專利名稱：具有外部光柵的單模工作的可調(diào)諧環(huán)形激光器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光電子器件領(lǐng)域，具體涉及一種可以高速改變其輻射波長的激光器。
相關(guān)技術(shù)可調(diào)諧激光器是常用于大容量光通訊系統(tǒng)的光源，例如密集波分復(fù)用(DWDM)系統(tǒng)。這一技術(shù)涉及在單根光纖中傳輸多個光信號，各個光信號的波長或頻率之間有細微差別。與之相關(guān)的一項已知技術(shù)為波長路由技術(shù)，該項技術(shù)涉及使用精確的光波長并在這些波長之間高速改變來傳送數(shù)據(jù)?？烧{(diào)諧激光器還應(yīng)用于光子開關(guān)領(lǐng)域，以及其他多個領(lǐng)域，如光譜學及光學傳感技術(shù)領(lǐng)域。
傳統(tǒng)的用于光通訊的可調(diào)諧半導體二極管激光器如下列出。
第一種類型已知為‘Y形腔激光器’(參見M.J.Kuznetsov，J.of Lightwave Technology，Vol.12，Issue 12，Dec 1994)，其中應(yīng)用一個外加干涉儀取得了更寬的調(diào)諧范圍(將近40nm)。但是Y形腔激光器一般只具有較有限(低于25分貝)的邊模擬制比(SMSR)。
第二種傳統(tǒng)的可調(diào)諧激光器已知為‘光柵協(xié)助共向耦合器(GACC)激光器’(參見Z.M.Chuang，and L.A.Coldren，IEEE J.of QuantumElectronics，Vol.29 Issue 4，April 1993)。因為激光器調(diào)諧時發(fā)生的增益濾波器帶寬展寬效應(yīng)，該器件亦只具有較有限的邊模擬制比(SMSR)。同時該器件需要多個控制電極因而調(diào)諧過程較為復(fù)雜。
第三種傳統(tǒng)的可調(diào)諧激光器是分布式布拉格反射器(DBR)激光器家族，特別是一種稱為‘取樣光柵分布式布拉格反射器(SGDBR)激光器’的設(shè)備，其可以提供寬范圍調(diào)諧(參見L.A.Coldren，IEEE J.ofSelected Topics in Quantum Electronics，Vol.6，Issue 6，Nov-Dec.2000以及文中引用的參考文獻；F.Delorme，IEEE J.ofQuantum Electronics，Vol.34Issue 9，Sep.1998)。為了設(shè)定SGDBR激光器的工作波長或頻率，必須至少確定三個不同的控制變量。每個控制變量均為一外加電流源，其電流值由一個多維的搜索表來確定，(該搜索表必須由一個耗時的‘訓練’過程來事先編程)?？刂谱兞康臎Q定過程包含在該多維變量空間內(nèi)多個不同區(qū)域進行處理。這個緩慢的過程使得調(diào)諧速度不足而不能在例如光分組傳輸系統(tǒng)中有效應(yīng)用。這一問題因為激光器腔內(nèi)相對較長衰減時間的一些瞬態(tài)過程(例如光柵的熱穩(wěn)定時間)而變得更為嚴重。SGDBR激光器通常還包含有相位匹配單元而進一步增加其復(fù)雜程度和器件尺寸。
此外，另外一種類型的可調(diào)諧激光器為具有腔內(nèi)調(diào)諧裝置(如光柵分布式反射器或者可調(diào)諧光學濾波器)的環(huán)形激光器。這通常包含環(huán)形諧振腔激光器，而光柵或濾光器構(gòu)成該環(huán)形諧振腔的至少一部分。已知的器件通常使用攙有稀土元素的光纖來構(gòu)成環(huán)形諧振腔激光器。但是如果調(diào)諧機構(gòu)構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分，而激光器諧振腔周長相對較短時，與可調(diào)諧SGDBR激光器類似的問題亦將出現(xiàn)。此外，環(huán)形諧振腔周長決定光子壽命，因此也影響該類器件的調(diào)諧速度。因此，長周長器件具有較慢的頻率調(diào)諧速度。(例如，光纖環(huán)形諧振腔激光器的周長通常在1米以上，因此光子的每周傳播時間超過5納秒；因此在這類已知的器件中無法取得納秒級的調(diào)諧速度。)因此，本發(fā)明尋求提供一種可調(diào)諧激光器，其中傳統(tǒng)可調(diào)諧激光器中的上述問題至少已被減輕。
綜述根據(jù)本發(fā)明的第一方面提出一種激光器，該激光器具有一個環(huán)形諧振腔，一個用于從環(huán)形諧振腔內(nèi)引出激光輻射的耦合裝置，以及一個與該耦合裝置相連接的頻率選擇裝置，其中該頻率選擇裝置將引出的激光輻射部分反饋回環(huán)形諧振腔，并選擇反饋信號的頻率，該頻率選擇裝置不構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分。
以上描述的可調(diào)諧激光器可以應(yīng)用于光通訊系統(tǒng)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面提出一種改變環(huán)形諧振腔激光器的激射頻率的方法。該方法包括使環(huán)形諧振腔激光器工作于第一環(huán)形諧振腔諧振頻率，其中該第一環(huán)形諧振腔諧振頻率基本上與頻率選擇裝置的第一反射頻率重合，控制頻率選擇裝置，從第一反射頻率改變至第二反射頻率，以及使環(huán)形諧振腔激光器工作于第二環(huán)形諧振腔諧振頻率，其中該第二環(huán)形諧振腔諧振頻率基本上與頻率選擇裝置的第二反射頻率重合。
而且，本發(fā)明的頻率選擇裝置不構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分，即，若將頻率選擇裝置從本結(jié)構(gòu)中移除，環(huán)形諧振腔則為閉環(huán)狀態(tài)并作為諧振腔工作。
有利的是，本發(fā)明提出的可調(diào)諧激光器發(fā)射由環(huán)形激光器諧振腔的諧振腔模式?jīng)Q定的精確的分立波長。這些模式是在激光器制造過程中決定的并可以精確地調(diào)整到所需要的精確值。
本發(fā)明進一步具有如下優(yōu)點，即激射頻率調(diào)諧過程具有很快速度(可以達到納秒量級)。主要有四個因素使本發(fā)明具有高速調(diào)諧的能力。首先，使用可以高速工作的頻率選擇裝置。第二，本發(fā)明激射頻率鎖定時間短于傳統(tǒng)的可調(diào)諧激光器。激射頻率鎖定時間是指輸出頻率穩(wěn)定至預(yù)設(shè)值所需的時間。第三，設(shè)置可調(diào)諧激光器的工作頻率只需要決定單一控制變量。第四，在初始激射頻率鎖定時間之后，激射頻率不再受到可能存在的長期漂移因素(例如頻率選擇裝置的熱漂移)的影響。這樣，本可調(diào)諧激光器改變激射頻率所需的時間得以減至最小，并且相位匹配元件(如某些SGDBR激光器所需)也不再必需。而且，本發(fā)明最佳實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔周長僅幾個毫米，比較傳統(tǒng)的可調(diào)諧光纖環(huán)形器件，長度大為縮小。因為環(huán)形諧振腔中的光子壽命較短，所以這種短長度諧振腔的激光器能夠?qū)崿F(xiàn)高速調(diào)諧。
附圖簡述為了更好地理解本發(fā)明，并展示其實現(xiàn)方式，下文中將引用附圖所示的實現(xiàn)案例，其中

圖1A為根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的可調(diào)諧激光器的簡圖；圖1B是描述圖1A的可調(diào)諧激光器的單模激光工作的圖；圖2A是描述本發(fā)明第一實現(xiàn)方案的光學增益元件的放大的剖面圖；圖2B為本發(fā)明第一實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器的平面圖；圖2C為本發(fā)明第一實現(xiàn)方案的光柵元件的放大的剖面圖；圖3A為本發(fā)明第二實現(xiàn)方案的光學增益元件的放大的剖面圖；圖3B為本發(fā)明第二實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器的平面圖；圖3C為本發(fā)明第二實現(xiàn)方案的光學耦合器的放大的剖面圖；圖3D為本發(fā)明第二實現(xiàn)方案的光柵元件的放大的剖面圖；圖4描述了本發(fā)明第三實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器。
優(yōu)選實施例的詳細描述在圖1A所示的可調(diào)諧激光器100中，一個環(huán)形諧振腔102(由無源光波導形成)以及一個光學增益元件104與一個雙向光學輸出耦合器106連接。光學輸出耦合器106具有第一個端口108及第二個端口110。第一個端口108與一輸出光纖112耦合，而第二個端口110則與一個頻率選擇裝置114(例如一個光柵)連接。
工作時，光學增益元件104在預(yù)定光譜范圍內(nèi)提供光學增益，而環(huán)形諧振腔102為該預(yù)定光譜范圍內(nèi)的一個或多個頻率的光子提供傳播路徑。在滿足以下兩個工作條件時，在該增益光譜范圍內(nèi)的某一激光頻率處，環(huán)形諧振腔102內(nèi)產(chǎn)生激光振蕩。第一，該激光頻率fL處的總光學增益超過環(huán)形諧振腔102內(nèi)的光損耗總量；第二，光子在環(huán)形諧振腔102傳播一周的光學相位延遲為360度的整數(shù)倍。
圖1B描述環(huán)形諧振腔可調(diào)諧激光器100的單模運行。該圖上半部118顯示環(huán)形諧振腔102的諧振模式頻率120以及激光增益譜型122，下半部124顯示頻率選擇裝置114的反射頻率126。在諧振腔模式頻率120之一與光柵反射頻率126之一的重合處，在頻率fL實現(xiàn)激光器單模工作。
光學增益元件104(例如由半導體增益媒介構(gòu)成)的增益光譜范圍通常具有較大的帶寬，因而可能允許同時在多個光學頻率處產(chǎn)生振蕩。環(huán)形諧振腔102諧振腔模式頻率120，fm，主要由以下關(guān)系式?jīng)Q定fm＝mc/nL其中n是環(huán)形諧振腔102的等效折射率，L為環(huán)形諧振腔102的周長，(nL乘積為環(huán)形諧振腔的光路長度)，m為一整數(shù)，c為真空光速。環(huán)形諧振腔模式頻率間隔Δf由下式給出Δf＝c/nL顯然，改變環(huán)形諧振腔102的周長將改變環(huán)形諧振腔模式120。當頻率選擇裝置114具有多個反射頻率126而不是單個反射頻率時(如圖1B下半部所示)，頻率選擇裝置114的反射頻率間隔必須與環(huán)形諧振腔模式頻率間隔Δf不同。
激光發(fā)射通過往光學增益元件104注入泵浦能量(例如電流)而產(chǎn)生。光子數(shù)量在穿過光學增益元件104時得到增加，直至其增加數(shù)量超過其環(huán)形諧振腔內(nèi)的損失數(shù)量。當光子經(jīng)由雙向輸出耦合器106離開環(huán)形諧振腔時即得到激光輸出。
頻率選擇裝置114從眾多環(huán)形諧振腔諧振頻率120之一中選擇環(huán)形諧振腔102的一個激射頻率。在該選擇的諧振頻率處，輸出的光被反射并反饋回環(huán)形諧振腔，因而在所選的環(huán)形諧振腔諧振頻率處激射得到增強，而在其他環(huán)形諧振腔諧振頻率處激射因為模式競爭過程而被擬制。該過程使得在該所選頻率處在短時間(通常幾個納秒)內(nèi)確立激射。而且，由于所選的激光頻率由環(huán)形諧振腔通過前述關(guān)系式?jīng)Q定，頻率選擇裝置的反射頻帶僅需大致與所選的環(huán)形諧振腔諧振頻率對準以得到足夠光反饋；并且在激射頻率確立后，頻率選擇裝置114的任何微小變化將不會影響激射頻率。
在第一環(huán)形諧振腔模式頻率的單模激光工作與第二環(huán)形諧振腔模式頻率的單模激光工作之間的高速調(diào)諧由以下方式實現(xiàn)。通過在頻率選擇裝置114上施加第一控制信號(例如注入第一電流)，給其某一物理性質(zhì)(例如折射率)確立第一取值，從而確立其第一組反射頻率。在頻率選擇裝置114的第一組反射頻率中的一個反射頻率與環(huán)形諧振腔模式頻率相同處，在該第一頻率處光子從頻率選擇裝置114反饋回環(huán)形諧振腔102，激光發(fā)射在第一環(huán)形諧振腔模式頻率處建立。此后，通過在頻率選擇裝置114上施加第二控制信號(例如注入第二電流)設(shè)立其物理性質(zhì)(例如折射率)的第二取值，從而確立其第二組反射頻率。在頻率選擇裝置114的第二組反射頻率中的一個反射頻率與第二環(huán)形諧振腔模式頻率相同處，在該第二頻率處光子從頻率選擇裝置114反饋回環(huán)形諧振腔102，激光發(fā)射在第二諧振腔模式頻率處建立。
進一步，在頻率選擇裝置114上施加第二控制信號(例如注入第二電流)之前，將光學增益元件的泵浦水平降低至環(huán)形諧振腔激光發(fā)射閾值之下(該舉具有關(guān)閉環(huán)形諧振腔激光器的效力)。在頻率選擇裝置114上施加第二電流之后，將光學增益元件的泵浦水平增至原始水平。該舉具有打開環(huán)形諧振腔激光器的效力，以使其在第二諧振腔模式頻率處產(chǎn)生激光。
改變頻率選擇裝置114的控制信號(例如注入電流)可以在大約1納秒時間內(nèi)改變頻率選擇裝置114的等效折射率從而改變其反射頻率。
圖2A所示第一實現(xiàn)方案的光學增益元件200由襯底202(例如一種三-五族半導體晶片)以及其上沉積的光學有源層204組成。此外，光學增益元件200的上部由半絕緣半導體層206、上包層208、接觸層210以及歐姆接觸212構(gòu)成。
圖2B顯示根據(jù)第一種實現(xiàn)方案實現(xiàn)的一個完整的環(huán)形諧振腔激光器214，包括如圖2A所示光學增益元件200以及圖2C所示的光柵元件216。該環(huán)形諧振腔激光器214的制作過程描述如下。
在外延生長過程第一步中，提供光學增益的光學有源層204被沉積于襯底202上。襯底202由沉積在InP襯底上的多層銦鎵砷磷四元化合物半導體組成。在預(yù)定制作光柵元件216的區(qū)域，其表面經(jīng)由光刻或電子束刻印工藝進行構(gòu)圖，并通過隨后的刻蝕工藝過程得到起伏的光柵條紋218。光學有源層204隨后被從襯底202上的除預(yù)定制作光學增益元件200及光柵元件216以外的區(qū)域除去。
在外延生長過程第二步中，一層光學無源(即透明)層220被沉積于襯底202上的除去了光學有源層204的區(qū)域。該光學無源層220的位置在垂直方向與光學有源層204對準且二者厚度相近。該后，使用光刻工藝定義構(gòu)成環(huán)形諧振腔222、輸出耦合器224以及光柵元件216的脊形波導，從而完成環(huán)形諧振腔激光器214的形成。整個結(jié)構(gòu)除去波導的頂部外均被掩埋于半絕緣半導體層206中；并在其上生長上包層208以及接觸層210。然后在光學增益元件200及光柵元件216處分別形成歐姆接觸212。
圖2C所示光柵元件216一般可采用取樣光柵反射器，其制作過程類似于形成圖2A的光學增益元件200的方法。
第一實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器214(如圖2A、2B及2C所示)的激射和調(diào)諧原理與圖1A及圖1B描述的本發(fā)明實現(xiàn)過程相同，在此不再贅述。
圖3A所示第二實現(xiàn)方案的光學增益元件300包括襯底302及在其上沉積的光學無源層304；一個間隔層306以及光學有源層308構(gòu)成光學增益元件300的上層結(jié)構(gòu)。光學有源層308與其下方的光學無源層304構(gòu)成有源垂直耦合器(以便形成光子集成線路(PIC))。
圖3B描述一個完整的環(huán)形諧振腔激光器310，包括圖3A的光學增益元件300、圖3C的輸出耦合器312以及圖3D的光柵元件314，均屬于本發(fā)明的第二實現(xiàn)方案。所有部件均集成于單片襯底302上。環(huán)形諧振腔激光器310制作過程大致與圖2A至2C描述的本發(fā)明第一實現(xiàn)方案相似，但有下述區(qū)別。
無源環(huán)形諧振腔波導316以及輸出耦合器312均在光學無源層304中形成。為此，在這些區(qū)域處，光學有源層308被從襯底302上除去。
與增益元件300相似，光柵元件314在光學有源層308中制作。因此在這些區(qū)域中有源層不被除去。這樣，光可以從無源層耦合進入有源層，以在增益元件中得到光學放大或與光柵元件發(fā)生作用。在制作過程中，使波導的寬度在預(yù)定制作光柵元件314的區(qū)域中周期變化以形成光柵。光柵元件314亦可通過在波導中刻蝕周期起伏來制作。
第二實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器310(如圖3A、3B、3C和3D所示)的激射和調(diào)諧運行與圖1A及圖1B描述的本發(fā)明實現(xiàn)過程相同，在該不再贅述。
圖4顯示依第三實現(xiàn)方案實現(xiàn)的完整環(huán)形諧振腔激光器400。環(huán)形諧振腔波導402、光學增益元件404、光柵元件406以及輸出耦合器408被混合集成于一平面襯底410上。環(huán)形諧振腔激光器400的制作過程包括在襯底410上沉積數(shù)層光學無源層(未詳細描述)以供制作環(huán)形諧振腔波導402及輸出耦合器408。
光學增益元件404為一置于縫隙中的半導體光放大器，為了預(yù)留所述縫隙，該處的環(huán)形諧振腔波導402已被除去?？p隙的長度適合于有效地使光直接耦合進、出半導體光放大器404。光柵元件406用半導體波導材料單獨制作，并與環(huán)形諧振腔激光器400的輸出波導412之一直接耦合。
優(yōu)選的是使得在直接耦合結(jié)合處的反射最小化。為此，需要在增益元件404或光柵元件406以及波導402、412的端面之間采用非直角。也可以采用其他抗反射方法，例如光學薄膜。
第三實現(xiàn)方案的環(huán)形諧振腔激光器400(如圖4所示)的激射和調(diào)諧原理與圖1A及圖1B描述的本發(fā)明實現(xiàn)過程相同，在該不再贅述。
對于熟悉本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然以上所描述的本發(fā)明的實現(xiàn)方案并非全部可能方案；可以對這些結(jié)構(gòu)進行修改，同樣采用本發(fā)明的概念來實現(xiàn)類似的結(jié)果。在各方案中，各元件均可能用具有相似功能的其他類型元件或元件組合取代。例如，光柵元件可能被任何合適的多波段濾波器代替。此外，在有些實現(xiàn)方案(如類似于本發(fā)明實現(xiàn)方案二)中光學有源層及光學無源層的位置可能互換。因此制作過程也需要隨之改變。
更進一步，亦有可能制作非波導形式的本發(fā)明實現(xiàn)方案。在這類方案中，環(huán)形激光器諧振腔、輸出耦合裝置、光學增益元件以及頻率選擇裝置中的一者或多者均有可能不采用波導形式。
綜上所述，本發(fā)明將提供一種較傳統(tǒng)器件而言具有重要優(yōu)點的可調(diào)諧激光器。
權(quán)利要求
1.一種激光器，包括環(huán)形諧振腔；用于從環(huán)形諧振腔內(nèi)引出激光輻射的耦合裝置；和與耦合裝置相連接的頻率選擇裝置，其中該頻率選擇裝置可以將一部分引出的激光輻射反饋回環(huán)形諧振腔，并可以選擇反饋信號的頻率，而且該頻率選擇裝置不構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分。
2.如權(quán)利要求1所述的激光器，其中頻率選擇裝置是光柵。
3.如權(quán)利要求1及2所述的激光器，其中環(huán)形諧振腔包括環(huán)形光波導。
4.如權(quán)利要求3所述的激光器，其中耦合裝置包含波導輸出耦合器。
5.如權(quán)利要求4所述的激光器，還包括光學增益元件，其中該光學增益元件構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分或全部。
6.如權(quán)利要求5所述的激光器，其中光學增益元件為半導體材料。
7.如權(quán)利要求6所述的激光器，其中波導輸出耦合器為雙向耦合器。
8.如權(quán)利要求7所述的激光器，其中頻率選擇裝置和光學增益元件包含光學無源層、光學有源層、半絕緣層、上包層以及歐姆接觸層；并且頻率選擇裝置進一步包含刻蝕而成的波紋。
9.如權(quán)利要求7所述的激光器，其中光學增益元件、光柵、波導輸出耦合器以及環(huán)形諧振腔均單片集成于一個襯底上。
10.如權(quán)利要求9所述的激光器，其中光學增益元件包含由隔層分割開的光學無源層和光學有源層；光柵包含由光學無源層和光學有源層構(gòu)成的波導；并且輸出耦合器以及環(huán)形諧振腔形成于光學無源層中。
11.如權(quán)利要求10所述的激光器，其中通過周期性變化波導的寬度來形成光柵。
12.如權(quán)利要求10所述的激光器，其中通過在波導中克蝕波紋來形成光柵。
13.如權(quán)利要求7所述的激光器，其中光學增益元件、光柵、輸出耦合器以及環(huán)形諧振腔均混合集成于一襯底上。
14.如權(quán)利要求13所述的激光器，其中襯底材料對于激光波長是透明的。
15.如前面任一權(quán)利要求所述的激光器，其中頻率選擇裝置包含用于控制該頻率選擇裝置的折射率的控制裝置。
16.如權(quán)利要求15所述的激光器，其中控制裝置為一可變電流源。
17.如權(quán)利要求16所述的激光器，其中當環(huán)形諧振腔的諧振頻率與頻率選擇裝置的反射頻率基本相同時發(fā)射激光。
18.包含前面任一權(quán)利要求所述的可調(diào)諧激光器的光通訊系統(tǒng)。
19.一種用于改變環(huán)形諧振腔激光器的激射頻率的方法，該方法包括使環(huán)形諧振腔激光器在第一環(huán)形諧振腔諧振頻率運行，其中頻率選擇裝置的反射頻率與第一環(huán)形諧振腔諧振頻率基本吻合；控制頻率選擇裝置以將反射頻率由第一反射頻率改變?yōu)榈诙瓷漕l率；由此使環(huán)形諧振腔激光器在第二環(huán)形諧振腔諧振頻率運行，其中頻率選擇裝置的第二反射頻率與第二環(huán)形諧振腔諧振頻率基本吻合。
20.如權(quán)利要求19所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中頻率選擇裝置不構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部分。
21.如權(quán)利要求19及20所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中控制頻率選擇裝置的步驟包括控制頻率選擇裝置的折射率。
22.如權(quán)利要求21所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，該方法進一步包括在將頻率選擇裝置的反射頻率從第一反射頻率改變?yōu)榈诙瓷漕l率的過程中，將光學增益元件的泵浦水平降低到激光發(fā)射閾值之下，并且在將第一反射頻率改變到第二反射頻率之后，將光學增益元件的泵浦水平恢復(fù)至激光發(fā)射閾值之上。
23.如權(quán)利要求22所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中頻率選擇裝置是光柵。
24.如權(quán)利要求23所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中環(huán)形諧振腔包含環(huán)形光波導。
25.如權(quán)利要求24所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中耦合裝置包括波導輸出耦合器。
26.如權(quán)利要求25所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中光學增益元件構(gòu)成環(huán)形諧振腔的一部或全部。
27.如權(quán)利要求26所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中光學增益元件是半導體材料。
28.如權(quán)利要求27所述的用于改變環(huán)形諧振腔激光器激射頻率的方法，其中波導輸出耦合器是雙向耦合器。
全文摘要
包含環(huán)形激光諧振腔(102)、光學增益元件(104)、雙向輸出耦合器(106)以及頻率選擇裝置(114)的可調(diào)諧激光器(100)。頻率選擇裝置通常由一光柵構(gòu)成，光柵的反射頻率由折射率決定。在光柵的反射頻率與環(huán)形激光諧振腔的諧振頻率吻合時可得到單模激光運行。光柵的折射率由可變注入電流改變。這樣，激光輸出頻率可以在諧振腔的不同諧振頻率的間快速調(diào)諧。
文檔編號H01S3/063GK1675807SQ03819193
公開日2005年9月28日 申請日期2003年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月8日
發(fā)明者余思遠 申請人:布里斯托爾大學