”。
繼而，參考圖16A和16B所示，計(jì)算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標(biāo)區(qū)域F6相鄰的分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中。分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板P′的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖14A、14B、15A和15B所述，分配目標(biāo)區(qū)域F3和F6分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R2中。從而，在已經(jīng)計(jì)算作為對象基板P′的臨時布置范圍的“15到45”范圍內(nèi)計(jì)算該臨時布置范圍。也就是說，當(dāng)對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖16A所示分配目標(biāo)區(qū)域F6的最左側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2的最左側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“15”)和如圖16B所示分配目標(biāo)區(qū)域F7的最右側(cè)位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2的最右側(cè)的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標(biāo)是“35”)之間時，分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F3和F6可以分別位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1和R2中。因此，對象基板P′的滿足分配目標(biāo)區(qū)域F7可以位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中這一條件的臨時布置范圍是“15到35”。
如上所述，對于分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7完成了圖3中步驟S102中的計(jì)算處理。因此，由于對象基板P′的最終臨時布置范圍計(jì)算為“15到35”，所以在圖3中的步驟S103中，將“15到35”的范圍確定為在與對象基板P′的相對移動方向垂直的方向上的布置可用范圍。當(dāng)對象基板P′安裝在“5到10”的布置可用范圍內(nèi)時，分配目標(biāo)區(qū)域F3位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R1中，并且分配目標(biāo)區(qū)域F6和F7位于穩(wěn)定曝光區(qū)域R2中。從而，當(dāng)對象基板P′安裝在“15到35”的布置可用范圍內(nèi)時，使位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的分配目標(biāo)區(qū)域F3、F6和F7曝光。
在這一步中，在存在任何尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域的情況下，盡管該情況不適用于本實(shí)施例，但是由于尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域不位于任何穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所以不在這一步中執(zhí)行曝光過程。至于尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域，沿與相對移動方向垂直的方向再次移動曝光對象基板P′。之后，再次執(zhí)行圖3中的步驟S102中的計(jì)算處理。也就是說，在圖3的步驟S100中，在判斷存在尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域之后，再次執(zhí)行步驟S101至S103的每一處理。
通過執(zhí)行上述步驟S100至S103直到不存在尚未分配的分配目標(biāo)區(qū)域，確定分配目標(biāo)區(qū)域全部位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中的對象基板的設(shè)置位置。當(dāng)與對象基板的設(shè)置位置對應(yīng)的分配目標(biāo)區(qū)域在這樣確定的設(shè)置位置曝光時，不會在對象基板的表面上出現(xiàn)析像不良。另外，需要根據(jù)對象基板的設(shè)置位置預(yù)先校正圖案形成處理中所需的圖案數(shù)據(jù)。通過經(jīng)圖案直接形成裝置的控制單元向每一數(shù)字微反射鏡器件提供經(jīng)校正的圖案數(shù)據(jù)，執(zhí)行圖案形成處理。另外，可以在對于所有分配目標(biāo)區(qū)域通過計(jì)算處理計(jì)算對象基板的設(shè)置位置之后，共同執(zhí)行圖案形成處理?；蛘?，無論何時對于每個分配目標(biāo)區(qū)域通過計(jì)算處理計(jì)算對象基板的設(shè)置位置，都可以單獨(dú)執(zhí)行圖案形成處理。
在本實(shí)施例的上述具體實(shí)例中，在上面對以下情況進(jìn)行了說明，即多個例如半導(dǎo)體封裝件等小塊安裝在對象基板的表面上，并且曝光不均勻性影響析像的細(xì)微圖案包括在小塊的一部分中。然而，本發(fā)明也可以適用于包含不同于細(xì)微圖案的特定區(qū)域的小塊。除使用數(shù)字微反射鏡器件(DMD)的圖案直接形成裝置之外，本發(fā)明還可以適用于使用例如LCD陣列等空間光調(diào)制元件的圖案形成裝置。
通過使用圖案直接形成裝置本身和例如用于控制圖案直接形成裝置的計(jì)算機(jī)等算術(shù)處理裝置來實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案形成處理。圖17是說明基于存儲在計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)程序執(zhí)行的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案形成處理的原理的框圖。
如圖17所示，用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案形成處理的計(jì)算機(jī)程序存儲在計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110(例如軟盤和CD-ROM等外部存儲介質(zhì))中，并加載在計(jì)算機(jī)上，該計(jì)算機(jī)具有例如下述結(jié)構(gòu)，以便用作圖案直接形成裝置的控制單元。
CPU 111控制圖案直接形成裝置的整個控制單元。ROM 113、RAM114、HD(硬盤裝置)115、例如鼠標(biāo)或鍵盤等輸入裝置116、外部存儲介質(zhì)驅(qū)動裝置117以及例如LCD、CRT、等離子顯示器和有機(jī)EL等顯示裝置118通過總線112與CPU 111連接。CPU 111的控制程序存儲在ROM 113中。
用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的圖案形成處理的程序(圖案形成處理程序)從計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110安裝(存儲)到HD 115。在RAM 114中，保證CPU 111執(zhí)行圖案形成處理的工作空間或存儲執(zhí)行圖案形成處理的程序的一部分的空間。輸入數(shù)據(jù)、最終數(shù)據(jù)、OS(操作系統(tǒng))等預(yù)先存儲在HD 115中。
首先，當(dāng)計(jì)算機(jī)開啟時，CPU 111從ROM 113讀取控制程序，并進(jìn)一步從HD 115讀取OS以啟動OS。這樣計(jì)算機(jī)準(zhǔn)備好從計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110安裝圖案形成處理程序。
接下來，計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110安裝在外部存儲介質(zhì)驅(qū)動裝置117中，控制命令從輸入裝置116輸入到CPU 111，然后存儲在計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110中的圖案形成處理程序被讀取而存儲在HD 115等中。這樣，圖案形成處理程序安裝在計(jì)算機(jī)中。
繼而，當(dāng)圖案形成處理程序啟動時，計(jì)算機(jī)用作圖案直接形成裝置的控制單元。操作人員可以通過利用例如顯示裝置118上顯示的交互方法根據(jù)工作的內(nèi)容和規(guī)程操作輸入裝置116來執(zhí)行上述圖案形成處理。作為該處理的結(jié)果而獲得的“每個分配目標(biāo)區(qū)域的關(guān)于對象基板在與相對移動方向垂直的方向上的設(shè)置位置的數(shù)據(jù)”存儲在例如HD 115中，以便以后使用或在顯示裝置118上直觀地顯示處理結(jié)果。
另外，如圖17所示，存儲在計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)110中的程序安裝在計(jì)算機(jī)中的HD 115中。然而，本發(fā)明不局限于本實(shí)施例。在本發(fā)明中，程序可以通過例如LAN等信息傳輸介質(zhì)安裝到計(jì)算機(jī)上，或者程序可以預(yù)先安裝在包含在計(jì)算機(jī)中的HD 115中。
本發(fā)明可適用于圖案形成裝置，即，使用例如數(shù)字微反射鏡器件(DMD)和LCD陣列等空間光調(diào)制元件來執(zhí)行曝光的曝光裝置，其中在圖案形成目標(biāo)區(qū)域較大的對象基板(對象)上直接形成圖案。例如，本發(fā)明可適用于在依次傳送例如金屬板、金屬環(huán)帶材料、配線基板或撓性基板等板形對象基板的同時執(zhí)行圖案形成處理的圖案直接形成裝置。
根據(jù)本發(fā)明，通過使用多個空間光調(diào)制元件，可以以較低成本執(zhí)行直接圖案形成處理，該多個空間光調(diào)制元件布置為在對象物連續(xù)地相對移動的同時，在該對象物的表面上執(zhí)行直接圖案形成處理，通過該直接圖案形成處理，不會在對象基板上出現(xiàn)析像不良，并且該處理具有較高的圖案形成精度。另外，不會在圖案形成的成品中出現(xiàn)例如電路圖案短路或接觸不良等嚴(yán)重缺陷。
根據(jù)本發(fā)明的以上方面，通過使用沿對象物的相對移動方向安裝的多個空間光調(diào)制元件使該對象物的表面曝光而在該對象物的表面上形成所希望的圖案的圖案直接形成裝置可以以較低成本實(shí)現(xiàn)圖案形成處理，其中不會在該對象物的表面上出現(xiàn)析像不良。
根據(jù)本發(fā)明的以上方面，沒有必要設(shè)計(jì)以較高精度安裝在圖案形成頭上的光學(xué)系統(tǒng)。此外，可以減少組裝或調(diào)整直接曝光裝置的工作中的勞動、時間和成本。此外，本發(fā)明可以適用于現(xiàn)有技術(shù)的圖案直接形成裝置。例如，僅僅通過將實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的以上方面的圖案形成方法的計(jì)算機(jī)程序加載到用于控制圖案直接形成裝置的計(jì)算機(jī)程序上，就可以容易地防止在對象物的表面上出現(xiàn)析像不良。
對所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，顯然，在未背離本發(fā)明的要旨或保護(hù)范圍的情況下，可以對本發(fā)明的所述優(yōu)選實(shí)施例做出各種修改和變型。這樣，本發(fā)明意在涵蓋與所附權(quán)利要求書及其等同內(nèi)容所限定的保護(hù)范圍一致的本發(fā)明的所有修改和變型。
本申請基于2006年6月20日提交的日本專利申請No.2006-170507并要求該申請的外國優(yōu)先權(quán)，該申請的全部內(nèi)容在此以引用的方式并入本文中。
權(quán)利要求
1.一種用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成方法，包括確定步驟，其確定所述對象物關(guān)于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數(shù)目的多個預(yù)定區(qū)域位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所述預(yù)定區(qū)域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩(wěn)定曝光區(qū)域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區(qū)域的中心部分，沿所述對象物的所述相對移動方向限定所述曝光區(qū)域；以及設(shè)定步驟，其在所確定的布置可用范圍內(nèi)設(shè)定所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的設(shè)置位置，以通過分別分配給所述曝光區(qū)域的多個空間光調(diào)制元件使位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中的所述預(yù)定區(qū)域曝光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，還包括沿與所述相對移動方向垂直的方向從一側(cè)依次對于所述各個預(yù)定區(qū)域執(zhí)行計(jì)算處理，其中，在所述計(jì)算處理中，在對于沿與所述相對移動方向垂直的方向與正在計(jì)算中的所述預(yù)定區(qū)域相鄰的另一預(yù)定區(qū)域在前的計(jì)算處理中計(jì)算出的臨時布置范圍內(nèi)計(jì)算所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的下述臨時布置范圍在所述臨時布置范圍內(nèi)，正在計(jì)算中的所述預(yù)定區(qū)域位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且將下述預(yù)定范圍排除在對于接下來將要計(jì)算的所述臨時布置范圍的計(jì)算處理之外，當(dāng)所述對象物臨時設(shè)置于在前的計(jì)算處理中計(jì)算出的所述臨時布置范圍內(nèi)時，所述預(yù)定范圍不位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且其中，將下述臨時布置范圍確定為所述對象物的所述布置可用范圍所述臨時布置范圍是通過對于沿與所述相對移動方向垂直的方向排列在所述對象物的表面上的所有一系列預(yù)定范圍執(zhí)行所述計(jì)算處理而最終計(jì)算得出的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其中，在所述對象物沿與所述相對移動方向垂直的方向移動的狀態(tài)下，對于下述預(yù)定區(qū)域再次執(zhí)行所述確定步驟當(dāng)所述對象物放置在所述設(shè)置位置時，所述預(yù)定區(qū)域不位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且在所確定的布置可用范圍內(nèi)重新設(shè)定所述對象物的用于使所述預(yù)定區(qū)域曝光的所述設(shè)置位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述預(yù)定區(qū)域存在于安裝在所述對象物的表面上的各個小塊中，并且所述預(yù)定區(qū)域中的圖案以比相同小塊中除所述預(yù)定區(qū)域之外的區(qū)域的密度高的密度形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述預(yù)定區(qū)域沿與所述相對移動方向垂直的方向以大致均勻的間隔排列在所述對象物的表面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述穩(wěn)定曝光區(qū)域由來自所述空間光調(diào)制元件的光穩(wěn)定地曝光，所述光能夠以高密度形成圖案。
7.一種具有程序的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述程序包括允許計(jì)算機(jī)執(zhí)行用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成處理的指令，所述指令包括確定步驟，其確定所述對象物關(guān)于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數(shù)目的多個預(yù)定區(qū)域位于穩(wěn)定曝光區(qū)域中，所述預(yù)定區(qū)域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩(wěn)定曝光區(qū)域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區(qū)域的中心部分，沿所述對象物的所述相對移動方向限定所述曝光區(qū)域；以及設(shè)定步驟，其在所確定的布置可用范圍內(nèi)設(shè)定所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的設(shè)置位置，以通過分別分配給所述曝光區(qū)域的多個空間光調(diào)制元件使位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中的所述預(yù)定區(qū)域曝光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述指令還包括沿與所述相對移動方向垂直的方向從一側(cè)依次對于所述各個預(yù)定區(qū)域執(zhí)行計(jì)算處理，其中，在所述計(jì)算處理中，在對于沿與所述相對移動方向垂直的方向與正在計(jì)算中的所述預(yù)定區(qū)域相鄰的另一預(yù)定區(qū)域在前的計(jì)算處理中計(jì)算出的臨時布置范圍內(nèi)計(jì)算所述對象物關(guān)于與所述相對移動方向垂直的方向的下述臨時布置范圍在所述臨時布置范圍內(nèi)，正在計(jì)算中的所述預(yù)定區(qū)域位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且將下述預(yù)定范圍排除在對于接下來將要計(jì)算的所述臨時布置范圍的計(jì)算處理之外，當(dāng)所述對象物臨時設(shè)置于在前的計(jì)算處理中計(jì)算出的所述臨時布置范圍內(nèi)時，所述預(yù)定范圍不位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且其中，將下述臨時布置范圍確定為所述對象物的所述布置可用范圍所述臨時布置范圍是通過對于沿與所述相對移動方向垂直的方向排列在所述對象物的表面上的所有一系列預(yù)定范圍執(zhí)行所述計(jì)算處理而最終計(jì)算得出的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，在所述對象物沿與所述相對移動方向垂直的方向移動的狀態(tài)下，對于下述預(yù)定區(qū)域再次執(zhí)行所述確定步驟當(dāng)所述對象物放置在所述設(shè)置位置時，所述預(yù)定區(qū)域不位于所述穩(wěn)定曝光區(qū)域中，并且在所確定的布置可用范圍內(nèi)重新設(shè)定所述對象物的用于使所述預(yù)定區(qū)域曝光的所述設(shè)置位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述預(yù)定區(qū)域存在于安裝在所述對象物的表面上的各個小塊中，并且所述預(yù)定區(qū)域中的圖案以比相同小塊中除所述預(yù)定區(qū)域之外的區(qū)域的密度高的密度形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述預(yù)定區(qū)域沿與所述相對移動方向垂直的方向以大致均勻的間隔排列在所述對象物的表面上。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述穩(wěn)定曝光區(qū)域由來自所述空間光調(diào)制元件的光穩(wěn)定地曝光，所述光能夠以高密度形成圖案。
全文摘要
本發(fā)明公開一種圖案形成方法及其計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，在利用分配給沿對象物的相對移動方向限定的各個曝光區(qū)域的多個空間光調(diào)制元件使該對象物的表面曝光以在該對象物的表面上形成所希望的圖案的圖案形成裝置中，在該對象物沿與相對移動方向垂直的方向移動，使得該對象物的表面上位于各個曝光區(qū)域的邊界附近的預(yù)定區(qū)域位于由空間光調(diào)制元件曝光的曝光區(qū)域的中心部分附近之后，所述預(yù)定區(qū)域由與曝光區(qū)域?qū)?yīng)的空間光調(diào)制元件曝光。
文檔編號H01L21/027GK101093361SQ20071010677
公開日2007年12月26日 申請日期2007年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月20日
發(fā)明者吉澤惠資, 小山利德, 赤川雅俊 申請人:新光電氣工業(yè)株式會社