專利名稱：具有防止制程污染的制造系統(tǒng)與處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種用于防止制程中發(fā)生污染的系統(tǒng)與方法，特別是有關(guān)于一種防止半導(dǎo)體制程中發(fā)生污染的方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)系統(tǒng)當(dāng)中，為避免制程機臺受污染，而連帶使得經(jīng)被污染制程機臺處理的在制品也遭受污染，會規(guī)范在制品制造流程中使用制程機臺的順序和種類。例如，經(jīng)過設(shè)備A處理后的在制品帶有金屬污染，而不能到設(shè)備B上進行處理。而經(jīng)過設(shè)備B處理后的在制品不具有任何可能污染設(shè)備A的物質(zhì)，而可以到設(shè)備A上進行處理。
目前半導(dǎo)體制造廠中都是以制造執(zhí)行系統(tǒng)(Manufacturing ExecutionSystem，MES)來控制所有的產(chǎn)品生產(chǎn)以及設(shè)備，然而在具少量多樣、交期緊迫、生產(chǎn)條件變化多端的營運特性的產(chǎn)業(yè)(例如晶片制造業(yè)等)，由于制造現(xiàn)場流程復(fù)雜，分批、并批、跳站、外包、手動操作等異常生產(chǎn)狀況極為頻繁，極易發(fā)生上述制程中污染的狀況。
簡言之，現(xiàn)有半導(dǎo)體制造廠中缺乏有效的制程污染防制的方法，其于分批、并批、跳站、外包、手動操作等異常生產(chǎn)狀況發(fā)生時，無法確保制程機臺與在制品之間不會發(fā)生交互污染，而造成嚴重的損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一目的為提供一種防止制程機臺于制程中污染的系統(tǒng)與方法，其是在制造執(zhí)行系統(tǒng)監(jiān)控制程流程時能防止具有特定污染狀態(tài)的在制品進入特定制程機臺，使得上述制程機臺不會被其處理對象所污染。
本發(fā)明的另一目的為提供一種監(jiān)控在制品污染狀態(tài)的系統(tǒng)與方法，其是在一在制品經(jīng)過特定制程機臺處理后，依據(jù)上述制程機臺及制程步驟的性質(zhì)，更新上述在制品的污染狀態(tài)紀錄，提供制造執(zhí)行系統(tǒng)控制上述產(chǎn)品制造流程及后續(xù)處理步驟的制程機臺之用。
本發(fā)明的再一目的為提供一種確認污染屬性設(shè)定的系統(tǒng)與方法，其是于制程機臺的污染屬性設(shè)定完成之后，先行模擬制程步驟中制程機臺的污染屬性及在制品污染屬性的比對，使得能夠確認制程機臺的污染設(shè)定是否正確，避免制程機臺開始執(zhí)行加工程序時使用不正確的污染設(shè)定可能造成的損害及損失。
為達成上述目的，本發(fā)明提供一種具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其包括多個制程機臺、一污染屬性確認系統(tǒng)及一污染防制系統(tǒng)。其中上述多個制程機臺是用以分別處理至少一在制品，每一上述制程機臺具有一貢獻污染屬性設(shè)定值以及一拒絕污染屬性設(shè)定值，每一上述在制品具有一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。其中上述污染屬性確認系統(tǒng)用以在開始進行制程步驟前，針對每一制程步驟，確認上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確，其是比對上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以產(chǎn)生一警示旗標，使得上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值不相符時，再行確認及/或修改上述制程機臺的相關(guān)設(shè)定，直到上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值相符時，即根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值。其中上述污染防制系統(tǒng)是于上述每一制程機臺接受上述在制品之前，檢查上述在制品的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述在制品，當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值不符合上述制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值時，使上述制程機臺接受上述在制品，并根據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述在制品的一中途污染屬性設(shè)定值，并于上述制程機臺處理上述在制品之后，根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述在制品第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述增加污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述中途污染屬性設(shè)定值。而上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述消除污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述中途污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的設(shè)計，是由于當(dāng)一制程機臺接受一在制品并開始執(zhí)行制程步驟時，上述在制品因為已經(jīng)接觸到上述制程機臺，不論其制程步驟是否執(zhí)行完成，上述在制品的第一產(chǎn)品污染屬性都可能因為接觸到上述制程機臺而沾染到上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須增列的污染種類，因而具有上述污染種類所對應(yīng)的污染狀態(tài)。而在制程步驟尚未完成時，上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須消除的污染種類，可能并未完全消除，因此上述在制品并無法將上述第一產(chǎn)品污染屬性中對應(yīng)的污染狀態(tài)消除。然而，在制造過程中，可能會因為抽單等各種原因而使得已經(jīng)進入一制程機臺的在制品在其制程步驟完成之前，臨時調(diào)離上述制程機臺，因此，本實施例中，將污染防制系統(tǒng)依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的修改分為兩部分，在上述制程機臺接受上述在制品之后，先依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)增列處理，產(chǎn)生一中途污染屬性設(shè)定值，再于上述制程機臺完成制程步驟后，依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)消除處理，以產(chǎn)生一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述制造系統(tǒng)是可以為一半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，其所包含的制程機臺為半導(dǎo)體制程機臺，而上述多個半導(dǎo)體制程機臺所處理的在制品為半導(dǎo)體晶片批次。其中上述污染屬性包含光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)中的至少一者。其中，上述半導(dǎo)體制程機臺是屬于至少一半導(dǎo)體機臺類型，上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值是對應(yīng)于上述半導(dǎo)體機臺類型。其中上述貢獻污染屬性設(shè)定值所具有的上述污染屬性的設(shè)定值分別為三種貢獻狀態(tài)之一者，上述三種貢獻狀態(tài)分別為增加污染屬性、消除污染屬性以及不修改屬性。
本發(fā)明亦提供一種具有防止制程污染的處理方法，其適用于上述半導(dǎo)體制造系統(tǒng)中，使得能夠防止制程中發(fā)生污染。上述方法首先提供一半導(dǎo)體晶片批次的一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值，并分別設(shè)定上述半導(dǎo)體制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值以及拒絕污染屬性設(shè)定值。再于制程步驟開始之前，先以上述污染屬性確認系統(tǒng)仿真半導(dǎo)體晶片批次導(dǎo)入每一半導(dǎo)體制程步驟及完成每一半導(dǎo)體制程步驟后輸出至下一半導(dǎo)體制程機臺時上述半導(dǎo)體晶片批次的污染狀態(tài)，以確認上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確。繼之，藉由上述污染防制系統(tǒng)，使每一半導(dǎo)體制程機臺接受一半導(dǎo)體晶片批次之前，檢查上述半導(dǎo)體晶片批次的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述半導(dǎo)體晶片批次。當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值不符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值時，使上述半導(dǎo)體制程機臺接受上述半導(dǎo)體晶片批次，并根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一中途污染屬性設(shè)定值。并于每一半導(dǎo)體制程機臺處理上述半導(dǎo)體晶片批次之后，根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述增加污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述中途污染屬性設(shè)定值。而上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述消除污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述中途污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的設(shè)計，是由于當(dāng)一制程機臺接受一在制品并開始執(zhí)行制程步驟時，上述在制品因為已經(jīng)接觸到上述制程機臺，不論其制程步驟是否執(zhí)行完成，上述在制品的第一產(chǎn)品污染屬性都可能因為接觸到上述制程機臺而沾染到上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須增列的污染種類，因而具有上述污染種類所對應(yīng)的污染狀態(tài)。而在制程步驟尚未完成時，上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須消除的污染種類，可能并未完全消除，因此上述在制品并無法將上述第一產(chǎn)品污染屬性中對應(yīng)的污染狀態(tài)消除。然而，在制造過程中，可能會因為抽單等各種原因而使得已經(jīng)進入一制程機臺的在制品在其制程步驟完成之前，臨時調(diào)離上述制程機臺，因此，本實施例中，將污染防制系統(tǒng)依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的修改分為兩部分，在上述制程機臺接受上述在制品之后，先依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)增列處理，產(chǎn)生一中途污染屬性設(shè)定值，再于上述制程機臺完成制程步驟后，依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)消除處理，以產(chǎn)生一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述處理方法是可以藉由將儲存于一計算機可讀取儲存媒體的計算機程序加載上述制造系統(tǒng)的服務(wù)器中而實現(xiàn)。


為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖示，進行詳細說明如下圖1顯示依據(jù)本發(fā)明的制造系統(tǒng)運作示意圖。
圖2顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例制造系統(tǒng)的方塊圖。
圖3A顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定內(nèi)容的例示表格。
圖3B顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例污染屬性確認報表輸出內(nèi)容的例示表格。
圖4顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例處理方法的流程圖。
圖5顯示圖4中確定污染屬性設(shè)定值程序的流程圖。
圖6顯示依據(jù)本發(fā)明第二實施例污染防制系統(tǒng)的方塊圖。
圖7顯示依據(jù)本發(fā)明實施例的儲存媒體示意圖。
符號說明10 制造系統(tǒng)11 制程機臺110 在制品13 制程機臺130 在制品15 制程機臺150 在制品17 制程機臺170 在制品20 制造系統(tǒng)21 制程機臺211 貢獻污染屬性設(shè)定值215 拒絕污染屬性設(shè)定值23 制程機臺231 貢獻污染屬性設(shè)定值235 拒絕污染屬性設(shè)定值25 制程機臺251 貢獻污染屬性設(shè)定值255 拒絕污染屬性設(shè)定值27 制程機臺271 貢獻污染屬性設(shè)定值
275 拒絕污染屬性設(shè)定值28 污染屬性確認系統(tǒng)281 輸入裝置282 處理裝置283 產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元285 產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元287 產(chǎn)品輸出仿真單元29 污染防制系統(tǒng)30 制程機臺污染屬性表31 定義EqpId字段的方塊32 定義ContamType字段的方塊33 定義EffectFlag字段的方塊34 定義SensitiveFlag字段的方塊35 紀錄制程機臺污染屬性設(shè)定值字段的方塊36 半導(dǎo)體制程步驟號碼字段37 半導(dǎo)體制程步驟名稱字段38 半導(dǎo)體制程機臺名稱字段39 警示旗標值字段391 鈷污染狀態(tài)區(qū)位392 銅污染狀態(tài)區(qū)位393 金屬污染狀態(tài)區(qū)位394 鎳污染狀態(tài)區(qū)位395 光阻污染狀態(tài)區(qū)位
60 污染防制系統(tǒng)63 第一儲存裝置631 貢獻污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)65 第二儲存裝置651 拒絕污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)66 第三儲存裝置661 產(chǎn)品污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)67 處理裝置700 服務(wù)器70 計算機程序71 貢獻污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊73 拒絕污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊74 產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊75 產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值檢查模塊77 產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值更新模塊79 污染屬性確認模塊具體實施方式
為了讓本發(fā)明的目的、特征、及優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附圖示，做詳細的說明。
茲以一半導(dǎo)體制造廠為例，說明本發(fā)明防止制程污染的系統(tǒng)及方法的實施，使得產(chǎn)品制造流程中選用制程機臺時，不但能夠考慮制程機臺的制程能力，更能將在制品的污染狀態(tài)與制程機臺對不同污染種類的接受度納入考量，并藉由模擬測試的方法，確認上述制程機臺的各項污染屬性的設(shè)定為正確。亦即，在執(zhí)行制程步驟之前，可以計算機仿真在制品導(dǎo)入制程及輸出至下一制程時在制品的污染狀態(tài)，以確認各制程機臺的污染屬性設(shè)定為正確，并使得能夠防止具有特定產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的在制品進入特定制程機臺，并在一在制品經(jīng)過特定制程機臺加工后，依據(jù)上述制程機臺及制程步驟的性質(zhì)，更新上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值，以供污染防制系統(tǒng)控制后續(xù)處理步驟的制程機臺之用。
在此實施例中，制造系統(tǒng)是指一半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，在制品是指半導(dǎo)體晶片批次，而制程機臺是可以為半導(dǎo)體制程中使用的任何一種制程機臺，例如爐管、化學(xué)清洗槽、蝕刻槽等，且上述制程機臺由一制造執(zhí)行系統(tǒng)(MES)控制之。
圖1顯示依據(jù)本發(fā)明實施例的制造系統(tǒng)運作示意圖。本發(fā)明防止制程污染的制造系統(tǒng)10(下文稱的制造系統(tǒng)10)中有多個制程機臺，其中制程機臺17具有的制程能力是能將制程機臺11、制程機臺13、制程機臺15處理后在制品施予預(yù)定的制程程序，進行進一步的加工處理。
在制造系統(tǒng)10中，對產(chǎn)品良莠、工廠產(chǎn)能等有重大影響的污染屬性有3，在此分別稱的為污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C。
其中，經(jīng)過制程機臺11加工的在制品110不具有污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C中任一種。經(jīng)過制程機臺13加工的在制品130則具有污染屬性B。經(jīng)過制程機臺15加工的在制品150則具有污染屬性A。而制程機臺17為避免設(shè)備遭到污染而影響其它處理在制品，其拒絕接受具有污染屬性A或污染屬性B中任一種污染屬性的在制品。
在制造系統(tǒng)10中，制程機臺17所具有的制程能力雖適合將制程機臺11、制程機臺13、制程機臺15加工過的在制品進行進一步加工，然而因為制程機臺17拒絕接受具有污染屬性A或污染屬性B的在制品，所以當(dāng)制程機臺11加工過的在制品110欲進入制程機臺17時，由于在制品110不具有污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C中任一種，所以制程機臺17允許在制品110進入進行加工。當(dāng)制程機臺13加工的在制品130欲進入制程機臺17時，由于在制品130具有污染屬性B，所以制程機臺17拒絕接受在制品130。當(dāng)制程機臺15加工的在制品150欲進入制程機臺17時，由于在制品150具有污染屬性A，所以制程機臺17拒絕接受在制品150。
上述設(shè)定為檢查項目的污染種類及污染門坎值均可以依據(jù)實際需要訂定及擴充之。在一般半導(dǎo)體制造廠中，常見而重要的制程中污染屬性有光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)等。
圖2顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例用于防止制程污染的制造系統(tǒng)方塊圖。制造系統(tǒng)20包括制程機臺21、制程機臺23、制程機臺25、制程機臺27、污染屬性確認系統(tǒng)28及污染防制系統(tǒng)29。
制程機臺21、23、25及27是分別用以處理至少一在制品，其具有貢獻污染屬性設(shè)定值211、231、251及271，以及拒絕污染屬性設(shè)定值215、235、255、275。
為避免因制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定不正確而造成制程污染，污染屬性確認系統(tǒng)28在制程步驟開始之前，即確認制程機臺21、23、25及27的貢獻污染屬性設(shè)定值211、231、251及271，以及拒絕污染屬性設(shè)定值215、235、255、275的設(shè)定為正確。污染屬性確認系統(tǒng)28包括輸入裝置281及處理裝置282以執(zhí)行其功能。
其中輸入裝置281用以輸入一半導(dǎo)體制程步驟數(shù)據(jù)及制程機臺21、23、25及27的貢獻污染屬性設(shè)定值211、231、251及271，以及拒絕污染屬性設(shè)定值215、235、255、275。而每一筆上述半導(dǎo)體制程步驟資料包含一半導(dǎo)體制程步驟號碼、一半導(dǎo)體制程步驟名稱及一半導(dǎo)體制程機臺名稱。上述半導(dǎo)體制程步驟號碼、半導(dǎo)體制程步驟名稱及半導(dǎo)體制程機臺名稱的數(shù)據(jù)例示如圖3B所示數(shù)據(jù)表中字段36、37及38中的數(shù)據(jù)。
圖3A顯示制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定內(nèi)容的例示。制程機臺污染屬性表30中包含各字段所記載內(nèi)容的定義，及各設(shè)定數(shù)值所代表的意義、以及制造系統(tǒng)20中各制程機臺的污染屬性設(shè)定。方塊31中定義EqpId字段用以記錄制程機臺的名稱。方塊32中定義ContamType字段用以紀錄污染屬性所關(guān)聯(lián)的污染狀態(tài)，其是有5種污染狀態(tài)的設(shè)定光阻污染狀態(tài)($CNS_CPS_PR)、鈷污染狀態(tài)($CNS_CPS_CO)、鎳污染狀態(tài)($CNS_CPS_NI)、銅污染狀態(tài)($CNS_CPS_CU)以及金屬污染狀態(tài)($CNS_CPS_ME)。方塊33中定義EffectFlag字段用以紀錄對應(yīng)的制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值，當(dāng)其設(shè)定值為0時，表示「不修改屬性」，此時經(jīng)過制程機臺處理的在制品直接送至下一制程步驟的制程機臺進行處理，而不必經(jīng)由污染防制系統(tǒng)29修改其產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值；當(dāng)其設(shè)定值為1時，表示「增加污染屬性」，此時污染防制系統(tǒng)29依據(jù)貢獻污染屬性設(shè)定值修改處理后在制品的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值，于上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值中增列對應(yīng)的污染狀態(tài)；當(dāng)其設(shè)定值為2時，表示「消除污染屬性」，此時污染防制系統(tǒng)29依據(jù)貢獻污染屬性設(shè)定值修改處理后在制品的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值，于上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值中消除對應(yīng)的污染狀態(tài)。方塊34中定義SensitiveFlag字段用以紀錄對應(yīng)的制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定值，當(dāng)其設(shè)定值為0時，表示「不考慮屬性」，此時污染防制系統(tǒng)29使對應(yīng)的制程機臺接受并處理上述在制品，不論其是否具有對應(yīng)的污染狀態(tài)；當(dāng)其設(shè)定值為1時，表示「拒絕屬性」，此時污染防制系統(tǒng)29使對應(yīng)的制程機臺拒絕接受具有對應(yīng)的污染屬性的上述在制品。方塊35中記錄制程機臺對上述污染狀態(tài)的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值。以制程機臺21為例，其機臺名稱為ABPT1，其ContamType字段中分別記錄5種污染狀態(tài)的設(shè)定光阻污染狀態(tài)($CNS_CPS_PR)、鈷污染狀態(tài)($CNS_CPS_CO)、鎳污染狀態(tài)($CNS_CPS_NI)、銅污染狀態(tài)($CNS_CPS_CU)以及金屬污染狀態(tài)($CNS_CPS_ME)。EffectFlag字段紀錄制程機臺21的貢獻污染屬性設(shè)定值，其設(shè)定為不修改處理后在制品的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值中對于鈷污染狀態(tài)、金屬污染狀態(tài)及鎳污染狀態(tài)的設(shè)定，增列銅污染狀態(tài)(將產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值改為1)，并消除光阻污染狀態(tài)(將產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值改為0)。SensitiveFlag字段紀錄制程機臺21的拒絕污染屬性設(shè)定值，其設(shè)定為不考慮待處理在制品的產(chǎn)品污染屬性中鈷污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)及光阻污染狀態(tài)的設(shè)定，并拒絕金屬污染狀態(tài)或鎳污染狀態(tài)設(shè)定值為1的待處理產(chǎn)品。
處理裝置282則設(shè)定一第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值作為其仿真處理的初始值，并將之與輸入裝置281所輸入的上述資料加以比較處理。其針對一制程步驟的制程機臺，產(chǎn)生對應(yīng)的警示旗標，使得相關(guān)制程管理人員針對警示旗標值為1的制程步驟再進行確認，若確有污染屬性設(shè)定錯誤則進行修正，以避免因不正確的污染屬性設(shè)定而造成制程污染。處理裝置282并根據(jù)一制程步驟的制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值處理裝置282包含3個單元來完成上述功能一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元283、一產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285、及一產(chǎn)品輸出仿真單元287。
產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元283用以產(chǎn)生一第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以作為將要送入制造系統(tǒng)20的一在制品在尚未進行任何制程步驟前的產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值的初始設(shè)定。在制品X的產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值于污染狀態(tài)A設(shè)定為1表示在制品X具有污染狀態(tài)A，若其值為0則表示在制品X不具有污染狀態(tài)A。依據(jù)本實施例，上述產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值具有的初始設(shè)定為「00000」，表示在產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元283的仿真處理中，上述待處理在制品不具有光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)中任何一種污染狀態(tài)。
產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285則利用上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值為進行仿真的初始設(shè)定值，針對每一制程步驟的制程機臺，模擬一在制品送入上述制程機臺進行處理時的處理流程，亦即，比對上述制程機臺的上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以產(chǎn)生一警示旗標。例如依據(jù)上述待處理在制品的產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值是否符合該制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定值的比對結(jié)果，決定上述制程機臺是否接受處理上述在制品。產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285依據(jù)方塊35中所記錄制程機臺21的拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定，在制程步驟1送入制程機臺21的在制品具有產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值「00000」，此時由于上述在制品不具有上述5種污染狀態(tài)的任一種，產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285產(chǎn)生一值為0的警示旗標，表示制程機臺21接受處理上述在制品。若上述制程機臺的上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值的比對結(jié)果為不相符，則產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285產(chǎn)生一值為1的警示旗標，表示制程機臺21不能接受處理上述在制品，此時必須再行確認及/或修改上述制程機臺的相關(guān)設(shè)定，直到上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值相符為止。
當(dāng)制程機臺21接受上述在制品時，產(chǎn)品輸出仿真單元287根據(jù)制程步驟1的制程機臺21的貢獻污染屬性設(shè)定值211，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值。亦即，上述在制品在經(jīng)過該制程機臺處理后，是否要對產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值進行對應(yīng)于貢獻污染屬性設(shè)定值的修改。依據(jù)方塊35中所記錄制程機臺21的貢獻污染屬性設(shè)定值的設(shè)定，上述在制品經(jīng)過制程機臺21處理后，增列銅污染狀態(tài)而具有第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，其設(shè)定為「01000」，亦即，其具有銅污染狀態(tài)，而不具有光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、以及金屬污染狀中任一種。
上述產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285及產(chǎn)品輸出仿真單元287是針對制程步驟1的設(shè)定進行模擬處理，當(dāng)完成制程步驟1的仿真處理時，產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元285及產(chǎn)品輸出仿真單元287繼續(xù)進行制程步驟2的模擬處理，此時是以上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值「01000」作為上述在制品完成制程步驟1欲進行制程步驟2時的所具有的污染屬性仿真設(shè)定值，并以制程步驟2所對應(yīng)的制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值進行仿真處理。
污染屬性確認系統(tǒng)28完成所有制程步驟的制程機臺的污染屬性設(shè)定值的仿真處理后，會將其整理為一污染屬性確認報表輸出，如圖3B所示。字段36是記錄半導(dǎo)體制程步驟號碼；字段37是記錄半導(dǎo)體制程步驟名稱；字段38是記錄半導(dǎo)體制程機臺名稱；字段39是記錄上述仿真處理所產(chǎn)生的警示旗標值，其中0值表示待處理的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值和對應(yīng)的制程機臺的限制污染屬性設(shè)定值不相符，而不具有警示狀態(tài)，1值表示待處理的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值和對應(yīng)的制程機臺的限制污染屬性設(shè)定值相符，而具有警示狀態(tài)，需以人為或其它方式再次確認對應(yīng)制程機臺的各項污染屬性設(shè)定值是否正確；字段391～395分別記錄各制程機臺處理后的在制品所具有的鈷污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)、金屬污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)及光阻污染狀態(tài)，其中0值的污染狀態(tài)記錄表示不具有對應(yīng)的污染狀態(tài)，而1值的污染狀態(tài)記錄表示具有對應(yīng)的污染狀態(tài)。
當(dāng)污染屬性確認系統(tǒng)28藉由上述模擬處理方式確定所有制程步驟的制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值和限制污染屬性設(shè)定值為正確無誤之后，即可執(zhí)行制程步驟。此時，污染防制系統(tǒng)29于上述每一制程機臺接受上述在制品之前，檢查上述在制品的一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述制程機臺對應(yīng)的拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述在制品。當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值不符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值時，使上述半導(dǎo)體制程機臺接受上述半導(dǎo)體晶片批次，并根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一中途污染屬性設(shè)定值。繼之，于上述每一制程機臺接受并處理上述在制品之后，根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述增加污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述中途污染屬性設(shè)定值。而上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述消除污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述中途污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的設(shè)計，是由于當(dāng)一制程機臺接受一在制品并開始執(zhí)行制程步驟時，上述在制品因為已經(jīng)接觸到上述制程機臺，不論其制程步驟是否執(zhí)行完成，上述在制品的第一產(chǎn)品污染屬性都可能因為接觸到上述制程機臺而沾染到上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須增列的污染種類，因而具有上述污染種類所對應(yīng)的污染狀態(tài)。而在制程步驟尚未完成時，上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須消除的污染種類，可能并未完全消除，因此上述在制品并無法將上述第一產(chǎn)品污染屬性中對應(yīng)的污染狀態(tài)消除。然而，在制造過程中，可能會因為抽單等各種原因而使得已經(jīng)進入一制程機臺的在制品在其制程步驟完成之前，臨時調(diào)離上述制程機臺，因此，本實施例中，將污染防制系統(tǒng)29依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的修改分為兩部分，在上述制程機臺接受上述在制品之后，先依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)增列處理，產(chǎn)生一中途污染屬性設(shè)定值，再于上述制程機臺完成制程步驟后，依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)消除處理，以產(chǎn)生一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
在實際施行本發(fā)明時，污染防制系統(tǒng)29可以為制造系統(tǒng)20的制造執(zhí)行系統(tǒng)的一部分，或者不為制造執(zhí)行系統(tǒng)的一部分而僅與其耦接之。
其中上述在制品為一半導(dǎo)體晶片批次，其包含至少一半導(dǎo)體晶片。
其中上述制程機臺是屬于至少一機臺類型(例如爐管、鍍膜設(shè)備、蝕刻設(shè)備、檢測機臺、濕式清洗臺等)，上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值是對應(yīng)于上述機臺類型。
上述貢獻污染屬性設(shè)定值以及上述拒絕污染屬性設(shè)定值分別包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值，例如光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)。在此實施例中僅以污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C代表之。實際上上述等污染屬性是可以依據(jù)實施需要設(shè)定及擴充之，并不局限于某些既定的污染種類。
圖4顯示依據(jù)本發(fā)明第一實施例處理方法的流程圖。于制造系統(tǒng)20(參照圖2)中防止制程污染的方法包括下列步驟。
首先，步驟S40提供一半導(dǎo)體晶片批次的一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。然后，步驟S41分別設(shè)定上述半導(dǎo)體制程機臺的一貢獻污染屬性設(shè)定值以及一拒絕污染屬性設(shè)定值。
繼之，步驟S42在開始進行制程步驟前，確認上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確(其詳細步驟參見圖5)。然后，步驟S43在每一半導(dǎo)體制程機臺接受一半導(dǎo)體晶片批次之前，檢查上述半導(dǎo)體晶片批次的一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述半導(dǎo)體晶片批次(步驟S47)。當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值不符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值時，使上述半導(dǎo)體制程機臺接受上述半導(dǎo)體晶片批次，并根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一中途污染屬性設(shè)定值(步驟S44)。
繼之，上述半導(dǎo)體制程機臺處理上述半導(dǎo)體晶片批次(步驟S45)。在每一半導(dǎo)體制程機臺接受并執(zhí)行制程處理程序處理上述半導(dǎo)體晶片批次之后，步驟S46根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述增加污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述中途污染屬性設(shè)定值。而上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述消除污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述中途污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
上述中途污染屬性設(shè)定值的設(shè)計，是由于當(dāng)一制程機臺接受一在制品并開始執(zhí)行制程步驟時，上述在制品因為已經(jīng)接觸到上述制程機臺，不論其制程步驟是否執(zhí)行完成，上述在制品的第一產(chǎn)品污染屬性都可能因為接觸到上述制程機臺而沾染到上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須增列的污染種類，因而具有上述污染種類所對應(yīng)的污染狀態(tài)。而在制程步驟尚未完成時，上述貢獻污染屬性設(shè)定值中所設(shè)定必須消除的污染種類，可能并未完全消除，因此上述在制品并無法將上述第一產(chǎn)品污染屬性中對應(yīng)的污染狀態(tài)消除。然而，在制造過程中，可能會因為抽單等各種原因而使得已經(jīng)進入一制程機臺的在制品在其制程步驟完成之前，臨時調(diào)離上述制程機臺，因此，本實施例中，將污染防制系統(tǒng)29依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的修改分為兩部分，在上述制程機臺接受上述在制品之后，先依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)增列處理，產(chǎn)生一中途污染屬性設(shè)定值，再于上述制程機臺完成制程步驟后，依據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途污染屬性設(shè)定值進行必要的污染狀態(tài)消除處理，以產(chǎn)生一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
為避免不當(dāng)?shù)呢暙I污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值導(dǎo)致污染防制系統(tǒng)運作的缺口而造成制程污染，步驟S42在開始進行制程步驟前，確認上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確，此確認污染屬性設(shè)定值的流程圖如圖5所示。首先步驟S51接收半導(dǎo)體制程步驟數(shù)據(jù)以及上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值。再設(shè)定一第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值(步驟S52)，以作為將要送入制造系統(tǒng)20的一在制品在尚未進行任何制程步驟前的產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值的初始設(shè)定。依據(jù)本實施例，產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值(LCA)的初始設(shè)定(InitLCA)為「00000」，表示在產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元283的設(shè)定處理中，上述待處理在制品不具有光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)中任何一種污染狀態(tài)。繼之，步驟S53執(zhí)行一產(chǎn)品導(dǎo)入仿真步驟，其是比對一制程步驟的制程機臺的上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值是否相符，以產(chǎn)生一警示旗標，當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值不符合拒絕污染屬性設(shè)定值時，產(chǎn)生的警示旗標值為「0」，否則為「1」。依據(jù)此實施例(參見圖3A)，Init LCA為「00000」，而制程步驟1的制程機臺ABPT1的UCA為「00110」，比對結(jié)果顯示Init LCA并無任何一污染狀態(tài)符合制程步驟1的制程機臺ABPT1的UCA的設(shè)定值，故其產(chǎn)生一值為0的警示旗標，并繼續(xù)進行步驟S56。當(dāng)制程步驟1所對應(yīng)的警示旗標值為「1」時，該方法暫停執(zhí)行模擬(步驟S54)，此時需以人為或其它方式進一步確認或修改制程步驟1的制程機臺ABPT1的污染屬性設(shè)定值，當(dāng)制程步驟1的制程機臺ABPT1的污染屬性設(shè)定值修改完成后，步驟S55接收修正后的污染屬性設(shè)定值，才能進行步驟S56。步驟S56根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，亦即，上述制程機臺處理上述在制品后，是否要對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值進行對應(yīng)于貢獻污染屬性設(shè)定值的修改。依據(jù)第3圖方塊35中所記錄制程機臺ABPT1的貢獻污染屬性設(shè)定值的設(shè)定，上述在制品經(jīng)過制程機臺ABPT1處理后，增列銅污染狀態(tài)而具有第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，其設(shè)定為「01000」，亦即，其具有銅污染狀態(tài)，而不具有光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、以及金屬污染狀中任一種。繼之，該方法回到步驟S53，以第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值「01000」為在制品的產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，依據(jù)制程步驟2的制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值進行仿真處理。
依據(jù)圖5所示的方法，針對每一制程步驟的制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定值及貢獻污染屬性設(shè)定值進行仿真處理，直到完成所有制程步驟的模擬處理為止，并將其整理為一污染屬性確認報表輸出，如圖3B所示。字段36是記錄半導(dǎo)體制程步驟號碼；字段37是記錄半導(dǎo)體制程步驟名稱；字段38是記錄半導(dǎo)體制程機臺名稱；字段39是記錄上述仿真處理所產(chǎn)生的警示旗標值，其中0值表示待處理的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值和對應(yīng)的制程機臺的限制污染屬性設(shè)定值不相符，而不具有警示狀態(tài)，1值表示待處理的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值和對應(yīng)的制程機臺的限制污染屬性設(shè)定值相符，而具有警示狀態(tài)，需以人為或其它方式再次確認對應(yīng)制程機臺的各項污染屬性設(shè)定值是否正確；字段391～395分別記錄各制程機臺處理后的在制品所具有的鈷污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)、金屬污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)及光阻污染狀態(tài)，其中0值的污染狀態(tài)記錄表示不具有對應(yīng)的污染狀態(tài)，而1值的污染狀態(tài)記錄表示具有對應(yīng)的污染狀態(tài)。
上述貢獻污染屬性設(shè)定值以及上述拒絕污染屬性設(shè)定值分別包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值，例如光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)。在此實施例中僅以污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C代表之。亦即，記錄上述在制品是否具有污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C。當(dāng)在制品尚未進行任何制程步驟時，其初始污染狀態(tài)設(shè)定為無污染，亦即，不具有污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C中任一者。實際上上述等污染屬性是可以依據(jù)實施需要設(shè)定及擴充之，并不局限于某些既定的污染種類。
其中上述拒絕污屬性設(shè)定值是規(guī)范上述制程機臺拒絕接受具有特定污染狀態(tài)的在制品。在此實施例中，制程機臺17的拒絕污屬性設(shè)定值規(guī)范制程機臺17不可以接受具有污染屬性A或污染屬性B任一種污染的在制品。
其中上述制程機臺貢獻污染屬性設(shè)定值是設(shè)定上述制程機臺的制程處理對處理后在制品污染狀態(tài)的影響。
在此實施例中，制程機臺11的貢獻污染屬性設(shè)定值為制程機臺11的制程處理能夠消除污染屬性A、污染屬性B及污染屬性C。當(dāng)制程機臺11處理過的在制品110欲進入制程機臺17時，會比對在制品110的在制品污染屬性設(shè)定值是否符合制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值，由于在制品110不具有污染屬性A、污染屬性B、污染屬性C中任一種，所以制程機臺17允許在制品110進入進行處理。
制程機臺13的貢獻污染屬性設(shè)定值為，其制程處理使得處理后在制品消除污染屬性A，且增加污染屬性B，但不修改處理后在制品的污染屬性C。當(dāng)制程機臺13加工的在制品130欲進入制程機臺17時，比對在制品130的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值，由于在制品130具有污染屬性B，而制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值規(guī)范制程機臺17不可以接受具有污染屬性A或污染屬性B任一種污染的加工產(chǎn)品，比對結(jié)果發(fā)現(xiàn)在制品130所具有的污染屬性B符合制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值，所以制程機臺17拒絕接受在制品130。
制程機臺15的貢獻污染屬性設(shè)定值為，其制程處理使得處理后在制品增加污染屬性A，且消除污染屬性B，但不修改處理后在制品的污染屬性C。當(dāng)制程機臺15加工的在制品150欲進入制程機臺17時，比對在制品150的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值，由于在制品150具有污染屬性A，而制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值規(guī)范制程機臺17不可以接受具有污染屬性A或污染屬性B任一種污染的加工在制品，比對結(jié)果發(fā)現(xiàn)在制品150所具有的污染屬性A符合制程機臺17的拒絕污染屬性設(shè)定值，所以制程機臺17拒絕接受在制品150。
當(dāng)在制品110經(jīng)過制程機臺17加工后，依據(jù)制程機臺17的貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述在制品的一新產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。在此實施例中，制程機臺17拒絕接受具有污染屬性A及污染屬性B中任一者的在制品。而制程機臺17的貢獻污染屬性設(shè)定值為制程機臺17的制程處理使得在制品170消除污染屬性A及污染屬性B，但增加污染屬性C。當(dāng)在制品170要進入其它制程機臺進行進一步加工時，本發(fā)明方法及系統(tǒng)依據(jù)上述運作方法，防止在制品170具有的污染屬性C造成制程中的污染現(xiàn)象。
圖6顯示依據(jù)本發(fā)明第二實施例污染防制系統(tǒng)的方塊圖。污染防制系統(tǒng)60適用于一半導(dǎo)體制造系統(tǒng)，其中上述半導(dǎo)體制造系統(tǒng)包含至少一半導(dǎo)體制程機臺，用以處理至少一半導(dǎo)體晶片批次，污染防制系統(tǒng)60包括第一儲存裝置63、第二儲存裝置65、第三儲存裝置66及處理裝置67。
其中，第一儲存裝置63是用以儲存對應(yīng)于上述半導(dǎo)體制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)631。第二儲存裝置65是用以儲存對應(yīng)于上述半導(dǎo)體制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)651。第三儲存裝置66是用以儲存對應(yīng)于一半導(dǎo)體晶片批次的產(chǎn)品污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)661。
其中，處理裝置67是耦接于第一儲存裝置63和第二儲存裝置65，用以在一上述半導(dǎo)體制程機臺接受一半導(dǎo)體晶片批次之前，檢查上述半導(dǎo)體晶片批次的一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述半導(dǎo)體制程機臺對應(yīng)的拒絕污屬性設(shè)定數(shù)據(jù)，當(dāng)符合時則使上述半導(dǎo)體制程機臺拒絕接受上述半導(dǎo)體晶片批次。處理裝置67并且在上述半導(dǎo)體制程機臺接受并處理上述半導(dǎo)體晶片批次之后，根據(jù)其所對應(yīng)的貢獻污染屬性設(shè)定數(shù)據(jù)，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一新產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
其中，上述貢獻污染屬性設(shè)定值以及上述拒絕污染屬性設(shè)定值是分別包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值，上述污染屬性是包含光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)中的至少一者。
其中，上述半導(dǎo)體制程機臺是屬于至少一半導(dǎo)體機臺類型，例如爐管、鍍膜設(shè)備、蝕刻設(shè)備、檢測機臺、濕式清洗臺及等，上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值是對應(yīng)于上述半導(dǎo)體機臺類型。
其中，上述貢獻污染屬性設(shè)定值分別為三種貢獻狀態(tài)之一者，上述三種貢獻狀態(tài)分別為增加污染屬性、消除污染屬性以及不修改屬性。
上述半導(dǎo)體制程機臺是能夠處理至少一半導(dǎo)體晶片批次，使得產(chǎn)生一種半導(dǎo)體晶片產(chǎn)品。其中上述半導(dǎo)體晶片產(chǎn)品是置于一半導(dǎo)體晶片批次中進行制程處理，且上述半導(dǎo)體晶片批次具有一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
如圖7所示，上述防止制程污染的方法是能藉由計算機程序70，存于一儲存媒體中，且當(dāng)計算機程序70加載服務(wù)器700執(zhí)行時，可以實現(xiàn)本發(fā)明的防止制程污染的方法。計算機程序70包括貢獻污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊71、拒絕污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊73、產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊74、產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值檢查模塊75、產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值更新模塊77、污染屬性確認模塊79。
其中貢獻污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊71是用以設(shè)定上述半導(dǎo)體制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值，其包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值。拒絕污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊73是用以設(shè)定上述半導(dǎo)體制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定值，其包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值。產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值設(shè)定模塊74是設(shè)定一半導(dǎo)體晶片批次在制品的第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。污染屬性設(shè)定值檢查模塊75是于每一半導(dǎo)體制程機臺接受一半導(dǎo)體晶片批次之前，檢查上述半導(dǎo)體晶片批次的第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述半導(dǎo)體晶片批次。產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值更新模塊77是于每一半導(dǎo)體制程機臺接受及處理上述半導(dǎo)體晶片批次時，根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，分別對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的中途污染屬性設(shè)定值及第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。污染屬性確認模塊79確認上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確，其在開始進行制程步驟前，針對每一制程步驟，確認上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確，其是比對上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以產(chǎn)生一警示旗標，使得上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值不相符時，再行確認及/或修改上述制程機臺的相關(guān)設(shè)定，直到上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值相符時，即根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視所附的權(quán)利要求范圍所界定者為準。
權(quán)利要求
1.一種具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其包括多個制程機臺，分別用以處理至少一在制品，每一上述制程機臺具有一貢獻污染屬性設(shè)定值以及一拒絕污染屬性設(shè)定值，每一上述在制品具有一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值；一污染屬性確認系統(tǒng)，用以進行產(chǎn)品導(dǎo)入/輸出仿真處理，以確認上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確；以及一污染防制系統(tǒng)，其是于上述每一制程機臺接受上述在制品之前，檢查上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時則拒絕接受上述在制品，并于上述每一制程機臺接受上述在制品時，根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述在制品的一中途污染屬性設(shè)定值，并于上述每一制程機臺處理上述在制品后，根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述在制品的一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其中上述在制品為一半導(dǎo)體晶片批次，其包含至少一半導(dǎo)體晶片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其中上述制程機臺是屬于至少一機臺類型，上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值是對應(yīng)于上述機臺類型。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其中上述貢獻污染屬性設(shè)定值以及上述拒絕污染屬性設(shè)定值分別包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其中上述污染屬性確認系統(tǒng)包括一輸入裝置，用以輸入一制程步驟數(shù)據(jù)、上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值及上述拒絕污染屬性設(shè)定值；一處理裝置，其包含一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定單元，用以設(shè)定一第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值；一產(chǎn)品導(dǎo)入仿真單元，用以比對上述制程機臺的上述拒絕污染屬性設(shè)定值及上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以產(chǎn)生一警示旗標；以及一產(chǎn)品輸出仿真單元，用以根據(jù)上述制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其中上述制程步驟數(shù)據(jù)包含一制程步驟號碼、一制程步驟名稱及一制程機臺名稱。
7.一種具有防止制程污染的處理方法，其適用于包含多個半導(dǎo)體制程機臺的制造系統(tǒng)中，其包括提供一半導(dǎo)體晶片批次的一第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值；分別設(shè)定上述半導(dǎo)體制程機臺的一貢獻污染屬性設(shè)定值以及一拒絕污染屬性設(shè)定值，其分別包含對應(yīng)于多個污染屬性的設(shè)定值；檢查上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值，當(dāng)符合時使上述半導(dǎo)體制程機臺拒絕接受上述半導(dǎo)體晶片批次；當(dāng)上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值不符合上述半導(dǎo)體制程機臺的上述拒絕污屬性設(shè)定值時，使上述半導(dǎo)體制程機臺接受上述半導(dǎo)體晶片批次，并根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一中途污染屬性設(shè)定值；上述半導(dǎo)體制程機臺處理上述半導(dǎo)體晶片批次；以及根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述中途產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述半導(dǎo)體晶片批次的一第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述污染屬性是包含光阻污染狀態(tài)、鈷污染狀態(tài)、鎳污染狀態(tài)、銅污染狀態(tài)以及金屬污染狀態(tài)中的至少一者。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有防止制程污染的處理方法，其中在設(shè)定上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值的步驟中，是根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的半導(dǎo)體機臺類型決定上述貢獻污染屬性設(shè)定值和上述拒絕污染屬性設(shè)定值。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述貢獻污染屬性設(shè)定值所具有的上述污染屬性的設(shè)定值分別為三種貢獻狀態(tài)之一者，上述三種貢獻狀態(tài)分別為增加污染屬性、消除污染屬性以及不修改屬性。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述中途污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述增加污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述中途污染屬性設(shè)定值。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值的產(chǎn)生是根據(jù)上述消除污染屬性的貢獻狀態(tài)，對上述中途污染屬性設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的具有防止制程污染的處理方法，進一步包含一污染屬性確認程序，其包含步驟接收一半導(dǎo)體制程步驟數(shù)據(jù)以及上述半導(dǎo)體制程機臺的貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值；設(shè)定一第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值；執(zhí)行一產(chǎn)品導(dǎo)入仿真步驟；執(zhí)行一產(chǎn)品輸出仿真步驟。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述半導(dǎo)體制程步驟數(shù)據(jù)的接收步驟包含一半導(dǎo)體制程步驟號碼、一半導(dǎo)體制程步驟名稱及一半導(dǎo)體制程機臺名稱的接收。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述產(chǎn)品導(dǎo)入仿真步驟是比對上述半導(dǎo)體制程機臺的拒絕污染屬性設(shè)定值及該第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值，以產(chǎn)生一警示旗標。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的具有防止制程污染的處理方法，其中上述產(chǎn)品輸出仿真步驟是根據(jù)上述半導(dǎo)體制程機臺的上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述第一產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值產(chǎn)生上述第二產(chǎn)品污染屬性仿真設(shè)定值。
全文摘要
一種具有防止制程污染的制造系統(tǒng)，其包括多個制程機臺、污染屬性確認系統(tǒng)及污染防制系統(tǒng)。上述制程機臺用以處理在制品，其具有貢獻污染屬性設(shè)定值及拒絕污染屬性設(shè)定值。上述污染屬性確認系統(tǒng)用以確認上述貢獻/拒絕污染屬性設(shè)定值的設(shè)定為正確。上述污染防制系統(tǒng)于上述制程機臺接受上述在制品前，檢查上述在制品的第一產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值是否符合上述拒絕污屬性設(shè)定值，并于上述制程機臺接受及處理上述在制品時，根據(jù)上述貢獻污染屬性設(shè)定值，對上述產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值分別產(chǎn)生中途污染屬性設(shè)定值及第二產(chǎn)品污染屬性設(shè)定值。
文檔編號H01L21/00GK1664985SQ200410083729
公開日2005年9月7日 申請日期2004年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月3日
發(fā)明者許志維, 呂金盛, 徐光宏, 林鎮(zhèn)雍, 林水典, 林俊宏 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司