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光盤裝置的制作方法

文檔序號:6738372閱讀:196來源:國知局
專利名稱:光盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及ー種利用從來自激光器等光源的光束生成的近場光(near-fieldlight)再生光盤(包括再生專用以及記錄再生用等各種光盤)中的信息、或者在光盤上記錄信息的光盤裝置,尤其涉及對具有覆蓋層的光盤修正雜散光(stray light)的光盤裝置。
背景技術(shù)
以往,⑶、DVD或BD(Blu_ray光盤)等光盤廣泛用于影像信號以及音響信號的記錄以及再生。在對光盤記錄以及再生信息的光盤裝置中,讀出寫在光盤信息層中的信息的處理通過由利用拾光器而匯聚于信息層的微小光點掃描細微的軌道來進行。在此情況下,為了正確并且連續(xù)地讀出光盤中寫入的信息,使光點追蹤軌道的伺服技術(shù)是不可或缺的。 因此,在光盤裝置中,一般基于表不光點與光盤信息層的位置偏差的聚焦誤差信號(以下稱為FE信號)進行使光點追蹤信息層的聚焦控制。此外,還基于表示光點與軌道中心的位置偏差的追蹤誤差信號(以下稱為TE信號)進行使光點追蹤軌道的追蹤控制。另外,一般而言,即使在光盤的反射率發(fā)生變化、或者記錄或再生時光束照射功率發(fā)生變化的情況下,上述FE信號以及TE信號的檢測增益也能通過利用返回光的光量對FE信號以及TE信號進行標(biāo)準(zhǔn)化的AGC(Automatic Gain Control,自動增益控制)電路而保持恒定。其結(jié)果是,能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制以及追蹤控制。但是,在利用這種光盤裝置對具有覆蓋層以及多層信息層的光盤記錄或再生信息的情況下,會產(chǎn)生如下問題。例如,在具有覆蓋層以及多層信息層的光盤中,為了再生信息而將光束照射于指定信息層后,檢測出的光束的返回光中不僅包含來自指定信息層的反射光,還包含來自光盤表面以及其他信息層的反射光(其他層雜散光)。因此,檢測出的返回光的量是來自指定信息層的反射光與其他層雜散光的和,無法檢測出正確的返回光的量。此處,在光盤具有覆蓋層以及ー層信息層的情況下,其他層雜散光是來自覆蓋層表面(光盤表面)的反射光,來自覆蓋層表面的反射光的量取決于表面反射率以及覆蓋層厚度。即,表面反射率越大則反射光越大,覆蓋層厚度越小則反射光越大。其結(jié)果是,在AGC電路中,用于修正光盤的指定信息層內(nèi)的反射率變化的標(biāo)準(zhǔn)化、用于修正記錄或再生時的光束照射功率變化的標(biāo)準(zhǔn)化無法正確進行,得不到具有適當(dāng)?shù)臋z測增益的FE信號以及TE信號。因此,來自覆蓋層表面的反射光會造成聚焦控制以及追蹤控制的不穩(wěn)定,導(dǎo)致光盤裝置的記錄性能以及再生性能的降低。為了解決該問題,提出了一種拾光器,設(shè)置用于檢測其他層雜散光的專用檢測器,從返回光的檢測光量中減去其他層雜散光的檢測光量,并將其結(jié)果用于AGC電路,由此修正返回光的量,生成減少了其他層雜散光的影響的誤差信號的(例如參照專利文獻I)。另ー方面,近年來正在進行實現(xiàn)光盤的進ー步大容量化的方法以及裝置的開發(fā)。在光盤裝置中,信息的記錄密度取決于匯聚于記錄介質(zhì)的光點的大小。因此,光盤的大容量化能夠通過減小由拾光器照射的光點來實現(xiàn)。
該光點的大小與物鏡的數(shù)值孔徑成比例,與照射的光的波長成反比。因此,為了得到更小的光點,可以使所利用的光的波長更短,或者使物鏡的數(shù)值孔徑更大。但是,在迄今為止得到實用化的光學(xué)信息記錄再生裝置中,光盤與物鏡之間的間隔與光的波長相比相差很大,若物鏡的數(shù)值孔徑超過1,則從物鏡射出的光被透鏡出射面全反射,因此無法提高記錄密度。對此,作為利用數(shù)值孔徑超過I的物鏡的光記錄再生方法,開發(fā)了利用SIUSoIidImmersion Lens,固體浸沒透鏡)的近場光記錄再生方法。設(shè)介質(zhì)的折射率為n,光束在介質(zhì)中相對于光軸的最大角度為9,則數(shù)值孔徑NA用NA = n* sin0來定義。通常,若數(shù)值孔徑超過1,則角度0達到臨界角以上,因此該區(qū)域的光被物鏡的出射端面全反射。該全反射的光作為瞬逝光(evanescent light)從出射端面透出。近場光記錄再生方法能夠?qū)⒃撍彩殴鈴耐哥R傳播到光盤。為此,將物鏡的出射端面與光盤表面的間隔(空隙)維持為光束波長的1/4以下的距離、即比瞬逝光的衰減距離短的距離,從而使數(shù)值孔徑超過I的范圍的光從物鏡透過至光盤。
在使用這種SIL的光盤裝置中,以往,采用對在表面設(shè)置信息層的光盤記錄或再生信息的結(jié)構(gòu)。但是,從保護信息層的觀點出發(fā),較為理想的是,采用對如現(xiàn)有光盤那樣設(shè)置了覆蓋層的光盤記錄或再生信息的結(jié)構(gòu)。但是,在使用SIL的光盤裝置中對具有覆蓋層的光盤記錄或再生信息的情況下,會產(chǎn)生如下問題。圖17是表示在以往的光盤裝置中,近場的空隙(air gap)與表面反射光的大小(level)的關(guān)系的圖。在圖17中,橫軸Gap是空隙,縱軸Ref是反射率。此處,反射率表示表面反射光大小相對于射入物鏡的光束的光量的比例。如圖17所示,在光束的波長為405nm的情況下,在空隙為約IOOnm以下的區(qū)域,表
面反射率根據(jù)空隙急劇地發(fā)生變化,表面反射率最大達到約37 %。另ー方面,在現(xiàn)有的光盤裝置中,表面反射率為8%左右,與空隙無關(guān)而保持恒定。此外,在使用SIL的光盤裝置中,光盤的覆蓋層厚度需要為數(shù)ii m左右。另ー方面,在現(xiàn)有的光盤裝置中,具有最薄的覆蓋層的BD的覆蓋層厚度為lOOym。根據(jù)以上所述,在使用SIL的光盤裝置的情況下,與現(xiàn)有光盤裝置、也就是使用遠場光記錄再生方法的光盤裝置相比,表面雜散光(表面反射光)的影響増大。例如,在考慮了數(shù)值孔徑為I. 78、SIL以及覆蓋層的折射率n為2、覆蓋層厚度為I. 2 y m左右的光盤裝置的情況下,來自信息層的反射光與來自覆蓋層表面的雜散光的比例達到約2 I。因此,來自覆蓋層表面的雜散光的影響非常大。但是,關(guān)于這種使用SIL的光盤裝置的檢測表面雜散光的方法,在以往技術(shù)中并未公開。專利文獻I :日本專利公開公報特開2005-346882號

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問題,其目的在于提供能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制或追蹤控制的光盤裝置。本發(fā)明所涉及的光盤裝置包括光源,射出光束;聚光光學(xué)系統(tǒng),接近信息載體的表面配置,將由所述光源射出的光束生成的近場光聚光于所述信息載體;聚焦部,使所述光束聚焦于所述信息載體的指定的信息層;第一受光部,接收由所述聚光光學(xué)系統(tǒng)的出射端面反射的反射光;間隙控制部,基于來自所述第一受光部的信號,控制所述聚光光學(xué)系統(tǒng)與所述信息載體的表面之間的距離;第二受光部,用被分割為多個的受光區(qū)域接收來自所述指定的信息層的反射光;位置偏差檢測部,基于來自所述第二受光部的信號,檢測所述光束的焦點與記錄或再生所述指定的信息層中的信息的點的位置偏差;以及雜散光檢測部,基于來自所述第一受光部的信號,檢測來自所述位置偏差檢測部的信號中所包含的、作為來自所述信息載體表面的反射光的表面雜散光成分,其中,所述位置偏差檢測部具有基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正從所述位置偏差檢測部輸出的信號的雜散光修正部。根據(jù)該結(jié)構(gòu),光源射出光束。聚光光學(xué)系統(tǒng)接近信息載體的表面配置,將從由光源射出的光束生成的近場光聚光于信息載體。聚焦部使光束聚焦于信息載體的指定信息層。第一受光部接收由聚光光學(xué)系統(tǒng)的出射端面反射的反射光。間隙控制部基于來自第一受光部的信號,控制聚光光學(xué)系統(tǒng)與信息載體的表面之間的距離。第二受光部被分割為多個的受光區(qū)域接收來自指定的信息層的反射光。位置偏差檢測部基于來自第二受光部的信號, 檢測光束的焦點與記錄或再生指定的信息層中的信息的點的位置偏差。雜散光檢測部基于來自第一受光部的信號,檢測來自位置偏差檢測部的信號中所包含的、來自信息載體表面的反射光即表面雜散光成分。雜散光檢測部基于來自第一受光部的信號檢測表面雜散光成分。位置偏差檢測部的雜散光修正部基于由雜散光檢測部檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差檢測部輸出的信號。根據(jù)本發(fā)明,由于基于表面雜散光成分修正從位置偏差檢測部輸出的信號,利用修正后的信號控制光束的焦點與記錄或再生指定的信息層的信息的點的位置,因此,即使存在信息層的反射率變化、以及記錄或再生時的光束照射功率變化,檢測增益也能保持恒定,從而能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制或者追蹤控制。本發(fā)明的目的、特征以及優(yōu)點通過以下的詳細說明與附圖變得更加清楚。


圖I是表示本發(fā)明實施方式I的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖2是表示圖I中的拾光器的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖3是表示圖I中的運算部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖4是表示圖I中的雜散光檢測部以及雜散光修正部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖5是表示本發(fā)明實施方式I中的第二檢測器的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖6是表不本發(fā)明實施方式I中的、GE信號輸出與物鏡光學(xué)系統(tǒng)和光盤表面之間的空隙的關(guān)系的圖。圖7是表不本發(fā)明實施方式I中的、GE信號輸出與物鏡光學(xué)系統(tǒng)和光盤表面之間的空隙的關(guān)系以及表面反射光大小與空隙的關(guān)系的圖。圖8是表示本發(fā)明實施方式I的變形例的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖9是表示圖8中的雜散光檢測部以及雜散光修正部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖10是表示本發(fā)明實施方式2的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。
圖11是表示圖10中的拾光器的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖12是表示圖10中的運算部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖13是表示圖10中的雜散光檢測部以及雜散光修正部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖14是表示本發(fā)明實施方式2中的第一檢測器的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖15是表示本發(fā)明實施方式2的變形例的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖16是表示圖15中的雜散光檢測部以及雜散光修正部的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖17是表示以往的光盤裝置中近場中的空隙與表面反射光的大小的關(guān)系的圖。
具體實施例方式以下,參照

本發(fā)明的實施方式。此外,以下的實施方式是使本發(fā)明具體化 的一例,不具有限定本發(fā)明的技術(shù)范圍的性質(zhì)。(實施方式I)圖I是表示實施方式I的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖2是表示圖I中的拾光器100的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖3是表示圖I中的運算部116的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖4是表示圖I中的雜散光檢測部122以及雜散光修正部117的結(jié)構(gòu)的方框圖。如圖I所示,實施方式I的光盤裝置包括拾光器100、間隙控制部114、間隙驅(qū)動部115、位置偏差檢測部121、雜散光檢測部122、聚焦控制部119、以及聚焦驅(qū)動部120。位置偏差檢測部121包括運算部116、雜散光修正部117、以及AGC(Automatic Gain Control,自動增益控制)部118。如圖2所示,實施方式I中的拾光器100包括光源101、準(zhǔn)直透鏡102、分束器103、偏振分束器104、1/4波長板105、擴束器106、物鏡光學(xué)系統(tǒng)107、第一檢測透鏡109、第一檢測器110、第二檢測透鏡111、第二檢測器112、以及間隙制動器113。另外,物鏡光學(xué)系統(tǒng)107包括透鏡107a和SIL(Solid Immersion Lens,固體浸沒透鏡)107b。另外,如圖3所示,運算部116包括加法器116a、加法器116b、加法器116c、以及減法器116d。加法部131由加法器116a、加法器116b、以及加法器116c構(gòu)成。位置偏差信號生成部132由加法器116a、加法器116b、以及減法器116d構(gòu)成。另外,如圖4所示,雜散光檢測部122包括增益乘法部122a、偏置輸出部122b、以及加法器122c,雜散光修正部117包括減法器117a。光源101射出光束。物鏡光學(xué)系統(tǒng)107接近光盤108的表面配置,將從由光源101射出的光束生成的近場光聚光于光盤108。擴束器106使光束聚焦于光盤108的指定信息層。第一檢測器110接收由物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的出射端面反射的反射光。第二檢測器112用被分割為多個的受光區(qū)域接收來自光盤108的指定信息層的反射光。間隙控制部114基于來自第一檢測器110的信號,控制物鏡光學(xué)系統(tǒng)107與光盤108的表面之間的距離。位置偏差檢測部121基于來自第二檢測器112的信號,檢測光束的焦點與記錄或再生指定信息層中的信息的點的位置偏差。雜散光檢測部122基于來自第一檢測器110的信號,檢測來自位置偏差檢測部121的信號中所包含的、來自光盤108表面的反射光即表面雜散光成分。雜散光修正部117基于由雜散光檢測部122檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差檢測部121輸出的信號。運算部116對從第二檢測器112輸出的多個信號實施運算處理。加法部131將來自第二檢測器112的多個信號進行加法運算。位置偏差信號生成部132對來自第二檢測器112的多個信號進行運算,生成焦點方向位置偏差信號(聚焦誤差信號)或者軌道方向位置偏差信號(追蹤誤差信號)。AGC部118通過將來自位置偏差信號生成部132的焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號除以來自雜散光修正部117的信號,生成標(biāo)準(zhǔn)化信號。另外,雜散光修正部117基于由雜散光檢測部122檢測出的表面雜散光成分,修正來自加法部131的信號,并將修正后的信號向AGC部118輸出。此外,在本實施方式I中,物鏡光學(xué)系統(tǒng)107相當(dāng)于聚光光學(xué)系統(tǒng)的一例,擴束器106相當(dāng)于聚焦部的一例,第一檢測器110相當(dāng)于第一受光部的一例,間隙控制部114相當(dāng)于間隙控制部的一例,第二檢測器112相當(dāng)于第二受光部的一例,位置偏差檢測部121相當(dāng)于位置偏差檢測部的一例,雜散光檢測部122相當(dāng)于雜散光檢測部的一例,雜散光修正 部117相當(dāng)于雜散光修正部的一例,加法部131相當(dāng)于加法部的一例,位置偏差信號生成部132相當(dāng)于位置偏差信號生成部的一例,AGC部118相當(dāng)于標(biāo)準(zhǔn)化部的一例,光盤108相當(dāng)于信息載體的一例。對如上所述構(gòu)成的光盤裝置的動作進行說明。從光源101射出的直線偏振的光束射入準(zhǔn)直透鏡102,通過準(zhǔn)直透鏡102而成為平行光。通過準(zhǔn)直透鏡102而變?yōu)槠叫泄獾墓馐高^分束器103和偏振分束器104射入1/4波長板105。射入1/4波長板的直線偏振的光束被轉(zhuǎn)換為圓偏振的光束。由1/4波長板105轉(zhuǎn)換為圓偏振的光束射入擴束器106。射入擴束器106的光束成為平行光和少量的發(fā)射光或匯聚光。由擴束器106變?yōu)槠叫泄夂蜕倭康陌l(fā)射光或匯聚光的光束射入物鏡光學(xué)系統(tǒng)107。此處,物鏡光學(xué)系統(tǒng)107包括透鏡107a和SIL107b。通過使SIL107b的出射端面和與出射端面相對置的光盤108表面之間存在的空隙比作為短于光束波長的距離的瞬逝衰減長度短,進行基于瞬逝光的光傳播。因此,在射入物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的光束中,臨界角以下的光與通常一樣傳播到光盤108,臨界角以上的光作為瞬逝光傳播到光盤108。傳播到光盤108的光束透過光盤108的覆蓋層,匯聚于信息層。匯聚于光盤108的信息層的光束由信息層反射以及衍射,經(jīng)過物鏡光學(xué)系統(tǒng)107、擴束器106、以及1/4波長板105射入偏振分束器104。射入偏振分束器104的光束中,具有與從光源101射出的光束平行的偏振面的成分透過,具有與從光源101射出的光束垂直的偏振面的成分被反射。透過偏振分束器104的光束被分束器103反射,由第一檢測透鏡109轉(zhuǎn)換為匯聚光,并由第一檢測器110接收。第一檢測器110將接收到的光束轉(zhuǎn)換為電信號,生成表不SIL107b的出射端面與光盤108的表面的間隔的空隙的間隙信號(以下稱為GE信號),向間隙控制部114以及雜散光檢測部122輸出。間隙控制部114具備例如由基于數(shù)字信號處理器(以下稱為DSP)的數(shù)字濾波器構(gòu)成的相位補償電路以及低域補償電路,通過對輸入的GE信號實施相位補償處理以及低域補償處理,作為間隙驅(qū)動信號輸出到間隙驅(qū)動部115。間隙驅(qū)動部115對輸入的間隙驅(qū)動信號進行放大,并輸出到間隙致動器113。間隙致動器113根據(jù)間隙驅(qū)動信號使物鏡光學(xué)系統(tǒng)107移動。通過以上動作,利用GE信號實現(xiàn)間隙控制,使物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的SIL107b的出射端面與光盤108表面之間的空隙保持恒定。另ー方面,被偏振分束器104反射的光束在由第二檢測透鏡111轉(zhuǎn)換為匯聚光的同時被賦予球面像差,并由第二檢測器112接收。此處,圖5中示出第二檢測器112的俯視圖。圖5是表示本發(fā)明實施方式I中的第二檢測器112的結(jié)構(gòu)的俯視圖。在圖5中,紙面的上下方向是光盤108的徑向(以下稱為追蹤方向),紙面的左右方向是軌道長度方向。如圖5所示,第ニ檢測器112被四分割,具有四個受光區(qū)域112a、112b、112c、以及112d。受光區(qū)域112a、112b、112c、以及112d分別輸出信號SA、SB、SC、以及SD0第二檢測器112將接收到的光束轉(zhuǎn)換為電信號,將信號SA SD輸出到運算部116。運算部116的加法器116a通過將輸入的信號SA與輸入的信號SC相加,生成信號FEP, 并輸出到加法器116c以及減法器116d。運算部116的加法器116b通過將輸入的信號SB與輸入的信號SD相加,生成信號FEN,并輸出到加法器116c以及減法器116d。加法器116c將輸入的信號FEP與輸入的信號FEN相加,生成表示來自光盤108的返回光的量的聚焦相加信號(以下稱為FS信號),并輸出到雜散光修正部117。減法器116d通過從輸入的信號FEP中減去輸入的信號FEN,生成表不光盤108的信息層上的光點與信息層的位置關(guān)系的FE信號(聚焦誤差信號),并向AGC部118輸出。雜散光檢測部122的增益乘法部122a將指定的增益值乘以輸入的GE信號,并輸出到加法器122c。偏置輸出部122b將指定的偏置值輸出到加法器122c。加法器122c通過將輸入的來自增益乘法部122a的輸出信號與來自偏置輸出部122b的輸出信號相加,生成作為FS信號中包含的雜散光成分(表面雜散光成分)的雜散光信號,并輸出到雜散光修正部117的減法器117a。減法器117a通過從輸入的FS信號中減去輸入的雜散光信號,生成作為除去了雜散光成分的FS信號的修正FS信號,并輸出到AGC部118。AGC部118將輸入的FE信號除以輸入的修正FS信號,由此生成根據(jù)來自光盤108的信息層的光束的返回光的量對FE信號進行了標(biāo)準(zhǔn)化的FE_AGC信號,并輸出到聚焦控制部119。聚焦控制部119與間隙控制部114同樣,具備例如由基于DSP的數(shù)字濾波器構(gòu)成的相位補償電路以及低域補償電路,聚焦控制部119對輸入的FE_AGC信號實施相位補償處理以及低域補償處理,作為聚焦驅(qū)動信號輸出到聚焦驅(qū)動部120。聚焦驅(qū)動部120對輸入的聚焦驅(qū)動信號進行放大,并輸出到擴束器106。擴束器106根據(jù)聚焦驅(qū)動信號在光軸方向上移動。通過以上動作,根據(jù)利用除去了雜散光成分的修正FS信號被標(biāo)準(zhǔn)化的FE_AGC信號實現(xiàn)聚焦控制,使得光束的焦點正確地位于光盤108的信息層上。如上所述,本實施方式I的雜散光檢測部122基于來自第一檢測器110的信號(GE信號),檢測來自位置偏差檢測部121的信號(FS信號)中包含的雜散光成分。另外,本實施方式I的雜散光修正部117基于來自雜散光檢測部122的信號,通過從FS信號中除去雜散光成分修正FS信號。此外,本實施方式I的加法部131 (加法器116a、加法器116b以及加法器116c)將來自第二檢測器112的多個信號SA、SB、SC、SD相加。而且,本實施方式I的位置偏差檢測部121包括對來自第二檢測器112的多個信號SA、SB、SC、SD進行運算,生成焦點方向位置偏差信號(FE信號)或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部132。此外,在本實施方式I中,位置偏差信號生成部132生成焦點方向位置偏差信號(FE信號),但本發(fā)明并不特別限定于此,也可以生成軌道方向位置偏差信號(TE信號)。另外,本實施方式I的AGC部118通過將來自位置偏差信號生成部132的信號(FE信號)除以來自雜散光修正部117的信號(修正FS信號),生成標(biāo)準(zhǔn)化信號(FE_AGC信號)。另外,雜散光修正部117基于來自雜散光檢測部122的信號(雜散光成分),修正來自加法部131的信號(FS信號)。此處,說明本實施方式I中的雜散光成分的計算和FS信號的修正。首先,對GE信號進行說明。
圖6是表不本發(fā)明實施方式I中的、GE信號輸出與物鏡光學(xué)系統(tǒng)107和光盤108表面之間的空隙的關(guān)系的圖。在圖6中,橫軸Gap為物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的SIL107b的光出射端面與光盤108表面之間的空隙,縱軸Ref為反射率。此處,反射率表示GE信號輸出大小(level)相對于射入物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的光束的光量的比例。GE信號是通過檢測由物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的SIL107b的端面全反射的返回光的量,檢測SIL107b的端面與光盤108表面之間的空隙長度的信號。在SIL107b與光盤108表面的空隙充分大的情況下,成為遠場狀態(tài),以在SIL107b的端面全反射的角度入射的光被SIL107b的端面全反射。但是,若空隙達到光束波長的1/4左右以下而成為近場狀態(tài),則ー部分全反射的返回光成分通過與光盤108的近場結(jié)合而作為瞬逝光透過至光盤108側(cè),因此全反射的返回光的量減少。并且,若SIL107b的端面與光盤108的表面完全接觸、即空隙成為零,則在SIL107b端面全反射的返回光成分全部作為瞬逝光(evanescent light)透過至光盤108側(cè),因此全反射的返回光成分的量成為零。因此,空隙與全反射的返回光的量之間的關(guān)系為圖6所示的特性。接著,對作為雜散光成分的表面反射光進行說明。圖7是表不本發(fā)明實施方式I中的、GE信號輸出與物鏡光學(xué)系統(tǒng)107和光盤108表面之間的空隙的關(guān)系以及表面反射光大小(level)與空隙的關(guān)系的圖。在圖7中,橫軸Gap與圖6同樣為空隙,縱軸Ref為反射率。此處,反射率是GE信號輸出大小以及表面反射光大小相對于射入物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的光束光量的比例。另外,在圖7中,實線表示GE信號,虛線表不表面反射光。如圖7所示,表面反射光大小以及GE信號輸出大小隨著空隙從波長的1/4左右向0減少而減小,若物鏡光學(xué)系統(tǒng)107與光盤108表面接觸,則兩者均成為O。在本實施方式I中,利用表面反射光與GE信號在近場狀態(tài)下相對于空隙具有定性的大致相同的特性,基于GE信號計算表面反射光、即FS信號中所包含的雜散光成分。例如,在間隙控制的目標(biāo)空隙為25nm的情況下,目標(biāo)空隙附近的表面反射光與空隙的關(guān)系以及目標(biāo)空隙附近的GE信號輸出與空隙的關(guān)系如圖7所示分別能夠用一次函數(shù)f(Gap)以及一次函數(shù)g(Gap)近似。根據(jù)如上所述進行近似的一次函數(shù)f (Gap)以及一次函數(shù)g(Gap),能夠?qū)⒈砻娣瓷涔獗聿粸镚E信號的一次函數(shù)。因此,通過利用增益乘法部122a對GE信號乘以增益值,用加法器122c將乘法結(jié)果與來自偏置輸出部122b的偏置值相加,由此能夠計算表面反射光、即FS信號中所包含的雜散光成分。如上所述,本實施方式I的雜散光檢測部122可以將雜散光成分作為來自第一檢測器110的信號(GE信號)輸出的函數(shù)(例如一次函數(shù))來計算。即,雜散光檢測部122將來自第一檢測器HO的輸出信號輸入至指定的函數(shù),由此計算表面雜散光成分。指定的函數(shù)是將來自第一檢測器110的信號輸出近似為表面雜散光成分的一次函數(shù)。此處,在本實施方式I中,表面反射光與空隙的關(guān)系以及GE信號輸出與空隙的關(guān)系利用使用了設(shè)想的光學(xué)系統(tǒng)的參數(shù)的光學(xué)仿真結(jié)果進行計算。因此,増益乘法部122a的增益值和來自偏置輸出部122b的偏置值是根據(jù)光學(xué)仿真結(jié)果求出的固定值。另外,通過用減法器117a從FS信號中減去作為FS信號中所包含的雜散光成分的加法器122c的輸出,能夠從FS信號中除去雜散光成分,從而修正FS信號。如以上所說明的那樣,在本實施方式I中,利用第一檢測器110、增益乘法部122a、偏置輸出部122b、以及加法器122c,計算作為FS信號中所包含的雜散光成分的表面反射光 的大小,并利用減法器117a從FS信號中除去雜散光成分。因此,在使用SIL的光盤裝置中,在光盤108存在覆蓋層的情況下,通過從FS信號中除去雜散光成分來修正FS信號,能夠利用修正FS信號正確地對FE信號進行標(biāo)準(zhǔn)化,從而利用標(biāo)準(zhǔn)化后的FE信號(FE_AGC信號)進行聚焦控制。因此,即使存在信息層的反射率變化、以及記錄或再生時的光束照射功率變化,檢測增益也能保持恒定,能夠進行穩(wěn)定的聚焦控制,其結(jié)果是能夠?qū)崿F(xiàn)光盤裝置的記錄性能以及再生性能的提高。此外,在本實施方式I中,作為FS信號中所包含的雜散光成分的表面反射光大小用將GE信號近似為雜散光成分的一次函數(shù)來表示,但也可以用二次以上的函數(shù)表示。通過采用以上結(jié)構(gòu),能夠提高基于GE信號檢測FS信號中所包含的雜散光成分的檢測精度。此外,在本實施方式I中,基于GE信號計算作為FS信號中所包含的雜散光成分的表面反射光時的增益值以及偏置值采用基于光學(xué)仿真結(jié)果的固定值,但本發(fā)明并不特別限定于此。即,在本實施方式I的變形例中的光盤裝置中,也可以在光盤108的信息層上設(shè)置雜散光成分檢測用區(qū)域,利用光束通過雜散光成分檢測用區(qū)域時的FS信號以及GE信號,決定增益乘法部122a的増益值以及偏置輸出部122b的偏置值。以下,使用圖8以及圖9來說明本實施方式I的變形例中的光盤裝置的動作。圖8是表示本發(fā)明實施方式I的變形例中的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖9是表示圖8中的雜散光檢測部222以及雜散光修正部117的結(jié)構(gòu)的方框圖。在圖8以及圖9中,對與圖I 圖5的結(jié)構(gòu)要素相同的結(jié)構(gòu)要素標(biāo)注相同的符號,并省略說明。圖8所示的光盤裝置包括拾光器100、間隙控制部114、間隙驅(qū)動部115、位置偏差檢測部121、雜散光檢測部222、聚焦控制部119、聚焦驅(qū)動部120、以及微計算機201。位置偏差檢測部121包括運算部116、雜散光修正部117、以及AGC部118。另外,如圖9所示,雜散光檢測部222包括增益乘法部222a、偏置輸出部222b、以及加法器122c。雜散光修正部117包括減法器117a。光盤108的信息層具有不反射照射于信息層的光束的透過區(qū)域。該透過區(qū)域是在形成信息層時,通過在信息層的一部分設(shè)置不形成信息層的區(qū)域而生成的。微計算機201推定將來自第一檢測器110的GE信號輸出近似為表面雜散光成分的指定的函數(shù)。微計算機201設(shè)定多個作為間隙控制部114的控制目標(biāo)的間隙大小(level),基于在設(shè)定各間隙大小時光束通過透過區(qū)域時所得到的來自加法部131的信號大小和設(shè)定的各間隙大小,推定指定的函數(shù)。此外,在本實施方式I的變形例中,雜散光檢測部222相當(dāng)于雜散光檢測部的一例,微計算機201相當(dāng)于函數(shù)推定部的一例。對如上所述構(gòu)成的本實施方式I的變形例中的光盤裝置的動作進行說明。光盤108的信息層具有不反射照射到信息層上的光束的區(qū)域(雜散光成分檢測用區(qū)域)。第一檢測器110將接收到的光束轉(zhuǎn)換為電信號,生成GE信號,井向間隙控制部114、雜散光檢測部222、以及微計算機201輸出。運算部116中的加法器116c通過將輸入的信號FEP與輸入的信號FEN相加,生成FS信號,并輸出到雜散光修正部117以及微計算機 201。 微計算機201將作為間隙控制的控制目標(biāo)的目標(biāo)間隙值向間隙控制部114輸出,設(shè)定目標(biāo)間隙值。微計算機201將多個目標(biāo)間隙值作為控制目標(biāo),設(shè)定到間隙控制部114中。間隙控制部114使用設(shè)定的各目標(biāo)間隙值進行間隙控制。在以設(shè)定的各目標(biāo)間隙值進行間隙控制的狀態(tài)下,檢測FS信號大小與GE信號大小。微計算機201利用在以各目標(biāo)間隙值進行間隙控制的狀態(tài)下檢測出的各FS信號大小與各GE信號大小的關(guān)系,計算用于根據(jù)GE信號計算作為FS信號中所包含的雜散光成分的雜散光信號的增益值和偏置值。微計算機201將計算結(jié)果的増益值設(shè)定到增益乘法部222a中,并且將計算結(jié)果的偏置值設(shè)定到偏置輸出部222b中。通過以上動作,根據(jù)利用從FS信號中除去了雜散光成分的修正FS信號而被標(biāo)準(zhǔn)化的FE信號(FE_AGC信號)實現(xiàn)聚焦控制,使光束的焦點正確地位于光盤108的信息層上。此處,說明在本實施方式I的變形例的結(jié)構(gòu)中由微計算機201執(zhí)行的增益乘法部222a的增益值和偏置輸出部222b的偏置值的運算??紤]光點在光盤108信息層上的不反射光束的區(qū)域中進行聚焦控制的狀態(tài)。此時,由于來自信息層的返回光的量為0,因此檢測出的FS信號的信號大小是作為雜散光成分的表面反射光大小。因此,通過檢測此時的GE信號大小與FS信號大小,能夠取得將間隙控制目標(biāo)設(shè)定為某空隙長度時的GE信號大小與作為雜散光成分的表面反射光大小的關(guān)系。此處,在如本結(jié)構(gòu)這樣用GE信號的一次函數(shù)來表示作為FS信號中所包含的雜散光成分的雜散光信號的情況下,可以以如下方式?jīng)Q定該一次函數(shù)的增益值和偏置值。即,在光點在光盤108信息層上的不反射光束的區(qū)域中進行聚焦控制的狀態(tài)下,微計算機201設(shè)定作為間隙控制目標(biāo)的至少兩個目標(biāo)間隙值,檢測各目標(biāo)間隙值時的GE信號大小和FS信號大小。微計算機201根據(jù)在各目標(biāo)間隙值時檢測出的GE信號大小以及FS信號大小的結(jié)果,計算增益乘法部222a的增益值和偏置輸出部222b的偏置值。如上所述,本實施方式I的變形例的微計算機201可以設(shè)定多個作為間隙控制部114的控制目標(biāo)的間隙大小(目標(biāo)間隙值),基于在設(shè)定各間隙大小時光束通過雜散光成分檢測用區(qū)域時所得到的來自加法部131的信號(FS信號)大小和設(shè)定的各間隙大小(GE信號大小),推定指定的函數(shù)。通過采用以上結(jié)構(gòu),拾光器100所使用的部件的偏差、拾光器100的調(diào)整步驟的偏差、以及光盤108的覆蓋層所使用的材質(zhì)的偏差等用于決定FS信號中所包含的雜散光成分的光學(xué)參數(shù)即使相對于設(shè)計值發(fā)生變化,也能夠利用設(shè)置于光盤108的信息層的雜散光成分檢測用區(qū)域,由微計算機201計算用于雜散光成分運算的最適合的増益值以及偏置值,因而能夠精度較好地計算雜散光成分。此外,在本實施方式I中,通過利用由修正FS信號進行了標(biāo)準(zhǔn)化的FE-AGC信號,能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制,而對追蹤控制也能夠得到相同的效果。即,可以采用對來自第二檢測器112的輸出信號SA SD,利用推挽法生成TE (追蹤誤差)信號,利用由修正FS信號對生成的TE信號進行了標(biāo)準(zhǔn)化的TE_AGC信號實施追蹤控制的結(jié)構(gòu)。通過采用以上結(jié)構(gòu),在使用SIL的光盤裝置中,在光盤108存在覆蓋層的情況下,通過從FS信號中除去雜散光成分來修正FS信號,能夠利用修正FS信號正確地對TE信號進行標(biāo)準(zhǔn)化,從而利用標(biāo)準(zhǔn)化后的TE信號(TE_AGC信號)進行追蹤控制。因此,即使存在信息層的反射率變化、以及記錄或再生時的光束照射功率變化,檢測增益也能保持恒定,能夠進行穩(wěn)定的追蹤控制,其結(jié)果是能夠?qū)崿F(xiàn)光盤裝置的記錄性能以及再生性能的提高。
(實施方式2)圖10是表示本發(fā)明實施方式2的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖11是表示圖10中的拾光器200的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖12是表示圖10中的運算部123的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖13是表示圖10中的雜散光檢測部322以及雜散光修正部217的結(jié)構(gòu)的方框圖。此外,對與實施方式I相同的部分標(biāo)注相同的編號,并省略其說明。如圖10所示,實施方式2的光盤裝置包括拾光器200、間隙控制部114、間隙驅(qū)動部115、位置偏差檢測部221、雜散光檢測部322、聚焦控制部119、聚焦驅(qū)動部120、以及運算部123。位置偏差檢測部221包括運算部216和雜散光修正部217。如圖11所示,實施方式2中的拾光器200包括光源101、準(zhǔn)直透鏡102、分束器103、偏振分束器104、1/4波長板105、擴束器106、物鏡光學(xué)系統(tǒng)107、第一檢測透鏡109、第一檢測器210、第二檢測透鏡111、第二檢測器112、以及間隙制動器113。另外,如圖12所示,運算部123包括加法器123a、加法器123b、加法器123c、以及減法器123d。另外,如圖13所示,雜散光檢測部322包括增益乘法部322a,雜散光修正部217包括減法器217a。第一檢測器210與第二檢測器112相同具有被分割為多個的受光區(qū)域。位置偏差檢測部221具有對來自第二檢測器112的多個信號進行運算,生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部132。運算部123對來自第一檢測器210的多個信號,進行與位置偏差信號生成部132相同的運算。雜散光檢測部322基于來自運算部123的信號檢測表面雜散光成分。雜散光修正部217基于由雜散光檢測部322檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差信號生成部132輸出的信號。運算部216包括位置偏差信號生成部132。如后所述,本實施方式2的位置偏差信號生成部132對來自第二檢測器112的多個信號進行運算,生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號。另外,如后所述,本實施方式2的運算部123對來自第一檢測器210的多個信號,進行與運算部116的位置偏差信號生成部132相同的運算。此外,在本實施方式2中,第一檢測器210相當(dāng)于第一受光部的一例,位置偏差信號生成部132相當(dāng)于位置偏差信號生成部的一例,運算部123相當(dāng)于運算部的一例,雜散光檢測部322相當(dāng)于雜散光檢測部的一例,雜散光修正部217相當(dāng)于雜散光修正部的一例。對如上所述構(gòu)成的光盤裝置的動作進行說明。透過偏振分束器104的光束被分束器103反射,由第一檢測透鏡109轉(zhuǎn)換為匯聚光,并由第一檢測器210接收。此處,圖14示出第一檢測器210的俯視圖。圖14是表示本發(fā)明實施方式2中的第一檢測器210的結(jié)構(gòu)的俯視圖。在圖14中,紙面的上下方向是光盤108的追蹤方向,紙 面的左右方向是軌道長度方向。如圖14所示,第一檢測器210與第二檢測器112同樣被四分割,具有四個受光區(qū)域210a、210b、210c、以及210d。即,本實施方式2的第一檢測器210與第二檢測器112相同具有被分割為多個的受光區(qū)域210a、210b、210c、以及210d。受光區(qū)域210a、210b、210c、以及210d分別輸出信號SGA、SGB、SGC、以及S⑶。第一檢測器210將接收到的光束轉(zhuǎn)換為電信號,將信號SGA S⑶輸出到運算部123。運算部123的加法器123a通過將輸入的信號SGA與輸入的信號SGC相加,生成信號GE_FEP,并輸出到加法器123c以及減法器123d。運算部123的加法器123b將輸入的信號SGB與輸入的信號S⑶相加,生成信號GE_FEN,并輸出到加法器123c以及減法器123d。加法器123c通過將輸入的信號GE_FEP與輸入的信號GE_FEN相加,生成GE信號,并輸出到間隙控制部114。減法器123d從輸入的信號GE_FEP中減去輸入的信號GE_FEN,由此生成進行了與FE信號相同運算的信號GE_FE,并向雜散光修正部217輸出。運算部216的減法器116d從輸入的信號FEP中減去輸入的信號FEN,由此生成FE信號,并向雜散光修正部117輸出。雜散光檢測部322的增益乘法部322a通過對輸入的信號GE_FE乘以指定的增益值,生成作為FS信號中包含的雜散光成分的雜散光信號,并輸出到雜散光修正部217的減法器217a。減法器217a從輸入的FE信號中減去輸入的雜散光信號,由此生成作為修正了雜散光成分的FE信號的修正FE信號,并輸出到聚焦控制部119。聚焦控制部119通過對輸入的修正FE信號實施相位補償處理以及低域補償處理,作為聚焦驅(qū)動信號而被輸出到聚焦驅(qū)動部120。通過以上動作,利用除去了雜散光成分的修正FE信號實現(xiàn)聚焦控制,使得光束的焦點正確地位于光盤108的信息層上。此處,說明本實施方式2中的雜散光成分的計算和FE信號的修正。首先,對FE信號中包含的雜散光成分進行說明。在物鏡光學(xué)系統(tǒng)107的SIL107b的端面相對于光盤108的表面發(fā)生傾斜的情況下,空隙長度根據(jù)SIL107b端面上的位置不同而異。根據(jù)圖7,作為第二檢測器112接收的返回光中包含的雜散光成分的表面反射光的光量根據(jù)空隙長度而發(fā)生變化。因此,由第二檢測器112檢測出的返回光的量中包含的表面反射光的量因受光區(qū)域而異。若作為雜散光成分的表面反射光的量因第二檢測器112的受光區(qū)域而異,則作為生成了 FE信號的結(jié)果,F(xiàn)E信號由于雜散光成分而產(chǎn)生偏置。接著,說明FE信號中包含的雜散光成分的計算和FE信號的修正。
根據(jù)圖7,作為第二檢測器112接收的返回光中包含的雜散光成分的表面反射光相對于空隙的特性與來自SIL107b端面的返回光的特性定性地大致一致。另外,由第一檢測器210檢測出的返回光的量與由實施方式I中的第一檢測器110檢測出的返回光的量相同。因此,用于生成GE信號的第一檢測器210檢測出的返回光的量因受光區(qū)域而異,由第一檢測器210檢測出的返回光的量的分布與由第二檢測器112檢測出的表面反射光的量的分布大致一致。S卩,對作為來自第一檢測器210的輸出信號的信號SGA S⑶進行與生成FE信號時相同的運算而得到的GE_FE信號與由于FE信號中包含的雜散光成分而產(chǎn)生的偏置相應(yīng)。另外,根據(jù)圖7,空隙為25nm附近時的第一檢測器210的表面反射光的量以及返回光的量分別能夠用一次函數(shù)f (Gap)以及一次函數(shù)g(Gap)近似。因此,若將間隙控制的目標(biāo)間隙值為25nm時光量f(25)與光量g(25)的比f (25)/g (25)設(shè)定為增益乘法部322a中相乘的增益值,則來自增益乘法部322a的輸出信號成為表示由FE信號中包含的雜散光成 分產(chǎn)生的偏置的信號。通過利用減法器217a從FE信號中減去表示由FE信號中包含的雜散光成分產(chǎn)生的偏置的信號,能夠除去由FE信號中包含的雜散光成分產(chǎn)生的偏置,從而修正FE信號。如上所述,在本實施方式2的光盤裝置中,基于來自運算部123的信號檢測雜散光成分。另外,雜散光修正部217基于來自雜散光檢測部322的信號,除去來自位置偏差信號生成部132的信號中包含的雜散光成分。此時,雜散光檢測部322可以將雜散光成分作為來自運算部123的信號輸出的函數(shù)(例如一次函數(shù))來計算。即,雜散光檢測部322通過將來自運算部123的信號輸出輸入指定的函數(shù),計算表面雜散光成分。指定的函數(shù)是將來自運算部123的信號輸出近似為表面雜散光成分的一次函數(shù)。如以上所說明的那樣,在本實施方式2中,利用第一檢測器210、運算部123、以及增益乘法部322a,計算作為FS信號中所包含的雜散光成分的表面反射光所產(chǎn)生的偏置,并利用減法器217a從FE信號中除去由雜散光成分產(chǎn)生的偏置。因此,在使用SIL的光盤裝置中,在光盤108存在覆蓋層的情況下,通過從FE信號中除去由雜散光成分產(chǎn)生的偏置來修正FE信號,能夠利用修正后的FE信號進行聚焦控制。因此,能夠精度較好地進行穩(wěn)定的聚焦控制,其結(jié)果是,能夠?qū)崿F(xiàn)光盤裝置的記錄性能以及再生性能的提聞。此外,在本實施方式2中,由FE信號中包含的雜散光成分產(chǎn)生的偏置用將GE_FE信號近似為雜散光成分的一次函數(shù)來表示,但也可以用二次以上的函數(shù)表示。通過采用以上結(jié)構(gòu),能夠提高基于GE_FE信號計算的、由FE信號中包含的雜散光成分產(chǎn)生的偏置的檢測精度。此外,在本實施方式2中,基于GE_FE信號計算由FE信號中包含的雜散光成分產(chǎn)生的偏置時的增益值采用基于光學(xué)仿真結(jié)果的固定值,但本發(fā)明并不特別限定于此。即,在本實施方式2的變形例的光盤裝置中,也可以利用表示再生記錄于光盤108中的信息時的再生信號質(zhì)量的指標(biāo),學(xué)習(xí)增益乘法部322a的増益值。以下,用圖15以及圖16來說明本實施方式2的變形例中的光盤裝置的動作。圖15是表示本發(fā)明實施方式2的變形例中的光盤裝置的結(jié)構(gòu)的方框圖。圖16是表示圖15中的雜散光檢測部422以及雜散光修正部217的結(jié)構(gòu)的方框圖。在圖15以及圖16中,對與圖10 圖14的結(jié)構(gòu)要素相同的結(jié)構(gòu)要素標(biāo)注相同的符號,并省略說明。圖15所示的光盤裝置包括拾光器200、間隙控制部114、間隙驅(qū)動部115、位置偏差檢測部321、雜散光檢測部422、聚焦控制部119、聚焦驅(qū)動部120、運算部123、調(diào)制度測定部124、以及微計算機201。位置偏差檢測部121包括運算部116和雜散光修正部217。另外,如圖16所示,雜散光檢測部422包括增益乘法部422a。雜散光修正部217包括減法器217a。調(diào)制度測定部124測定記錄于再生信息層中的信息的再生信號的信號質(zhì)量。微計算機201推定一次函數(shù)中對于來自運算部123的信號輸出的系數(shù)。微計算機201將作為系數(shù)候選的多個候選系數(shù)設(shè)定到雜散光檢測部422,基于設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時得到的來自調(diào)制度測定部124的測定結(jié)果的組合,計算最適合的系數(shù)。即,微計算機201例如用二次函數(shù)近似設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時得到的來自調(diào)制度測定部 124的信號質(zhì)量的多個組合,計算信號質(zhì)量達到極值的系數(shù)作為最優(yōu)系數(shù)。此外,在本實施方式2的變形例中,調(diào)制度測定部124相當(dāng)于再生信號質(zhì)量測定部的一例,位置偏差檢測部321相當(dāng)于位置偏差檢測部的一例,雜散光檢測部422相當(dāng)于雜散光檢測部的一例,微計算機201相當(dāng)于系數(shù)推定部的一例。對如上所述構(gòu)成的本實施方式2的變形例中的光盤裝置的動作進行說明。微計算機201設(shè)定雜散光檢測部422的增益乘法部422a的增益值。雜散光檢測部422的增益乘法部422a通過對輸入的GE_FE信號乘以由微計算機201設(shè)定的増益值,生成作為FE信號中包含的雜散光成分的雜散光信號,并輸出到雜散光修正部217的減法器217a。運算部116的加法器116c (參照圖3)通過將輸入的信號FEP與輸入的信號FEN相加,生成RF信號(再生信號),井向調(diào)制度測定部124輸出。調(diào)制度測定部124測定輸入的RF信號的調(diào)制度,將作為測定結(jié)果的調(diào)制度向微計算機201輸出。微計算機201設(shè)定多個增益乘法部422a的増益值,保持設(shè)定的各增益值與在設(shè)定各増益值狀態(tài)下得到的由調(diào)制度測定部124測定的調(diào)制度的組合。微計算機201從保持的増益值與調(diào)制度的組合中,計算調(diào)制度達到最大的最優(yōu)增益值。微計算機201例如用二次函數(shù)對保持的増益值與調(diào)制度的多個組合進行近似,計算調(diào)制度達到最大的増益值作為最優(yōu)增益值。微計算機201將計算出的最優(yōu)增益值設(shè)定為增益乘法部422a的增益值。通過以上動作,利用作為再生記錄于光盤108中的信息時的再生信號質(zhì)量指標(biāo)的調(diào)制度,能夠?qū)W習(xí)增益乘法部422a的最優(yōu)增益值。如上所述,本實施方式2的變形例的光盤裝置包括基于來自加法部131 (加法器116a、加法器116b、以及加法器116c)的信號(RF信號),測定再生記錄于信息層中的信息時的信號質(zhì)量(例如調(diào)制度)的再生信號質(zhì)量測定部(調(diào)制度測定部124)。另外,本實施方式2的變形例的光盤裝置包括推定一次函數(shù)中來自運算部123的信號輸出的系數(shù)(増益乘法部422a的增益值)的系數(shù)推定部(微計算機201)。此時,系數(shù)推定部(微計算機201)將作為系數(shù)候選的多個候選系數(shù)設(shè)定到增益乘法部422a,基于設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時得到的來自再生信號質(zhì)量測定部(調(diào)制度測定部124)的測定結(jié)果的組合,計算最適合的系數(shù)(最優(yōu)增益值)。通過采用以上結(jié)構(gòu),拾光器200所使用的部件的偏差、拾光器200的調(diào)整步驟的偏差、以及光盤108的覆蓋層所使用的材質(zhì)的偏差等用于決定FE信號中所包含的雜散光成分的光學(xué)參數(shù)即使相對于設(shè)計值發(fā)生變化,也能夠利用作為再生記錄于光盤108的信息層中的信息時的信號質(zhì)量的調(diào)制度,由微計算機201計算用于雜散光成分運算的最適合的増益值,因而能夠精度較好地計算雜散光成分。此外,在本實施方式2的變形例中,采用作為再生信號質(zhì)量指標(biāo)使用RF信號的調(diào)制度的結(jié)構(gòu),但在微計算機201計算最優(yōu)增益值時,再生信號質(zhì)量指標(biāo)并不限定于調(diào)制度。此外,在本實施方式2以及本實施方式2的變形例中,將利用與生成FE信號時相同的運算得到的GE_FE信號用于FE信號的修正,由此能夠精度較好地實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制,而對追蹤控制也能得到相同的效果。 即,可以采用對來自第二檢測器112的輸出信號SA SD,利用推挽法生成TE信號,對來自第一檢測器210的輸出信號SGA SGD,利用與生成TE信號時相同的運算生成GE_TE信號,將生成的GE_TE信號作為TE信號中包含的雜散光成分用于TE信號的修正以生成修正TE信號,利用修正TE信號實施追蹤控制的結(jié)構(gòu)。通過采用以上結(jié)構(gòu),在使用SIL的光盤裝置中,在光盤108存在覆蓋層的情況下,通過從TE信號中除去由雜散光成分產(chǎn)生的偏置來修正TE信號,能夠利用修正TE信號進行追蹤控制。因此,能夠精度較好地進行穩(wěn)定的追蹤控制,其結(jié)果是,能夠?qū)崿F(xiàn)光盤裝置的記錄性能以及再生性能的提高。此外,在實施方式I以及2的光盤裝置中,可以利用從SIL射出的光在光盤108中
記錄及/或再生信息?;蛘?,上述實施方式I及2的光盤裝置可以適用于包括記錄再生部的記錄/再生裝置,該記錄再生部具備用于在光盤上記錄及/或再生信息的近場光產(chǎn)生元件。該近場光產(chǎn)生元件例如可以是整體比匯聚光的光點大,并且具有細長地形成的結(jié)構(gòu)的金屬板。金屬板例如是具有開于金屬板內(nèi)部的一部分處的微小孔和該孔的一部分變尖形成的突起部的形狀。作為金屬板的材料,較為理想的是,選擇與所使用的光束的波長相配合地與金屬板進行等離子共振的材料。金屬板的材料例如可以是金(Au)等。光束聚光于近場光產(chǎn)生元件后,通過等離子共振產(chǎn)生近場光。并且,將該近場光照射于光盤,由此能夠在光盤上記錄及/或再生信息。在這種包括具有近場光產(chǎn)生元件的記錄再生部,利用記錄再生部記錄及/或再生信息的記錄/再生裝置中,為了進行間隙控制、追蹤控制或者聚焦控制,可以另外使用上述實施方式I及2的光盤裝置。由此,能夠利用修正了雜散光的修正控制信號進行信息層上的光點的位置控制。因此,能夠提高控制的穩(wěn)定性,實現(xiàn)具有近場光產(chǎn)生元件的記錄再生部的記錄性能以及再生性能的提聞。此外,上述的具體實施方式
中主要包含具有以下結(jié)構(gòu)的發(fā)明。本發(fā)明所涉及的光盤裝置包括光源,射出光束;聚光光學(xué)系統(tǒng),接近信息載體的表面配置,將由所述光源射出的光束生成的近場光聚光于所述信息載體;聚焦部,使所述光束聚焦于所述信息載體的指定的信息層;第一受光部,接收由所述聚光光學(xué)系統(tǒng)的出射端面反射的反射光;間隙控制部,基于來自所述第一受光部的信號,控制所述聚光光學(xué)系統(tǒng)與所述信息載體的表面之間的距離;第ニ受光部,由被分割為多個的受光區(qū)域接收來自所述指定的信息層的反射光;位置偏差檢測部,基于來自所述第二受光部的信號,檢測所述光束的焦點與記錄或再生所述指定的信息層中的信息的點的位置偏差;以及雜散光檢測部,基于來自所述第一受光部的信號,檢測來自所述位置偏差檢測部的信號中所包含的、作為來自所述信息載體表面的反射光的表面雜散光成分,其中,所述位置偏差檢測部具有基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正從所述位置偏差檢測部輸出的信號的雜散光修正部。根據(jù)該結(jié)構(gòu),光源射出光束。聚光光學(xué)系統(tǒng)接近信息載體的表面配置,將從由光源射出的光束生成的近場光聚光于信息載體。聚焦部使光束聚焦于信息載體的指定信息層。第一受光部接收由聚光光學(xué)系統(tǒng)的出射端面反射的反射光。間隙控制部基于來自第一受光 部的信號控制聚光光學(xué)系統(tǒng)與信息載體的表面之間的距離。第二受光部用被分割為多個的受光區(qū)域接收來自指定的信息層的反射光。位置偏差檢測部基于來自第二受光部的信號,檢測光束的焦點與記錄或再生指定的信息層中的信息的點的位置偏差。雜散光檢測部基于來自第一受光部的信號,檢測來自位置偏差檢測部的信號中所包含的、來自信息載體表面的反射光即表面雜散光成分。雜散光檢測部基于來自第一受光部的信號檢測表面雜散光成分。位置偏差檢測部的雜散光修正部基于由雜散光檢測部檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差檢測部輸出的信號。因此,基于表面雜散光成分,從位置偏差檢測部輸出的信號得以修正,由于利用修正后的信號控制光束的焦點與記錄或再生指定的信息層中的信息的點的位置,因而即使存在信息層的反射率變化、以及記錄或再生時的光束照射功率變化,檢測增益也能保持恒定,能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制或者追蹤控制。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述位置偏差檢測部還具有將來自所述第二受光部的多個信號相加的加法部;對來自所述第二受光部的多個信號進行運算以生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部;通過將來自所述位置偏差信號生成部的焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號除以來自所述雜散光修正部的信號,生成標(biāo)準(zhǔn)化信號的以及標(biāo)準(zhǔn)化部,所述雜散光修正部基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正來自所述加法部的信號,并將修正后的信號向所述標(biāo)準(zhǔn)化部輸出。根據(jù)該結(jié)構(gòu),加法部將來自第二受光部的多個信號相加。位置偏差信號生成部對來自第二受光部的多個信號進行運算,以生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號。標(biāo)準(zhǔn)化部通過將來自位置偏差信號生成部的焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號除以來自雜散光修正部的信號,生成標(biāo)準(zhǔn)化信號。雜散光修正部基于由雜散光檢測部檢測出的表面雜散光成分修正來自加法部的信號,并將修正后的信號向標(biāo)準(zhǔn)化部輸出。因此,能夠基于由雜散光檢測部檢測出的表面雜散光成分,修正來自加法部的信號,通過將焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號除以修正后的信號,進行標(biāo)準(zhǔn)化而得到標(biāo)準(zhǔn)化信號,利用該標(biāo)準(zhǔn)化信號進行聚焦控制或者追蹤控制。
另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述雜散光檢測部通過將來自所述第一受光部的信號輸出輸入指定的函數(shù),計算所述表面雜散光成分。根據(jù)該結(jié)構(gòu),由于通過將來自第一受光部的信號輸出輸入指定的函數(shù),來計算表面雜散光成分,因而能夠容易地計算表面雜散光成分。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述指定的函數(shù)是將來自所述第一受光部的信號輸出近似為所述表面雜散光成分的一次函數(shù)。根據(jù)該結(jié)構(gòu),由于指定的函數(shù)是將來自第一受光部的信號輸出近似為表面雜散光成分的一次函數(shù),因而通過將來自第一受光部的信號輸出乘以指定的增益值,并且加上指定的偏置值,能夠容易地計算表面雜散光成分。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述信息載體的信息層具有不反射照射于信息層的光束的透過區(qū)域,所述光盤裝置還包括推定所述指定的函數(shù)的函數(shù)推定部,所述函數(shù)推定部設(shè)定多個作為所述間隙控制部的控制目標(biāo)的間隙大小,基于在設(shè)定各間隙大 小時光束通過所述透過區(qū)域時所得到的來自所述加法部的信號大小和所述設(shè)定的各間隙大小,推定所述指定的函數(shù)。根據(jù)該結(jié)構(gòu),信息載體的信息層具有不反射照射于信息層的光束的透過區(qū)域。函數(shù)推定部設(shè)定多個作為間隙控制部的控制目標(biāo)的間隙大小,基于在設(shè)定各間隙大小時光束通過透過區(qū)域時所得到的來自加法部的信號大小和設(shè)定的各間隙大小,推定指定的函數(shù)。因此,光盤裝置所使用的部件的偏差、光盤裝置的調(diào)整步驟的偏差、以及信息載體的覆蓋層所使用的材質(zhì)的偏差等,用于決定表面雜散光成分的光學(xué)參數(shù)即使相對于設(shè)計值發(fā)生變化,也能夠利用信息載體的信息層中設(shè)置的透過區(qū)域,推定用于計算表面雜散光成分的最適合的函數(shù),因而能夠精度較好地計算表面雜散光成分。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述第一受光部具有與所述第二受光部同樣被分割為多個的受光區(qū)域,所述位置偏差檢測部還具有對來自所述第二受光部的多個信號進行運算,以生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部,所述光盤裝置還包括對來自所述第一受光部的多個信號進行與所述位置偏差信號生成部相同的運算的運算部,所述雜散光檢測部基于來自所述運算部的信號檢測所述表面雜散光成分,所述雜散光修正部基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正從所述位置偏差信號生成部輸出的信號。根據(jù)該結(jié)構(gòu),第一受光部具有與第二受光部同樣被分割為多個的受光區(qū)域。位置偏差檢測部的位置偏差信號生成部對來自第二受光部的多個信號進行運算,以生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號。運算部對來自所述第一受光部的多個信號進行與位置偏差信號生成部相同的運算。雜散光檢測部基于來自運算部的信號檢測表面雜散光成分。雜散光修正部基于由雜散光檢測部檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差信號生成部輸出的信號。因此,由運算部對來自第一受光部的多個信號進行與位置偏差信號生成部相同的運算,基于來自運算部的信號檢測表面雜散光成分,基于檢測出的表面雜散光成分修正從位置偏差信號生成部輸出的信號,因而利用基于雜散光成分修正后的信號,控制光束的焦點與記錄或再生指定的信息層中的信息的點的位置,因此,即使存在信息層的反射率變化、以及記錄或再生時的光束照射功率變化,檢測增益也能保持恒定,能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制或者追蹤控制。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述雜散光檢測部通過將來自所述運算部的信號輸出輸入指定的函數(shù),計算所述表面雜散光成分。根據(jù)該結(jié)構(gòu),通過將來自運算部的信號輸出輸入指定的函數(shù),由此計算表面雜散光成分,因而能夠容易地計算表面雜散光成分。另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述指定的函數(shù)是將來自所述運算部的信號輸出近似為所述表面雜散光成分的一次函數(shù)。根據(jù)該結(jié)構(gòu),指定的函數(shù)是將來自運算部的信號輸出近似為表面雜散光成分的一次函數(shù),因而通過將來自運算部的信號輸出乘以指定的増益值,并且加上指定的偏置值,能夠容易地計算表面雜散光成分。
另外,在上述光盤裝置中,較為理想的是,所述光盤裝置還包括再生信號質(zhì)量測定部,測定再生紀(jì)錄于所述信息層的信息的再生信號的信號質(zhì)量;以及系數(shù)推定部,推定所述一次函數(shù)中對于來自所述運算部的信號輸出的系數(shù),其中,所述系數(shù)推定部將作為所述系數(shù)的候選的多個候選系數(shù)設(shè)定到所述雜散光檢測部,基于設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時所得到的來自所述再生信號質(zhì)量測定部的測定結(jié)果的組合,計算最適合的所述系數(shù)。根據(jù)該結(jié)構(gòu),再生信號質(zhì)量測定部測定再生信息層中記錄的信息的再生信號的信號質(zhì)量。系數(shù)推定部推定一次函數(shù)中對于來自運算部的信號輸出的系數(shù)。系數(shù)推定部將作為系數(shù)的候選的多個候選系數(shù)設(shè)定到雜散光檢測部,基于設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時得到的來自再生信號質(zhì)量測定部的測定結(jié)果的組合,計算最適合的系數(shù)。因此,光盤裝置所使用的部件的偏差、光盤裝置的調(diào)整步驟的偏差、以及信息載體的覆蓋層所使用的材質(zhì)的偏差等,用于決定表面雜散光成分的光學(xué)參數(shù)即使相對于設(shè)計值發(fā)生變化,也能夠利用再生信息載體的信息層中記錄的信息時再生信號的信號質(zhì)量的測定結(jié)果,推定用于計算表面雜散光成分的最適合的系數(shù),因而能夠精度較好地計算表面雜散光成分。此外,在用于實施發(fā)明的方式的項目中描述的具體實施方式
或?qū)嵤├皇菫榱嗣鞔_本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,不應(yīng)僅限定于這樣的具體例而狹義解釋,在本發(fā)明的精神和權(quán)利要求項的范圍內(nèi),能夠進行各種變更并實施。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明所涉及的光盤裝置、尤其是使用數(shù)值孔徑超過I的SIL對具有覆蓋層的光盤記錄或再生信息的光盤裝置,由于利用修正了雜散光的信號對聚焦誤差信號或者追蹤誤差信號正確地進行標(biāo)準(zhǔn)化,并利用標(biāo)準(zhǔn)化后的聚焦誤差信號或者追蹤誤差信號進行聚焦控制或者追蹤控制,因而具有穩(wěn)定的聚焦性能或者追蹤性能,對于大容量的光盤刻錄機或者計算機用存儲器裝置等是有用的。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置,其特征在于包括 光源,射出光束; 聚光光學(xué)系統(tǒng),接近信息載體的表面配置,將由所述光源射出的光束生成的近場光聚光于所述信息載體; 聚焦部,使所述光束聚焦于所述信息載體的指定的信息層; 第一受光部,接收由所述聚光光學(xué)系統(tǒng)的出射端面反射的反射光; 間隙控制部,基于來自所述第一受光部的信號,控制所述聚光光學(xué)系統(tǒng)與所述信息載體的表面之間的距離; 第二受光部,用被分割為多個的受光區(qū)域接收來自所述指定的信息層的反射光; 位置偏差檢測部,基于來自所述第二受光部的信號,檢測所述光束的焦點與記錄或再生所述指定的信息層中的信息的點的位置偏差;以及 雜散光檢測部,基于來自所述第一受光部的信號,檢測來自所述位置偏差檢測部的信號中所包含的、作為來自所述信息載體表面的反射光的表面雜散光成分,其中, 所述位置偏差檢測部,具有基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正從所述位置偏差檢測部輸出的信號的雜散光修正部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光盤裝置,其特征在干, 所述位置偏差檢測部還具有 將來自所述第二受光部的多個信號相加的加法部; 對來自所述第二受光部的多個信號進行運算以生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部;以及 通過將來自所述位置偏差信號生成部的焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號除以來自所述雜散光修正部的信號,生成標(biāo)準(zhǔn)化信號的標(biāo)準(zhǔn)化部,其中, 所述雜散光修正部,基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正來自所述加法部的信號,并將修正后的信號向所述標(biāo)準(zhǔn)化部輸出。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的光盤裝置,其特征在于所述雜散光檢測部,通過將來自所述第一受光部的信號輸出輸入指定的函數(shù),計算所述表面雜散光成分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光盤裝置,其特征在于所述指定的函數(shù),是將來自所述第一受光部的信號輸出近似為所述表面雜散光成分的一次函數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的光盤裝置,其特征在干 所述信息載體的信息層,具有不反射照射于信息層的光束的透過區(qū)域, 所述光盤裝置還包括推定所述指定的函數(shù)的函數(shù)推定部,其中, 所述函數(shù)推定部,設(shè)定多個作為所述間隙控制部的控制目標(biāo)的間隙大小,基于在設(shè)定各間隙大小時光束通過所述透過區(qū)域時所得到的來自所述加法部的信號大小和所述設(shè)定的各間隙大小,推定所述指定的函數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光盤裝置,其特征在于 所述第一受光部,具有與所述第二受光部同樣被分割為多個的受光區(qū)域, 所述位置偏差檢測部,還具有對來自所述第二受光部的多個信號進行運算,生成焦點方向位置偏差信號或者軌道方向位置偏差信號的位置偏差信號生成部, 所述光盤裝置還包括對來自所述第一受光部的多個信號進行與所述位置偏差信號生成部相同的運算的運算部, 所述雜散光檢測部,基于來自所述運算部的信號檢測所述表面雜散光成分, 所述雜散光修正部,基于由所述雜散光檢測部檢測出的所述表面雜散光成分,修正從所述位置偏差信號生成部輸出的信號。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤裝置,其特征在于所述雜散光檢測部,通過將來自所述運算部的信號輸出輸入指定的函數(shù),計算所述表面雜散光成分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光盤裝置,其特征在于所述指定的函數(shù),是將來自所述運算部的信號輸出近似為所述表面雜散光成分的一次函數(shù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光盤裝置,其特征在于,所述光盤裝置還包括 再生信號質(zhì)量測定部,測定再生記錄于所述信息層的信息的再生信號的信號質(zhì)量;以及 系數(shù)推定部,推定所述一次函數(shù)中對于來自所述運算部的信號輸出的系數(shù),其中, 所述系數(shù)推定部,將作為所述系數(shù)的候選的多個候選系數(shù)設(shè)定到所述雜散光檢測部,基于設(shè)定的各候選系數(shù)與設(shè)定各候選系數(shù)時所得到的來自所述再生信號質(zhì)量測定部的測定結(jié)果的組合,計算最適合的所述系數(shù)。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦控制或者追蹤控制的光盤裝置。第一檢測器(110)接收來自物鏡光學(xué)系統(tǒng)(107)的反射光,第二檢測器(112)接收來自指定的信息層的反射光,位置偏差檢測部(121)基于來自第二檢測器(112)的信號,檢測光束的焦點與記錄或再生指定的信息層中的信息的點的位置偏差,雜散光檢測部(122)基于來自第一檢測器(110)的信號,檢測來自位置偏差檢測部(121)的信號中所包含的來自光盤(108)表面的反射光即表面雜散光成分,雜散光修正部(117)基于檢測出的表面雜散光成分,修正從位置偏差檢測部(121)輸出的信號。
文檔編號G11B7/09GK102822893SQ20118001620
公開日2012年12月12日 申請日期2011年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月10日
發(fā)明者近藤健二, 藤畝健司, 山元猛晴 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
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