專利名稱：疊層設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種疊層設(shè)備，特別是多層陶瓷電容器的生產(chǎn)過程對陶瓷膜片疊層的設(shè)備。
在多層陶瓷電容器的生產(chǎn)過程，已有的對陶瓷膜片進(jìn)行疊層的疊層設(shè)備，都有底座、底座上的載板、與底座及載板相對的壓頭，底座帶有的疊層定位機(jī)構(gòu)。載板的上方還設(shè)置有自動(dòng)控制的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，移動(dòng)機(jī)構(gòu)帶有真空吸著裝置。真空吸著裝置的真空吸著口一般與陶瓷膜片大小形狀相當(dāng)。移動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)真空吸著裝置將附著在載帶的陶瓷膜片整體吸著，并從載帶分離后，將陶瓷膜片移到載板放置疊層位置，放到疊層上解除真空，將陶瓷膜片疊放在疊層上。用壓頭將疊放的陶瓷膜片壓實(shí)，構(gòu)成了陶瓷膜片的疊層。從載帶上分離后的陶瓷膜片非常脆弱，單獨(dú)剝離的機(jī)械結(jié)構(gòu)和移到疊層上的機(jī)械結(jié)構(gòu)及控制機(jī)構(gòu)比較復(fù)雜，要求的精度非常高，從而大大增加了設(shè)備的成本，同時(shí)對疊層操作過程要求高，操作工藝復(fù)雜。由于是將單獨(dú)陶瓷膜片疊放在疊層上，陶瓷膜片非常薄，也非常容易損壞，不易采用簡單易行的機(jī)械定位機(jī)構(gòu)，所以疊層定位機(jī)構(gòu)只能采用光學(xué)定位機(jī)構(gòu)。光學(xué)定位機(jī)構(gòu)成本高，使用操作要求人員條件和責(zé)任心也高，操作比較復(fù)雜。同樣，由于怕在空吸著裝置附著陶瓷膜片整體過程中損壞陶瓷膜片，真空裝置的真空吸著口要求的精度非常高，既要表面非常平整，又要分散真空的分散層排布孔非常細(xì)小，所以也增加了制作的難度和制作成本。壓頭直接接觸陶瓷膜片擠壓，壓頭壓面精度要求高，壓頭的行程機(jī)構(gòu)的精度要求也比較高。這些都大大增加了設(shè)備的成本。
本實(shí)用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單，便于操作，又能提高工藝質(zhì)量的疊層設(shè)備。
本實(shí)用新型的疊層設(shè)備，仍有底座、底座上的載板、與底座及載板相對的壓頭，底座帶有的疊層定位機(jī)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)特征在于載板一側(cè)外設(shè)置有吸著上層疊層邊部真空吸著裝置(真空吸著頭)。所謂真空吸著裝置就是利用形成的真空負(fù)壓吸口來吸附大氣壓狀態(tài)的薄片物體的裝置。真空可來自自身的真空泵，也可以來自系統(tǒng)的真空。也就是真空吸著裝置不是設(shè)置在移動(dòng)陶瓷膜片的機(jī)構(gòu)，在載板及疊層的上方隨著自動(dòng)控制的移動(dòng)機(jī)構(gòu)平移，也不用來吸著整體陶瓷膜片，而是設(shè)置在載板外側(cè)及已疊層的外側(cè)，更確切的是上層疊層(疊層最上一層，剛重疊上的帶有載帶的一層陶瓷膜片)的下方邊部設(shè)置著真空吸著裝置，只對疊在疊層的上層陶瓷膜片的一邊部吸著。省去了移動(dòng)陶瓷膜片的自動(dòng)控制的移動(dòng)機(jī)構(gòu)及真空吸著裝置。這樣就可以用手將帶有載帶的陶瓷膜片從上個(gè)工序拿到疊層位置，將陶瓷膜片與承載陶瓷膜片的載帶一同放到疊層上面，陶瓷膜片在下、載帶在上，用定位機(jī)構(gòu)定位，再用壓頭接觸載帶壓實(shí)同時(shí)。上層疊層邊部真空吸著裝置將陶瓷膜片的一邊部吸著。這樣就可以在抬起壓頭后，用手從陶瓷膜片被吸著的一邊起剝離去除載帶。也可以用機(jī)械結(jié)構(gòu)從陶瓷膜片被吸著的一邊起剝離去除載帶。如用機(jī)械機(jī)構(gòu)將帶有載帶的陶瓷膜片從上個(gè)工序拿到疊層位置，所用的機(jī)械結(jié)構(gòu)及真空吸著裝置，要求的精度就可以大大降低。壓頭表面的精度及行程機(jī)構(gòu)的精度要求可以相對降低。同樣定位機(jī)構(gòu)可以選用結(jié)構(gòu)比較簡單容易操作的機(jī)械定位機(jī)構(gòu)，如可以為定位銷或邊緣定位擋等機(jī)械定位機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型所用的真空吸著裝置的真空吸著口，可以對應(yīng)吸著陶瓷膜片的邊部，形成長條形的真空吸著口，只為原有整體吸著陶瓷膜片吸著口十幾分之一，這也大大減少了真空開口，可以相應(yīng)降低真空系統(tǒng)的負(fù)荷。同樣，由于真空吸著裝置只吸著陶瓷膜片的邊部，而且可以是在成品時(shí)所不需要的邊部，所以對真空吸著裝置的真空分散層要求可以降低，真空吸著裝置的真空吸著口的真空分散層為絲網(wǎng)。這樣更便于真空吸著裝置及真空分散層的制作加工及維修。這都降低了真空吸著裝置的造價(jià)和疊層設(shè)備的造價(jià)。對于疊層較少，疊層厚度較低的，吸著上層疊層邊部真空吸著裝置可以相對固定。對于疊層較多，疊層較厚的，吸著上層疊層邊部真空吸著裝置帶有上下移動(dòng)機(jī)構(gòu)，可以相對底座及載板上下移動(dòng)，以適應(yīng)疊層厚度不斷增加而上層疊層邊部位置的變化。
所以說，本實(shí)用新型與已有技術(shù)相比，具有在保證質(zhì)量和提高質(zhì)量的前提下，能夠簡化了設(shè)備的結(jié)構(gòu)和設(shè)備的成本，并使得設(shè)備的操作大大簡化，使用更加方便；由于陶瓷膜片疊層過程，連同載帶一起移動(dòng)、一起受壓，陶瓷膜片可以更薄，層數(shù)可以更多，制成的電容器容量更高，能夠?qū)崿F(xiàn)小體積高容量的多層片式陶瓷電容器；可以相應(yīng)的選用機(jī)械定位結(jié)構(gòu)，絲網(wǎng)真空分散層，在保證功能的前提下，進(jìn)一步簡化了設(shè)備的結(jié)構(gòu)和造價(jià)，而且相應(yīng)地簡化了操作過程，保證了設(shè)備的可靠性及使用的可靠性。
附圖
表示了本實(shí)用新型一種片式多層陶瓷電容器生產(chǎn)所用的陶瓷膜片疊層設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
以下結(jié)合附圖的實(shí)例進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。
這種本實(shí)用新型的陶瓷膜片疊層設(shè)備，有固定支撐載板7的底座。底座上放置著載板7。載板周圍的底座臺(tái)面帶有疊層定位銷6。與底座臺(tái)面及載板相對上方設(shè)置著氣壓驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)1的壓頭2。載板用于放置疊層8。載板左側(cè)外的底座邊部設(shè)置著吸著上層疊層邊部真空吸著頭8。真空吸著頭可以固定在底座的側(cè)面，也可以設(shè)置在上下移動(dòng)的機(jī)構(gòu)3，跟隨上下移動(dòng)。真空吸著頭的吸著口向上與疊層上層的陶瓷膜片邊部下面相對。這種真空吸著裝置的真空吸著口為與陶瓷膜片邊部對應(yīng)的長條形。長條形真空吸著口的真空分散層為不銹鋼絲網(wǎng)。真空吸著裝置真空導(dǎo)管與真空管路連接。可以用手將一張張連同載帶的陶瓷膜片拿來，陶瓷膜片朝下放到載板上面的疊層上。每放一張，都將載帶邊部定位孔套在定位銷進(jìn)行定位，同時(shí)陶瓷膜片的左邊部4被真空吸著頭的長條吸口吸著，并將上面的載帶5邊部翹起，用壓頭從上面壓實(shí)。抬起壓頭后，用手從左邊陶瓷膜片被吸著的這一邊起，將附著的載帶從陶瓷膜片上面剝離。將左邊多余的陶瓷膜片割掉。每疊一張?zhí)沾赡て贾貜?fù)著上述過程。如果只疊層幾層的疊層半成品，真空吸著頭可以固定不動(dòng)。如果疊層較多，可以隨著疊層的增高，利用移動(dòng)機(jī)構(gòu)相應(yīng)地上移真空吸著頭，以更好地完成以后的疊層過程。
權(quán)利要求1.一種疊層設(shè)備，有底座、底座上的載板、與底座臺(tái)面及載板相對的壓頭，底座帶有的疊層定位機(jī)構(gòu)，其特征在于載板一側(cè)外設(shè)置有吸著上層疊層邊部的真空吸著裝置。
2.如權(quán)利要求1所說的疊層設(shè)備，其特征在于疊層定位機(jī)構(gòu)為定位銷或邊緣定位擋機(jī)械定位機(jī)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所說的疊層設(shè)備，其特征在于真空吸著裝置的真空吸著口為長條形。
4.如權(quán)利要求1或2或3所說的疊層設(shè)備，其特征在于真空吸著裝置的真空吸著口的真空分散層為絲網(wǎng)。
專利摘要一種疊層設(shè)備、有底座、底座上的載板、與底座及載板相對的壓頭,底座帶有的疊層定位機(jī)構(gòu),載板一側(cè)外設(shè)置有吸著上層疊層邊部真空吸著裝置。這樣就可以用手將帶有載帶的陶瓷膜片從上個(gè)工序拿到疊層位置,可以選用機(jī)械定位機(jī)構(gòu)定位,陶瓷膜片可以更薄,層數(shù)可以更多,制成的電容器容量更高,能夠?qū)崿F(xiàn)小體積高容量的多層片式陶瓷電容器;可以相應(yīng)的選用絲網(wǎng)真空分散層,簡化了設(shè)備的結(jié)構(gòu)和造價(jià),簡化了操作過程,保證了設(shè)備的可靠性。
文檔編號(hào)H01G4/12GK2430774SQ00242138
公開日2001年5月16日 申請日期2000年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2000年7月9日
發(fā)明者初殿生 申請人:初殿生