堆疊膜閾構(gòu)件、裝置和制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種堆疊膜閾構(gòu)件、裝置和制造方法。一種構(gòu)件包括微全息圖層，其中，微全息圖層包括與功能膜層交錯(cuò)的對(duì)光呈惰性的層。功能膜層由在被光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化而在被不同光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料制成。構(gòu)件還可包括與多個(gè)全息圖層交錯(cuò)的隔膜和其它元件(例如，伺服層、涂層等)，以便包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置。還公開了制造構(gòu)件和裝置的方法。
【專利說明】堆疊膜閾構(gòu)件、裝置和制造方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)部分地涉及2012年4月30日提交的標(biāo)題為“STACKED FILM OPTICAL DATASTORAGE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURE”(代理人卷號(hào) 253010-1)的共同受讓的美國申請(qǐng)序列號(hào)13/459，840，該申請(qǐng)的全部內(nèi)容通過參考并入本文中。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本申請(qǐng)大體涉及堆疊膜閾構(gòu)件(threshold component)、使用構(gòu)件的裝置、制造裝置和/或構(gòu)件的方法以及在特定實(shí)施例中在裝置上記錄和/或讀取全息圖的方法。
【背景技術(shù)】
[0003]微全息數(shù)據(jù)存儲(chǔ)實(shí)現(xiàn)了單個(gè)盤中大量的數(shù)據(jù)層以實(shí)現(xiàn)高數(shù)據(jù)容量。在數(shù)據(jù)層中的每一個(gè)中，由微全息圖的存在或不存在代表數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)“O”或“I”。微全息圖在讀出束照射之后充當(dāng)局部反射器。微全息圖的存在或不存在提供了“高”或“低”反射信號(hào)，其提供存儲(chǔ)的信息。
[0004]微全息圖的光學(xué)記錄要求來自具有重疊的聚焦區(qū)域的盤的兩側(cè)的兩個(gè)反向傳播的焦點(diǎn)連貫激光束。兩個(gè)束在焦點(diǎn)區(qū)域的干涉誘發(fā)材料的局部變化，其導(dǎo)致折射率調(diào)制圖案，該調(diào)制圖案為微全息圖。這兩個(gè)束的良好對(duì)齊典型地在動(dòng)態(tài)記錄期間要求五軸線伺服系統(tǒng)。另外，穿過盤的深度在所有層處記錄要求良好像差補(bǔ)償?shù)墓鈱W(xué)系統(tǒng)，這在高數(shù)值孔徑下非常有挑戰(zhàn)性。因此，光學(xué)器件和伺服系統(tǒng)兩者比僅單聚焦束用于記錄和/或讀出的常規(guī)光驅(qū)動(dòng)器系統(tǒng)中所需的更加復(fù)雜和昂貴。
[0005]提出了“預(yù)格式化”的構(gòu)思來克服該問題。(見例如美國專利N0.7，388，695)。在該方案中，空盤在于光驅(qū)動(dòng)器中使用之前“預(yù)格式化”有微全息圖層。該“預(yù)格式化”步驟是盤制造中的步驟中的一個(gè)。接著，預(yù)格式化的盤在光驅(qū)動(dòng)器中用于記錄和讀出。使用單聚焦的激光束通過微全息圖的擦除或修改來完成記錄。
[0006]用于“預(yù)格式化”的系統(tǒng)為高品質(zhì)的昂貴雙側(cè)微全息圖記錄系統(tǒng)。
[0007]因此，存在用于對(duì)現(xiàn)有的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)、制造方法、格式化方法和/或記錄方法加以改進(jìn)的持續(xù)機(jī)會(huì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明通過消除對(duì)預(yù)格式化數(shù)據(jù)儲(chǔ)存裝置的需要而克服前述缺點(diǎn)中的至少一些。更具體地，本發(fā)明涉及提供堆疊膜閾構(gòu)件、裝置和制造方法。
[0009]因此,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，一種構(gòu)件包括微全息圖層，其中，微全息圖層包括與多個(gè)功能膜層交錯(cuò)的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層，其中，多個(gè)功能膜層包括在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種制造方法包括:提供功能膜材料，其在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；提供對(duì)光呈惰性的材料；通過倍增模(multiplier die)擠出功能膜材料和對(duì)光呈惰性的材料，由此形成微全息圖層；提供隔膜；以及粘附隔膜和微全息圖層，由此形成構(gòu)件。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種制造方法包括:經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)提供薄隔膜；將多個(gè)涂層施加至薄隔膜，其中，多個(gè)涂層包括:功能材料，其在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；和惰性材料；使薄隔膜和多個(gè)涂層固化，由此形成微全息圖層。
[0012]一種構(gòu)件，其包括:微全息圖層，其中，微全息圖層包括與多個(gè)功能膜層交錯(cuò)的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層，其中，多個(gè)功能膜層包括在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料。
[0013]一種構(gòu)件，其包括與權(quán)利要求1的微全息圖層交錯(cuò)的多個(gè)隔膜。
[0014]優(yōu)選地，多個(gè)隔膜對(duì)光呈惰性。
[0015]優(yōu)選地，多個(gè)隔膜具有從大約20x至大約IOOx的瑞利長度的厚度。
[0016]優(yōu)選地，第一隔膜具有與第二隔膜不同的厚度。
[0017]優(yōu)選地，微全息圖層的周期限定為P，其中Ρ=λ/2η，此外，其中，λ是讀出光束的光波長，而η是微全息圖層中的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層和功能膜層的有效折射率。
[0018]優(yōu)選地，微全息圖層的厚度在從大約0.5μπι至大約10 μ m的范圍內(nèi)。
[0019]優(yōu)選地，絕對(duì)指數(shù)變化在從大約0.001至大約0.05的范圍內(nèi)。
[0020]優(yōu)選地，微全息圖層的反射率當(dāng)在記錄狀態(tài)期間利用高強(qiáng)度光照射時(shí)變化。
[0021]優(yōu)選地，微全息圖層的數(shù)量在從2至50的范圍內(nèi)。
[0022]優(yōu)選地，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件的厚度在從大約20 μ m至大約500 μ m的范圍內(nèi)。
[0023]優(yōu)選地，多個(gè)對(duì)光呈惰性的層和多個(gè)間隔層具有相同的折射率。
[0024]優(yōu)選地，第一功能膜層中的第一材料具有第一材料組分、濃度和閾響應(yīng)，而第二功能膜層具有第二材料、濃度和閾響應(yīng)，第二材料具有至少一種不同的第二材料組分。
[0025]優(yōu)選地，每個(gè)連續(xù)的微全息圖層在遠(yuǎn)離數(shù)據(jù)讀取器和讀/寫裝置中的一個(gè)移動(dòng)的方向上具有較高的反射率。
[0026]優(yōu)選地，多個(gè)隔膜中的至少一個(gè)還包括輔助反射疊堆,輔助反射疊堆包括由對(duì)記錄和讀出光波長呈惰性的材料組成的多個(gè)層，由此限定反射基準(zhǔn)層。
[0027]優(yōu)選地，第一微全息圖層和第二微全息圖層在讀出期間響應(yīng)于兩個(gè)不同波長。
[0028]優(yōu)選地，第一微全息圖層鄰近第二微全息圖層。
[0029]優(yōu)選地，第一微全息圖層和第二微全息圖層交替穿過構(gòu)件。
[0030]優(yōu)選地，多個(gè)微全息圖層的記錄波長不同于多個(gè)微全息圖層的讀出波長。
[0031]優(yōu)選地，第一光束包括具有高強(qiáng)度的光，而第二光束包括具有低強(qiáng)度的光。
[0032]一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，其包括:襯底層，其包括可模制的非光聚合物塑料襯底和其中的伺服層；和與襯底層鄰接的權(quán)利要求2的構(gòu)件。
[0033]優(yōu)選地，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置的形狀為盤形、正方形和矩形中的一個(gè)。
[0034]優(yōu)選地，構(gòu)件構(gòu)造用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)用途。
[0035]一種制造方法，其包括:提供功能膜材料，功能膜材料在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；提供對(duì)光呈惰性的材料；通過倍增模擠出功能膜材料和對(duì)光呈惰性的材料，由此形成微全息圖層；提供隔膜；以及粘附隔膜和微全息圖層，由此形成構(gòu)件。
[0036]優(yōu)選地，該方法還包括:經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)輸送多個(gè)構(gòu)件；使多個(gè)構(gòu)件彼此對(duì)齊；以及使多個(gè)構(gòu)件彼此粘附，由此形成由位于兩個(gè)微全息圖層之間的隔膜限定的堆疊構(gòu)件。
[0037]—種制造方法，其包括:經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)提供薄隔膜；將多個(gè)涂層施加至薄隔膜，其中，多個(gè)涂層包括:功能膜材料，其在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；和惰性材料；使薄隔膜和多個(gè)涂層固化，由此形成微全息圖層。
[0038]優(yōu)選地，多個(gè)涂層中的一個(gè)為槽-模涂層、滑動(dòng)涂層、幕式涂層和凹面涂層中的一個(gè)。
[0039]優(yōu)選地，該方法還包括:經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)輸送多個(gè)形成的單元全息圖和隔膜結(jié)構(gòu)；使多個(gè)單元全息圖和隔膜結(jié)構(gòu)對(duì)齊；以及使多個(gè)單元全息圖和隔膜結(jié)構(gòu)粘附在一起，由此形成構(gòu)件。
[0040]本發(fā)明的各種其它特征和優(yōu)點(diǎn)從下列詳細(xì)描述和附圖將變得顯而易見。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0041]當(dāng)參考附圖閱讀下列詳細(xì)描述時(shí)，本發(fā)明的這些和其它特征、方面和優(yōu)點(diǎn)將變得更好理解，在該附圖中，同樣的標(biāo)記遍及附圖表示同樣的部件，其中:
圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的堆疊膜閾構(gòu)件的一部分的截面立面圖。
[0042]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的堆疊膜閾裝置的一部分的截面立面圖。
[0043]圖3A和圖3B是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的經(jīng)歷記錄的堆疊膜閾構(gòu)件的一部分的截面立面圖。
[0044]圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的堆疊膜閾裝置的一部分的截面立面圖。
[0045]圖5是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的經(jīng)歷零差檢測(cè)的圖4的堆疊膜閾構(gòu)件的一部分的截面立面圖。
[0046]圖6是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的使用制造堆疊膜閾構(gòu)件的方法的系統(tǒng)的示意圖。
[0047]圖7是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的使用制造堆疊膜閾構(gòu)件的方法的系統(tǒng)的示意圖。
[0048]圖8是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的使用制造堆疊膜閾構(gòu)件的方法的系統(tǒng)的示意圖。
[0049]圖9是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制造堆疊膜閾構(gòu)件的方法的流程圖。
[0050]圖10是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的另一種制造堆疊膜閾構(gòu)件的方法的流程圖。
[0051]構(gòu)件列表
10構(gòu)件，微全息圖層 12功能膜層 14對(duì)光呈惰性的層 15功能材料涂層 16全息圖 17惰性材料涂層 20隔膜
22輔助反射疊堆
30數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件
40襯底層
42第二襯底層
44伺服層
48屏蔽涂層
100數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置
200聚焦的記錄激光束
220不同顏色專用跟蹤或基準(zhǔn)束
230讀取束
232調(diào)制反射
234恒定相干反射
250單個(gè)檢測(cè)器
350, 370輥對(duì)輥系統(tǒng)
352輥
360粘附裝置 380系統(tǒng) 382固化裝置 386涂覆裝置 400方法
402提供功能膜材料 404提供對(duì)光呈惰性的材料
406通過至少一個(gè)倍增模擠出功能膜材料和對(duì)光呈惰性的材料，由此形成微全息圖層 410提供多個(gè)隔膜
408使多個(gè)微全息圖層和多個(gè)隔膜粘附在一起，由此形成構(gòu)件 500方法
502經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)提供薄隔膜
504薄隔膜從多個(gè)涂覆裝置接收多個(gè)涂層的施加
506通過固化裝置使薄隔膜和多個(gè)涂層固化，由此形成構(gòu)件。
【具體實(shí)施方式】
[0052]除非另外限定，本文中使用的技術(shù)和科學(xué)用語具有與關(guān)于目前公開的主題的領(lǐng)域中的技術(shù)人員所通常理解的相同的含義。如本文中使用的用語“第一”、“第二”等不表示任何次序、數(shù)量或重要性，而是用于將一個(gè)元件與另一個(gè)元件區(qū)分開。用語“一”、“一個(gè)”和“該”不表示數(shù)量的限制，而是表示存在提及的物品中的至少一個(gè)，并且用語“前”、“后”、“底部”和/或“頂部”僅為了方便描述而使用，并且不受限于任何一個(gè)位置或空間方位，除非另外提到。
[0053]如果公開了范圍，則涉及相同構(gòu)件或特性的所有范圍的端點(diǎn)為包含的并且能夠獨(dú)立地組合(例如，“高達(dá)大約25wt.%”包含“大約5wt.%至大約25wt.%”的范圍的端點(diǎn)和所有中間值等)。結(jié)合數(shù)量使用的修飾語“大約”包含敘述的值，并且具有由上下文指示的含義(例如，包含與特定數(shù)量的測(cè)量相關(guān)的誤差程度)。因此，由用語“大約”修飾的值不必僅受限于指定的精確值。
[0054]如本文中使用的，用語“非線性感光劑”指的是如下材料，該材料具有取決于光強(qiáng)度的敏感度，也就是，敏感度在較高(記錄)強(qiáng)度下為高的而在較低(讀出)強(qiáng)度下為低的。
[0055]如本文中使用的，用語“敏感度”限定為關(guān)于用于利用激光輻照膜的點(diǎn)的注量(f luence)的量獲得的指數(shù)變化量。大體上，線性材料和/或線性感光劑的敏感度在各種強(qiáng)度下不變化。
[0056]如本文中使用的，用語“注量”指橫越光束截面的單位面積的光束能量的量(例如，以焦耳/cm2為單位)，而用語“強(qiáng)度”指光輻射通量密度，例如在單位時(shí)間內(nèi)橫越束截面的單位面積的能量的量(例如，以瓦特/cm2為單位)。
[0057]如本文中使用的，用語“潛酸發(fā)生器”指的是當(dāng)暴露于刺激時(shí)能夠生成酸或質(zhì)子的材料。
[0058]如本文中使用的，用語“反應(yīng)劑”指的是能夠經(jīng)歷化學(xué)變化以形成導(dǎo)致介質(zhì)內(nèi)的折射率變化的調(diào)制的“產(chǎn)物”的材料。
[0059]如本文中使用的,用語“潛發(fā)色團(tuán)(latent chromophore) ”指的是能夠響應(yīng)于刺激而生成發(fā)色團(tuán)的材料。此外，用語“潛發(fā)色團(tuán)”指的是能夠生成具有與潛發(fā)色團(tuán)不同的吸收或光學(xué)特性的發(fā)色團(tuán)的材料。
[0060]如本文中使用的，用語“變化”意在包含反應(yīng)劑的任何間接光化學(xué)反應(yīng)，例如光二聚或異構(gòu)化。用詞“間接”與諸如光二聚或光化學(xué)反應(yīng)或光反應(yīng)的用語一起使用意味著，反應(yīng)劑不是從光子的吸收直接接收能量，而是從另一種分子(諸如，例如感光劑或媒劑)直接接收能量，該另一種分子首先吸收光子，并且接著將該能量的一部分傳遞至隨后經(jīng)歷二聚的反應(yīng)劑。
[0061]如本文中使用的，關(guān)于折射率的變化的用語“不變化”意在包含在一定持續(xù)時(shí)間內(nèi)其折射率的變化小于大約0.05%變化的材料或材料的組合。
[0062]本發(fā)明的方面示出成與先前的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)構(gòu)件、裝置和制造方法相比提供了優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明的方面旨在簡化制造步驟和如此制造的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置的結(jié)構(gòu)，以便消除對(duì)預(yù)格式化裝置的需要。本發(fā)明的方面將使用堆疊周期膜結(jié)構(gòu)，以便在光束照射下形成“反射”層(或被稱為“微全息圖層”)。該反射層可包含閾材料，該閾材料可被修改，以便在記錄束照射下修改(減小或增大)層的反射率。因此，有效地消除了對(duì)提供非常錯(cuò)綜的“復(fù)制”系統(tǒng)的需要，并且現(xiàn)有的光學(xué)系統(tǒng)與本文中討論的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置完全兼容。在實(shí)施例中，本發(fā)明的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置可與單側(cè)低成本光驅(qū)動(dòng)器一起使用用于“記錄”和“讀出”，這消除了需要昂貴且復(fù)雜的“預(yù)格式化”系統(tǒng)來在盤中制造微全息圖。
[0063]參考圖1，示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的構(gòu)件的一部分的截面立面圖。描繪為10的堆疊膜閾構(gòu)件或構(gòu)件可包括與多個(gè)功能膜層12交錯(cuò)的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層14。共同地，如將在本文中更詳細(xì)地討論的，分層結(jié)構(gòu)10還可被視為微全息圖層10。
[0064]如本文中使用的用語鄰接指兩個(gè)或更多個(gè)元件彼此物理接觸，或者兩個(gè)或更多個(gè)元件之間可存在(多個(gè))空隙層。也就是，兩個(gè)或更多個(gè)元件以某一方式連結(jié)以便導(dǎo)致單一結(jié)構(gòu)。
[0065]不管圖1中示出的元件的數(shù)量，微全息圖層10可包括可在2至20的范圍內(nèi)的功能膜層12的數(shù)量。相似地，對(duì)光呈惰性的層14的數(shù)量也可在2至20的范圍內(nèi)。
[0066]功能膜層12可包括材料或材料的組合，其在被高強(qiáng)度光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化，并且在被低強(qiáng)度光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化。
[0067]如本文中使用的用語“高強(qiáng)度”包括在從大約50MW/cm2至大約500MW/cm2的范圍內(nèi)的光。如本文中使用的用語“低強(qiáng)度”包括在從大約0.lMW/cm2至大約30MW/cm2的范圍內(nèi)的光。
[0068]功能膜12可包括聚合物、非線性光染料、感光劑和能夠經(jīng)歷折射率變化的材料的任何合適的組合。合適的功能膜12材料的實(shí)例包括但不受限于列出的這些:共同受讓的美國專利 N0.8，124，299，序列號(hào) 12/551，410，標(biāo)題為 “Methods For Using OpticalData Storage Media”(代理人卷號(hào) 236639-1);美國專利公報(bào) N0.2012/0052232，序列號(hào) 12/873，024,標(biāo)題為 “Use of Appended Dyes In Optical Data Storage Media”(代理人卷號(hào)242912-1);美國專利公報(bào)N0.2011/0053055，序列號(hào)12/551，455，標(biāo)題為“Compositions, Optical Data Storage Media and Methods for Using the OpticalData Storage Media”(代理人卷號(hào) 236540-1);和美國序列號(hào) 13/164，996，標(biāo)題為“Methodof Recording Data in an Optical Data Storage Medium and an Optical Data StorageMedium” (代理人卷號(hào)247979-1)。所有前述的文獻(xiàn)由此通過參考全部被并入。
[0069]在一個(gè)實(shí)施例中，功能膜12可包括:熱塑性聚合物基質(zhì)；非線性感光劑，其能夠吸收具有足以引起上三線態(tài)(triplet)激勵(lì)的波長和強(qiáng)度的入射輻射；潛酸發(fā)生器，其能夠在來自非線性感光劑的三線態(tài)激勵(lì)之后產(chǎn)生酸，并且基本上不響應(yīng)于所述入射輻射；包括潛發(fā)色團(tuán)的反應(yīng)劑，其中，至少一種潛發(fā)色團(tuán)能夠通過與產(chǎn)生的酸反應(yīng)而形成至少一種發(fā)色團(tuán)，由此引起光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)中的折射率變化。在另一個(gè)實(shí)施例中，功能膜12可包括:熱塑性聚合物基質(zhì)；潛酸發(fā)生器；非線性感光劑；和包括潛發(fā)色團(tuán)的反應(yīng)劑。在另一個(gè)實(shí)施例中，功能膜12可包括:熱塑性聚合物基質(zhì)；潛酸發(fā)生器；非線性感光劑；和包括受保護(hù)的苯甲酮的反應(yīng)劑。
[0070]在另一個(gè)實(shí)施例中，功能膜12可包括:聚合物基質(zhì)；反應(yīng)劑，其能夠在三線態(tài)激勵(lì)(Tn ；n > I)之后經(jīng)歷化學(xué)變化，由此引起折射率變化；和非線性感光劑，其包括能夠在405nm下吸收光化福射以引起至所述反應(yīng)劑的上部三線態(tài)能量傳遞的一種或更多種亞酞菁(sub-PC)反向飽和吸收體(RSA)。
[0071]在另個(gè)實(shí)施例中，功能I吳12可包括:聚合物基質(zhì)；反應(yīng)劑，其能夠在激勵(lì)之后經(jīng)歷光化學(xué)變化，由此引起折射率變化；和非線性感光劑，其能夠在反應(yīng)劑暴露于一個(gè)或更多個(gè)波長的輻射時(shí)引起反應(yīng)劑的激勵(lì)，其中，非線性感光劑與聚合物基質(zhì)化學(xué)地結(jié)合。
[0072]在另一個(gè)實(shí)施例中，功能膜12可包括:聚合物基質(zhì)；反應(yīng)劑，其能夠在三線態(tài)激勵(lì)之后經(jīng)歷光化學(xué)變化以形成產(chǎn)物，由此引起介質(zhì)中的折射率變化；和非線性感光劑，其包括能夠在405nm下吸收光化輻射以引起至所述反應(yīng)劑的上部三線態(tài)能量傳遞的一種或更多種鉬乙炔基復(fù)合物。
[0073]相似地，對(duì)光呈惰性的層14可包括任何合適的材料。對(duì)光呈惰性的層14可包括對(duì)光呈惰性或?qū)獯笾鲁识栊缘娜魏魏线m的材料。用于在用于對(duì)光呈惰性的層14的聚合物基質(zhì)中使用的合適的聚合物的實(shí)例包括但不受限于聚(甲基丙烯酸烷基酯)、諸如聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚乙烯醇、聚(烷基丙烯酸酯)、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚(偏二氟乙烯)、聚(醋酸乙烯酯)、它們的組合等。
[0074]如圖1所示，P示出為微全息圖層10的周期，并且在式I中限定為:
P= λ /2η 式 I
其中，λ是讀出的光束的光波長，而η是微全息圖層10中的多個(gè)惰性膜層14和功能膜層12的有效折射率。當(dāng)由多個(gè)對(duì)光呈惰性的層14和功能膜層12構(gòu)成時(shí)，微全息圖層10的厚度在從大約0.5 μ m至大約10 μ m的范圍內(nèi)。
[0075]參考圖2，示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置的一部分和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件的截面立面圖。描繪為100的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件20和其它元件。
[0076]數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30包括與多個(gè)隔膜20交錯(cuò)的多個(gè)微全息圖層10。多個(gè)隔膜20可包括對(duì)光呈惰性的材料。多個(gè)隔膜20中的每一個(gè)可具有從大約20x至大約IOOx的瑞利長度的厚度。瑞利長度由讀出裝置的數(shù)值孔徑和光波長確定。
[0077]隔膜20可包括任何合適的材料。用于在用于隔膜20的聚合物基質(zhì)中使用的合適的聚合物的實(shí)例包括但不受限于聚(甲基丙烯酸烷基酯)、諸如聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚乙烯醇、聚(烷基丙烯酸酯)、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚(偏二氟乙烯)、聚(醋酸乙烯酯)、它們的組合等。
[0078]數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置10包括襯底層40，其中，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30與其鄰接。如示出的，第二襯底層42可與數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的第二側(cè)鄰接。第二襯底層42還可在其中包括伺服層44。
[0079]數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100還可在裝置100的一側(cè)或兩側(cè)包括合適的屏蔽涂層48。現(xiàn)在已知或以后開發(fā)的任何合適的材料可用于屏蔽涂層48。此外，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100可包括防刮擦涂層和防反射涂層中的一個(gè)或更多個(gè)。雖然防刮擦涂層和/或防反射涂層可放置在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100的兩側(cè)，但是典型地，這些涂層僅施加在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100的上側(cè)，因?yàn)樯蟼?cè)是在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置400上從其進(jìn)行讀取和/或?qū)懭雱?dòng)作的一側(cè)。
[0080]因此，本發(fā)明的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100可最終構(gòu)造成充當(dāng)微全息數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置。在實(shí)施例中，微全息數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置可包括盤。合適的盤可包括但不受限于標(biāo)準(zhǔn)盤尺寸，諸如具有大約1.2mm或大約100 μ m的總厚度的盤(即，“柔性盤”)。然而，盤可構(gòu)成為任何總厚度(包括從大約100 μ m至大約1.2mm的范圍)，包括例如具有100 μ m、400 μ m、600 μ m或1200 μ m等的總厚度的盤。
[0081]襯底層40、42可包括可模制的非光聚合物塑料襯底。用于在用于襯底層40、42的聚合物基質(zhì)中使用的合適的聚合物的特定實(shí)例包括但不受限于聚(甲基丙烯酸烷基酯)、諸如聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚乙烯醇、聚(烷基丙烯酸酯)、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚(偏二氟乙烯)、聚(醋酸乙烯酯)、它們的組合等。襯底層42還可在其中包括伺服層44，其包括凹槽或凹槽層和凹槽層上的二色性層。
[0082]合適的襯底層40、42、伺服層44、凹槽層、二色性層的實(shí)例在下列參考文獻(xiàn)中討論，但是不受限于在以下列出的這些材料:共同受讓的美國專利公報(bào)N0.2011/0080823，序列號(hào) 12/966，144,標(biāo)題為 “Disc Structure For Bit-ffise Holographic Storage”(代理人卷號(hào)228365-3);以及美國專利N0.8，194,520，序列號(hào)12/346, 378,標(biāo)題為“DiscStructure For Bit-ffise Holographic Storage，，(代理人卷號(hào) 228365-1)。兩個(gè)文獻(xiàn)由此通過參考被全部并入。
[0083]參考圖3A和圖3B，示出在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100 (未示出)內(nèi)的微全息圖層的一部分上記錄全息圖16的聚焦記錄激光束200。圖3A描繪微全息圖層10中通過擦除的記錄；而圖3B描繪微全息圖層10中通過修改的記錄。
[0084]如示出的，兩個(gè)層12、14中的材料包括兩種不同的材料，其中，一種材料為功能材料，而另一種材料為惰性材料。應(yīng)當(dāng)注意，兩個(gè)層12、14可包括功能材料，其中，功能材料不是相同的材料，并且折射率的變化在曝光之后針對(duì)兩者同時(shí)沿相反方向移動(dòng)，這將產(chǎn)生增強(qiáng)的對(duì)比和潛在地較大的反射率變化。如討論的，功能層12包括功能材料，其對(duì)記錄波長下的光具有閾響應(yīng)(例如，功能層12在記錄狀態(tài)(即，高強(qiáng)度)期間被光束200照射時(shí)改變其折射率并且在讀出狀態(tài)(即，低強(qiáng)度)期間不改變其折射率)。如示出的，在記錄期間，功能材料12改變其折射率以更接近(見圖3B)鄰近的惰性材料14的折射率或與該折射率相同(見圖3A)。以該方式，在記錄狀態(tài)下，有效地減小數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100中的多個(gè)微全息圖層10中的至少一個(gè)的反射率。多個(gè)微全息圖層10的絕對(duì)指數(shù)變化可在從大約0.001至大約0.05的范圍內(nèi)。
[0085]在另一個(gè)實(shí)施例中，在記錄期間，功能材料12改變其折射率以更加遠(yuǎn)離鄰近的惰性材料14的折射率。以該方式，在記錄狀態(tài)下，有效地增大數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100中的多個(gè)微全息圖層10中的至少一個(gè)的反射率。另外，記錄光波長可與讀取光波長不同。
[0086]各種實(shí)施例可具有各種構(gòu)型而不背離本發(fā)明的方面。例如，雖然附圖示出了隔膜20的一致厚度，但是不同隔膜20可在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30內(nèi)具有不同厚度。例如，第一隔膜20可具有與第二隔膜20不同的厚度。第一隔膜20可或可不在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30內(nèi)鄰接。
[0087]相似地，取決于實(shí)施例，多個(gè)隔膜20和微全息圖層10中多個(gè)對(duì)光呈惰性的層14可或可不包括相同的材料。多個(gè)隔膜20和多個(gè)對(duì)光呈惰性的層14可具有相同的折射率。
[0088]取決于特定實(shí)施例，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30內(nèi)的微全息圖層10的數(shù)量可為從2至50。取決于在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30中在其間交錯(cuò)的微全息圖層10和隔膜20的數(shù)量和厚度，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的厚度可在從大約20 μ m至大約500 μ m的范圍內(nèi)。
[0089]參考圖4，描繪數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置110的另一個(gè)實(shí)施例的立面圖。在該實(shí)施例中，隔膜20還包括被視為輔助反射疊堆的分層結(jié)構(gòu)22，其包括由對(duì)(多個(gè))記錄和讀取光波長呈惰性的材料組成的多個(gè)層，由此限定反射基準(zhǔn)層。
[0090]輔助反射疊堆22可包括對(duì)(多個(gè))記錄和讀取光波長呈惰性的至少兩種材料。以該方式，輔助反射疊堆22可設(shè)計(jì)成用作永久反射基準(zhǔn)層以便有助于束在盤深度內(nèi)定位(例如，聚焦基準(zhǔn))。間距可制造成使得高反射比波長與數(shù)據(jù)束210相同，從而允許相同顏色的相同或二級(jí)光束跟蹤基準(zhǔn)表面?？蛇x地，間隔疊堆20、22可在不同波長下操作以利用不同顏色專用跟蹤或基準(zhǔn)束220。
[0091]參考圖5，描繪數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置的一部分的另一個(gè)實(shí)施例的立面圖。示出的實(shí)施例允許單個(gè)檢測(cè)器250和讀取束230，從而允許基準(zhǔn)束允許零差檢測(cè)。在該實(shí)施例中，使用在與讀取束230相同的波長下操作的具有隔膜20的間隔輔助反射疊堆22。以該方式，輔助反射疊堆22可放置成更接近微全息圖層10以便提供恒定相干反射234，其可在檢測(cè)器250上與來自其中具有修改的全息圖16的可記錄的微全息圖層10的調(diào)制反射232混合。因此，兩個(gè)反射232、234干涉并且經(jīng)由零差效應(yīng)提供信號(hào)增強(qiáng)。
[0092]雖然各個(gè)附圖可描繪包括單一類型的功能膜12的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)100，但是在本發(fā)明的其它實(shí)施例中，不同材料可在特定微全息圖層10中的不同功能膜12中和/或在不同微全息圖層10之間使用。例如，第一功能膜12可由第一材料組成，而第二功能膜12可由第二材料組成，使得第一和第二材料對(duì)不同波長敏感。第一功能膜12可具有任何數(shù)量。第二功能膜12也可具有任何數(shù)量。相似地，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100內(nèi)的特定微全息圖層10中和/或不同微全息圖層10之間具有相同和/或不同材料的功能膜12的次序和組合在各種實(shí)施例中幾乎不受限制。例如，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30可包括多個(gè)功能膜12，使得存在對(duì)波長為入!的光敏感的第一組功能膜12 ;存在對(duì)波長為λ 2的光敏感的第二組功能膜12 ;并且存在對(duì)波長為λ 3的光敏感的第三組功能膜12，使得A30該構(gòu)型可以以大量組合布置在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100內(nèi)。例如，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30可包括三個(gè)不同材料功能膜組12，其中，第一材料膜組12(例如，X1)位于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的頂部區(qū)域處或其附近；第二材料膜組12(例如，λ2)位于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的中間區(qū)域處或其附近；并且第三材料膜組2(例如，λ 3)位于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的底部區(qū)域處或其附近。在另一個(gè)實(shí)施例中，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30可包括使用不同波長材料的功能膜12的重復(fù)類型構(gòu)型。例如，具有對(duì)λ ,下的光敏感的材料的功能膜12的微全息圖層10可位于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的頂部處或其附近，而在下一個(gè)緊接的微全息圖層10中，下方的功能膜12是對(duì)入2下的光敏感的材料，并且接著，具有對(duì)λ 3下的光敏感的材料的功能膜12位于下一個(gè)微全息圖層10下方。接著，該三種材料“模式”可在向下穿過數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的連續(xù)三組微全息圖層10中重復(fù)。顯然地，可使用除了本 文中討論的這些組合和數(shù)量之外的用于用作功能膜12的不同材料的其它組合和數(shù)量。
[0093]使用具有帶有不同波長敏感度的不同材料的功能膜12的優(yōu)點(diǎn)在于，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100接著可與數(shù)據(jù)讀取器和/或讀/寫裝置(未示出)一起使用，使得可使用不同讀取器或裝置，以使例如在特定情況下，僅可能夠?qū)懭牖蜃x取多組微全息圖層10中的一組。因此，例如，在醫(yī)療記錄的應(yīng)用中，具有帶有用于功能膜12的多種材料的實(shí)施例的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100可構(gòu)造成使得第一材料(例如，λ D的一組功能膜12僅可能夠由病人讀取和/或?qū)懭?；而第二材?例如，入2)的一組功能膜12僅可能夠由主治醫(yī)師和/或醫(yī)院職員(physician’s staff)讀取和/或?qū)懭?；并且最后，第三材?例如，λ 3)的一組功能膜12僅可能夠由醫(yī)療設(shè)備制造商讀取和/或?qū)懭?。顯然地，可使用與本文中討論的組合和數(shù)量不同的用于用作功能膜12的不同材料的其它組合和數(shù)量。
[0094]現(xiàn)在參考圖6和圖8，示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的使用制造數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件的方法的各種系統(tǒng)的示意圖。另外，圖9描繪流程圖，其描繪制造圖6和圖8中的兩個(gè)系統(tǒng)可使用的構(gòu)件的一種方法。圖6和圖8分別示出了系統(tǒng)350、370的部分。系統(tǒng)350、370可使用多個(gè)輥352和其它已知元件(未示出)以及粘附裝置360來至少構(gòu)成如討論的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置構(gòu)件30的微全息圖層10部分?？墒褂萌魏魏线m的粘附裝置360，包括熱壓機(jī)(見例如圖6)、熱軋層壓裝置(見例如圖8)、光固化劑等。
[0095]該方法可包括使用可實(shí)現(xiàn)從數(shù)百到數(shù)千層的層倍增共擠出技術(shù)。該工藝大體包括共擠出穿過豎直地分割流并且使其水平地展開以進(jìn)入下一個(gè)模的一系列模的兩種單獨(dú)的聚合物。因此，初始2層倍增為2n+1層，在單層厚度< IOnm的情況下最大為2048層[見文獻(xiàn):Y.Jinj H.Taij A.Hiltnerj E.Baer, James S.Shirk, Journal of Applied PolymerScience, Vol.103，1834-1841 (2007)]。該技術(shù)用于制造具有與本發(fā)明的方面中所需的這些層厚和間距相似的層厚和間距的全聚合物熔化加工分布式布拉格反射器激光器。[見文獻(xiàn):Kenneth D.Singer, Tomasz Kazmierczak, Joseph Lott, Hyunmin Song, Yehengffu, James Andrews, Eric Baer, Anne Hiltner, and Christoph ffeder, OPTICS EXPRESS2008，Vol.16，N0.14，10360]。因此，微全息圖層或構(gòu)件10 (例如，層12、14)可在單通道中制造(例如，制造多個(gè)薄功能膜擠出物12、14)并在工藝結(jié)束時(shí)粘附至間隔層20，以產(chǎn)生包括膜10和20的結(jié)構(gòu)30，膜10和20可分開地堆疊以制造數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100。在其它實(shí)施例中，倍增共擠出技術(shù)還包括3層共擠出，因此整個(gè)疊堆30可潛在地在單通道中制造并且用于以后制造數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100。
[0096]如在圖9中示出為400的方法可包括在402處提供功能膜材料，該功能膜材料在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化。相似地，在404處提供對(duì)光呈惰性的材料。在406處，通過至少一個(gè)倍增模擠出功能膜材料和對(duì)光呈惰性的材料，由此形成微全息圖層10。在410處，提供多個(gè)隔膜20。接著在408處，使多個(gè)微全息圖層和多個(gè)隔膜粘附在一起，由此形成構(gòu)件30。
[0097]在其它實(shí)施例中，微全息圖層10和/或其構(gòu)件還可通過(多個(gè))膜輥筒和/或(多個(gè))熱壓機(jī)的各種組合加工，以便形成片。另外，在實(shí)施例中，多個(gè)微全息圖層10和多個(gè)隔膜20經(jīng)由圖6和/或圖8中示出的輥對(duì)輥系統(tǒng)350、370輸送和對(duì)齊。導(dǎo)致的構(gòu)件30使得微全息圖層10位于多個(gè)隔膜20中的兩個(gè)之間。粘附可由粘附裝置360等提供。
[0098]該方法的其它方面可包括但不受限于將構(gòu)件30進(jìn)一步粘附至一個(gè)或更多個(gè)襯底層，其中，襯底層包括非光聚合物塑料襯底和其中的伺服層，由此限定數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置。裝置還可切割成預(yù)定尺寸和形狀，以便限定合適的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)盤?？蓪⒏郊拥?多個(gè))涂層施加至盤的一個(gè)或兩個(gè)表面，包括屏蔽涂層、防反射涂層和防刮擦涂層。屏蔽涂層典型地施加至盤的兩側(cè)，而防反射涂層和防刮擦涂層僅施加至盤的一側(cè)(讀取/寫入側(cè))。
[0099]參考圖7，示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的使用制造構(gòu)件30的方法的系統(tǒng)的示意圖。描繪圖7中的系統(tǒng)可使用的、制造構(gòu)件30的方法的流程圖在圖10中示出為500。系統(tǒng)380可使用輥對(duì)輥系統(tǒng)，其包括適合于提供構(gòu)件30的輥352和多個(gè)其它元件(未示出)。系統(tǒng)380還包括用于構(gòu)造成分配和施加多個(gè)涂層的多個(gè)涂覆裝置386。
[0100]方法500包括在502處經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)提供薄隔膜20。在504處，薄隔膜20從多個(gè)涂覆裝置386接收多個(gè)涂層15、17的施加。多個(gè)涂層15、17包括與功能材料涂層15交替的惰性材料涂層17，其中，功能材料涂層包括在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料。以該方式，可將惰性材料17和功能材料15的交錯(cuò)或交替涂層施加至隔膜20。
[0101]在506處，薄隔膜20和其上的多個(gè)涂層15、17通過固化裝置382固化，由此形成構(gòu)件30。以該方式，可形成具有微全息圖層10和隔膜20的多個(gè)構(gòu)件30。
[0102]在另一個(gè)實(shí)施例中，這些多個(gè)構(gòu)件30可經(jīng)由與關(guān)于圖6和圖8中描繪的系統(tǒng)和方法討論的這些器件相似的器件(例如，輥對(duì)輥系統(tǒng))輸送和對(duì)齊。對(duì)齊的多個(gè)單位全息圖和隔膜結(jié)構(gòu)或構(gòu)件可彼此粘附，由此形成構(gòu)件。該方法中的其它膜加工步驟可包括表面清潔、在涂覆之前處理、添加/去除保護(hù)掩蔽膜等。
[0103]涂覆裝置386可為用于施加任何合適的功能膜涂層15、17的任何合適的裝置，功能膜涂層15、17包括但不受限于槽-模涂層、滑動(dòng)涂層、幕式涂層、凹面涂層等。相似地，由固化裝置382提供的固化可通過任何合適的手段進(jìn)行，該任何合適的手段包括但不受限于加熱、紫外線固化等。與構(gòu)成其它數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置一樣，該方法中的其它步驟可包括例如將堆疊膜結(jié)構(gòu)粘附至一個(gè)或更多個(gè)襯底層，將裝置切割成預(yù)定尺寸和形狀，和/或施加如本文中討論的各種涂層。
[0104]在另一個(gè)實(shí)施例中，在微全息圖層10中使用的多個(gè)功能膜12可包括聚合物、非線性光染料、感光劑和能夠經(jīng)歷折射率變化的材料的任何合適的組合。各種類型的功能膜12和惰性層14可在描繪的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置100中使用。取決于特定微全息圖層10和隔膜20的結(jié)構(gòu)，不同微全息圖層10可具有不同折射率。例如，構(gòu)件30可構(gòu)成為使得頂部微全息圖層10 (例如，最接近讀寫裝置)具有最低折射率。下一個(gè)下面的微全息圖層10具有比頂部微全息圖層10高的折射率等。因此，構(gòu)件30的最低微全息圖層10可具有最高折射率。以該方式，當(dāng)從讀寫裝置移開時(shí)，穿過構(gòu)件30的反射變得逐漸更多。
[0105]雖然本文中示出和描述的實(shí)施例可用于微全息圖盤，但是其它光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置可使用本發(fā)明的方面而不背離本發(fā)明的范圍。例如，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置可為多光子存儲(chǔ)器，諸如2光子存儲(chǔ)器等。
[0106]此外，雖然本文中示出和描述的實(shí)施例可在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和取回的領(lǐng)域中使用，但是本發(fā)明的方面不被如此限制。構(gòu)件、并入所述構(gòu)件的裝置和制造方法可在其它【技術(shù)領(lǐng)域】中使用并且用于其它技術(shù)努力。
[0107]因此,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，一種構(gòu)件包括微全息圖層，其中，微全息圖層包括與多個(gè)功能膜層交錯(cuò)的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層，其中，多個(gè)功能膜層包括在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料。
[0108]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種制造方法包括:提供功能膜材料，其在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；提供對(duì)光呈惰性的材料；通過倍增模擠出功能膜材料和對(duì)光呈惰性的材料，由此形成微全息圖層；提供隔膜；以及粘附隔膜和微全息圖層，由此形成構(gòu)件。
[0109]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，一種制造方法包括:經(jīng)由輥對(duì)輥系統(tǒng)提供薄隔膜；將多個(gè)涂層施加至薄隔膜，其中，多個(gè)涂層包括:功能材料，其在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化；和惰性材料；使薄隔膜和多個(gè)涂層固化，由此形成微全息圖層。
[0110]雖然僅在本文中示出和/或描述本發(fā)明的某些特征，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將想到許多修改和變化。雖然討論單獨(dú)的實(shí)施例，但是本發(fā)明涵蓋所有這些實(shí)施例的所有組合。理解的是，所附權(quán)利要求意圖涵蓋落入在本發(fā)明的意圖內(nèi)的所有這種修改和變化。
【權(quán)利要求】
1.一種構(gòu)件,其包括: 微全息圖層，其中，所述微全息圖層包括與多個(gè)功能膜層交錯(cuò)的多個(gè)對(duì)光呈惰性的層，其中，所述多個(gè)功能膜層包括在被第一光束照射時(shí)經(jīng)歷其折射率的變化并在被第二光束照射時(shí)不經(jīng)歷其折射率的變化的材料。
2.—種構(gòu)件，其包括與權(quán)利要求1的微全息圖層交錯(cuò)的多個(gè)隔膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)件，其特征在于，所述多個(gè)隔膜對(duì)光呈惰性。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)件，其特征在于，所述多個(gè)隔膜具有從大約20x至大約IOOx的瑞利長度的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)件，其特征在于，第一隔膜具有與第二隔膜不同的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件，其特征在于，所述微全息圖層的周期限定為P，其中 P= λ /2η 此外，其中，λ是讀出光束的光波長，而η是微全息圖層中的所述多個(gè)對(duì)光呈惰性的層和功能膜層的有效折射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件，其特征在于，微全息圖層的厚度在從大約0.5μπι至大約10 μ m的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件，其特征在于，絕對(duì)指數(shù)變化在從大約0.001至大約0.05的范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)件，其特征在于，所述微全息圖層的反射率當(dāng)在記錄狀態(tài)期間利用高強(qiáng)度光照射時(shí)變化。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的構(gòu)件，其特征在于，微全息圖層的數(shù)量在從2至50的范圍內(nèi)。
【文檔編號(hào)】G11B7/24038GK103578493SQ201310327617
【公開日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月31日
【發(fā)明者】史曉蕾, E.P.博登, 陳國邦, P.W.洛琳, V.P.奧斯特羅弗霍夫, 趙日安 申請(qǐng)人:通用電氣公司