專利名稱：電子束描繪設(shè)備及其臺(tái)架機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種可在原版記錄盤等的原版盤制作過(guò)程中使用的電子 束光刻設(shè)備及其臺(tái)架機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在原版光盤的原版盤制作過(guò)程中，通過(guò)將抗蝕膜暴露于激光束而形
成凹坑和凹槽。在該原版盤制作過(guò)程中使用的激光束記錄儀(LBR)使用UV (紫外線)、深UV (遠(yuǎn)紫外線)等作為其光源，通過(guò)深UV可進(jìn)一步減小 射束直徑。激光束的曝光極限，也即光盤的記錄密度，由光的衍射極限 確定，該光的衍射極限由光波長(zhǎng)和物鏡的數(shù)值孔徑確定。近年來(lái)，為了 形成大小超過(guò)激光束的曝光極限的微小凹坑或凹槽以改善光盤的記錄密 度，已研究出在半導(dǎo)體加工中使用的電子束光刻方法。通過(guò)采用這樣的 電子束光刻方法，期望進(jìn)行離散軌道介質(zhì)、圖案化介質(zhì)等的原版盤制造， 該離散軌道介質(zhì)、圖案化介質(zhì)等有望作為髙密度硬盤以及藍(lán)光盤之類的 髙密度光盤的未來(lái)技術(shù)。
圖1表示在原版盤的制作中使用的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架型電子束光刻設(shè)備的構(gòu) 造。該旋轉(zhuǎn)臺(tái)架型電子束光刻設(shè)備包括X臺(tái)架100;安裝在X臺(tái)架100 上的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架101;以及電子光學(xué)透鏡筒103。原版盤200安裝在旋轉(zhuǎn)臺(tái) 架上的回轉(zhuǎn)臺(tái)104上，在驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)架101旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，X臺(tái)架100沿盤 的徑向(沿圖1中箭頭A的方向)運(yùn)動(dòng)，從而進(jìn)行電子束照射位置的定 位控制。如上所述，因?yàn)殡娮邮饪淘O(shè)備的臺(tái)架機(jī)構(gòu)由線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架(X 臺(tái)架)與旋轉(zhuǎn)臺(tái)架(8臺(tái)架)的組合構(gòu)成，因此該電子束光刻設(shè)備的臺(tái) 架機(jī)構(gòu)通常稱為X-9臺(tái)架。由于電子束光刻設(shè)備中使用的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架要求 納米級(jí)的定位精度，因此在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架中通常使用空氣靜壓電主軸(air spindle)。同時(shí)，由于電子束在空氣中具有顯著擴(kuò)散和衰減的特性，因此需要排空電子束的照射路徑，從而將整個(gè)臺(tái)架置于真空室105中。因 此，傳統(tǒng)上將容納在密封的真空容器中的空氣靜壓電主軸用作旋轉(zhuǎn)臺(tái)架， 向該空氣靜壓電主軸的旋轉(zhuǎn)軸施加利用磁性流體、差動(dòng)排氣等的真空軸 密封件。另外，為了消除設(shè)備中產(chǎn)生的振動(dòng)，而將整個(gè)設(shè)備安裝在免振 臺(tái)106上。
為了在真空室中操作空氣靜壓電主軸，需要將空氣軸承的高壓空氣、 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的電信號(hào)等從真空室的外部引入空氣靜壓電主軸以及將軸承中 使用的空氣排出真空室的某種措施。傳統(tǒng)上，將波紋管或柔性管之類的 柔性管道用作這樣的裝置。在此，由于旋轉(zhuǎn)臺(tái)架安裝在X臺(tái)架上，因此
與空氣靜壓電主軸連接的管道響應(yīng)于X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)而變形。所述管道在X 臺(tái)架運(yùn)動(dòng)期間的變形會(huì)阻礙x臺(tái)架的進(jìn)給操作，因此妨礙了高精度的定 位控制。日本應(yīng)用物理(Jpn. Appl. Phys) 40巻(2001)第1653至1660 頁(yè)(非專利文獻(xiàn)l)公開了一種布管方法，其中，從旋轉(zhuǎn)臺(tái)架上部一側(cè)引 到真空室的分隔壁的金屬柔性管107布置成如圖2所示轉(zhuǎn)到其一側(cè)的"U" 形。在該情況下，柔性管107通過(guò)如圖3所示的變形與X臺(tái)架的行程響 應(yīng)。在這樣的構(gòu)成情況下，需要支撐部件來(lái)支撐柔性管的重量，實(shí)際上 真空室的底部等承擔(dān)著這樣的角色。當(dāng)用顯微鏡來(lái)觀測(cè)實(shí)際運(yùn)動(dòng)時(shí)，在 管運(yùn)動(dòng)變形時(shí)，在支撐部件(真空室的底部等)與柔性管之間產(chǎn)生摩擦， 該摩擦造成摩擦阻力和微小振動(dòng)，導(dǎo)致X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)精度降低。另外， 由于軸承的高壓供氣管、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)饋線等一起穿過(guò)柔性管的內(nèi)部，因此 傳統(tǒng)上使用直徑較大的柔性管(內(nèi)徑為1英寸以上)。從而，X臺(tái)架上的 因其撓曲剛度的負(fù)載是使得X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)精度降低的一個(gè)原因。如果采 用完全不接觸的差動(dòng)排氣密封件來(lái)提高主軸馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)精度，則管的數(shù) 量會(huì)進(jìn)一步增多，這使得上述問(wèn)題更為嚴(yán)重。
同時(shí)，日本應(yīng)用物理43巻(2004)第5068至5073頁(yè)(非專利文獻(xiàn)2) 和日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_2003-287146號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)l)公開了一種沿X方向 配備有波紋管彈性件的設(shè)備。然而，波紋管的彈力與設(shè)置為防止波紋管 壓曲的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)的滑動(dòng)摩擦阻力使得X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)精度降低。發(fā)明內(nèi)容技術(shù)問(wèn)題
考慮到上述問(wèn)題提出本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供一種臺(tái)架機(jī)構(gòu)和配備該臺(tái)架機(jī)構(gòu)的電子束光刻設(shè)備，該臺(tái)架機(jī)構(gòu)能夠通過(guò)減小X臺(tái)架上由旋轉(zhuǎn)臺(tái)架布管產(chǎn)生的運(yùn)動(dòng)負(fù)載，從而更高精度地進(jìn)行定位控制。
解決問(wèn)題的方案
根據(jù)本發(fā)明，提供一種臺(tái)架機(jī)構(gòu)，該臺(tái)架機(jī)構(gòu)包括定位機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)架和線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架具有回轉(zhuǎn)臺(tái)，所述線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架線性運(yùn)動(dòng)以定位；真空室，該真空室容納所述定位機(jī)構(gòu)；以及至少一個(gè)柔性管道，該柔性管道使所述真空室的外部與所述定位機(jī)構(gòu)的內(nèi)部連通。所述真空室具有在所述定位機(jī)構(gòu)下側(cè)的下方延伸的下部空間，并且所述管道從所述定位機(jī)構(gòu)的表面穿過(guò)所述下部空間引到所述真空室的內(nèi)壁。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種電子束光刻設(shè)備，該電子束光刻設(shè)備包括定位機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)架和線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架具有回轉(zhuǎn)臺(tái)，所述線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架線性運(yùn)動(dòng)以定位；電子束照射裝置，該電子束照射裝置將電子束照射在安裝于所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架上的原版盤上，以形成記錄標(biāo)記；真空室，該真空室容納所述定位機(jī)構(gòu)；以及至少一個(gè)柔性管道，該柔性管道使所述真空室的外部與所述定位機(jī)構(gòu)的內(nèi)部連通。所述真空室具有在所述定位機(jī)構(gòu)下側(cè)的下方延伸的下部空間，并且所述管道從所述定位機(jī)構(gòu)的表面穿過(guò)所述下部空間引到所述真空室的內(nèi)壁。


圖1表示傳統(tǒng)的電子束光刻設(shè)備的構(gòu)造；
圖2表示傳統(tǒng)的電子束光刻設(shè)備中的布管方法；
圖3表示傳統(tǒng)的電子束光刻設(shè)備的管道的運(yùn)動(dòng)；
圖4表示本發(fā)明一實(shí)施方式中的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的構(gòu)造；
圖5表示作為本發(fā)明一實(shí)施方式的電子束光刻設(shè)備的構(gòu)造;圖6表示作為本發(fā)明一實(shí)施方式的電子束光刻設(shè)備的管道的運(yùn)動(dòng);圖7表示作為本發(fā)明一實(shí)施方式的電子束光刻設(shè)備的構(gòu)造；以及圖8表示作為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方式的電子束光刻設(shè)備的構(gòu)造。附圖標(biāo)記說(shuō)明1 旋轉(zhuǎn)臺(tái)架
5 回轉(zhuǎn)臺(tái)13殼體14真空分隔壁16-19柔性管25 饋線
30 電子光學(xué)透鏡筒40 X臺(tái)架50 真空室
50a上部區(qū)域(上部空間)50b下部區(qū)域(下部空間)Al-A5 引線Bl-B5 引線
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施方式。在下面引用的所有附圖中，相同的附圖標(biāo)記用于指代基本相同或等同的組成部分或部件。
圖4是利用作為本發(fā)明一實(shí)施方式的空氣靜壓電主軸的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的剖視圖。止推板3、 4和回轉(zhuǎn)臺(tái)5連接到旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的旋轉(zhuǎn)軸2，因此這些部件形成旋轉(zhuǎn)部分。軸頸軸承6和止推軸承7分別以微小間隙放置成面向旋轉(zhuǎn)軸2和止推板3、 4。當(dāng)將壓縮空氣供應(yīng)到軸承入口 8中時(shí)，壓縮空氣經(jīng)由供給通路9噴出形成軸頸軸承6和止推軸承7的部件的噴嘴形成部。旋轉(zhuǎn)軸2與止推板3、 4由該壓縮空氣以非接觸的方式支撐。在止推板4的下方，設(shè)置與旋轉(zhuǎn)軸2聯(lián)接的軸10以及以非接觸方式向該軸10供應(yīng)驅(qū)動(dòng)力的AC伺服馬達(dá)11。通過(guò)使靠近所述軸設(shè)置的多個(gè)非接觸密封部20差動(dòng)排氣而防止空氣穿過(guò)密封件從旋轉(zhuǎn)軸泄露。這樣，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的旋轉(zhuǎn)部分以完全非接觸的方式相對(duì)于固定部分支撐，因此將與旋轉(zhuǎn)相關(guān)的摩擦阻力抑制得很小，而實(shí)現(xiàn)極高精度的旋轉(zhuǎn)控制。
在以上的空氣靜壓電主軸的組成部分中，除了回轉(zhuǎn)臺(tái)5以外的部分
以氣密方式容納在殼體13中。真空分隔壁14是以氣密方式分隔真空室的內(nèi)部和外部的壁，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1放置在真空分隔壁14的內(nèi)部，也即，放置在真空室內(nèi)的真空環(huán)境中。注意，真空分隔壁14外部和殼體13的內(nèi)部具有大氣壓力。
在真空分隔壁14上設(shè)置引線Al至A5，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的殼體13的底部上設(shè)置引線B1至B5。引線形成分隔壁內(nèi)外的管道或線的聯(lián)接，并且確保其氣密性，從而空氣不通過(guò)該聯(lián)接泄露到真空室中。借助這些引線進(jìn)行真空分隔壁14內(nèi)外的布管和布線。g卩，借助引線向空氣靜壓電主軸供應(yīng)壓縮空氣，從空氣靜壓電主軸排出空氣，以及向AC伺服馬達(dá)ll供應(yīng)驅(qū)動(dòng)電力。供氣管15連接在軸承入口 8與引線Bl之間。由不銹鋼之類的金屬制成的小直徑柔性管16 (例如外徑為1/2英寸以下)連接在引線B1與引線A1之間。通過(guò)這樣布管，在保持真空室中真空度的情況下，可將壓縮空氣從真空分隔壁14的外部供應(yīng)到空氣靜壓電主軸。另外，饋線25分別連接在AC伺服馬達(dá)11與引線B2之間以及引線B2與引線A2之間。通過(guò)這樣的布置，在保持真空室中真空度的情況下，將驅(qū)動(dòng)電力從真空分隔壁14的外部供應(yīng)到AC伺服馬達(dá)11。而且，在引線B3與引線A3之間連接小直徑柔性管17 (例如1/2英寸以下)。通過(guò)這樣的布置，供應(yīng)到真空軸承5、 6的一部分壓縮空氣經(jīng)由柔性管17排到真空分隔壁14的外部。并且，排氣管道23、 24分別連接在軸承出口21與引線B4之間以及軸承出口 22與引線B5之間，小直徑柔性管18、 19 (例如1/2英寸以下)分別連接在引線B4與引線A4之間以及引線B5與引線A5之間。通過(guò)這樣布管，已流進(jìn)非接觸密封部20中的空氣可差動(dòng)地排出真空分隔壁14外。
將設(shè)置在殼體13的底部上的引線Bl至B5以及設(shè)置在真空分隔壁14上的引線Al至A5連接的柔性管16至19和饋線25的每個(gè)均布置成在中間部分向下懸垂成基本為如圖4所示的"U"狀。這樣，在根據(jù)本發(fā)明的臺(tái)架機(jī)構(gòu)中，單獨(dú)設(shè)置用于將空氣供應(yīng)到空氣靜壓電主軸并從該空氣靜壓電主軸排出以及用于向該空氣靜壓電主軸饋送電力的管道和線，而不使用在傳統(tǒng)的設(shè)備中使用的波紋管或引導(dǎo)管之類的部件。
圖5表示設(shè)置有根據(jù)本發(fā)明的上述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的電子束光刻設(shè)備的
構(gòu)造。電子光學(xué)透鏡筒30包括電子槍31、聚光透鏡32、斷路電極33、光圈34、偏轉(zhuǎn)器35、聚焦透鏡36、物鏡37等。從電子槍31發(fā)射的電子通過(guò)聚光透鏡32會(huì)集到斷路電極的中心，以形成穿透點(diǎn)，然后穿過(guò)光圈34與偏轉(zhuǎn)器35，并通過(guò)物鏡37會(huì)集在記錄原版盤上。通過(guò)利用斷路電極偏轉(zhuǎn)電子束并利用光圈阻擋電子束來(lái)調(diào)制該電子束。
以氣密方式容納X臺(tái)架40和旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的真空室50設(shè)置有溝狀空間，該溝狀空間在X臺(tái)架40的底部下方伸展。包括X臺(tái)架40和回轉(zhuǎn)臺(tái)5的旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的上部部分容納在溝狀空間上方的空間50a中(下文稱為第一區(qū)域)。同時(shí)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的下部部分和用于向空氣靜壓電主軸供應(yīng)空氣并從該空氣靜壓電主軸排出空氣以及用于向該空氣靜壓電主軸饋送電力的管道放置在溝狀空間50b中(下文稱為第二區(qū)域)。如圖5所示，第二區(qū)域50b的寬度(沿圖5的橫向方向)可設(shè)置成比第一區(qū)域50a的寬度小，但大小至少確保X臺(tái)架40的運(yùn)動(dòng)行程。
X臺(tái)架包括沿圖中箭頭A的方向(X方向)延伸的進(jìn)給螺桿41;與進(jìn)給螺桿41的一端聯(lián)接的軸42;設(shè)置在真空室50外部以驅(qū)動(dòng)軸42旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)43;與進(jìn)給螺桿41配合的內(nèi)螺紋45;固定至內(nèi)螺紋45的臺(tái)架部分44;以及基部46，該基部46固定到第一區(qū)域50a的底部并與進(jìn)給螺桿41的另一端連接。當(dāng)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)43時(shí)，進(jìn)給螺桿41借助軸42在相同的位置旋轉(zhuǎn)，從而內(nèi)螺紋45與臺(tái)架部分44沿X方向運(yùn)動(dòng)。在臺(tái)架部分44中形成通孔，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1插入該通孔中。旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1在其凸緣80處固定至臺(tái)架40，并由該臺(tái)架40支撐，凸緣80形成為從旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的周向伸出。通過(guò)這樣的設(shè)置，當(dāng)X臺(tái)架40運(yùn)動(dòng)時(shí)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1可沿X方向運(yùn)動(dòng)。原版盤200安裝在位于旋轉(zhuǎn)臺(tái)架上的回轉(zhuǎn)臺(tái)5上，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架l旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，X臺(tái)架40沿盤的徑向(圖5中箭頭A的方向)運(yùn)動(dòng)，從而進(jìn)行電子束照射位置的定位控制。
旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1安裝成使得其穿過(guò)X臺(tái)架40的下部部分位于第二區(qū)域
50b中。因此，附接到旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的殼體底部的柔性管16至19與饋線 25布置在第二區(qū)域中。如上所述的引線Al至A5設(shè)置在第二區(qū)域50b的 側(cè)壁上，并且在這些引線Al至A5與設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的殼體底部上的引 線Bl至B5之間，柔性管16至19以及饋線25連接形成為基本"U"狀。 這些管道和線向下懸垂在半空中，因而在X臺(tái)架40運(yùn)動(dòng)期間不與真空 室內(nèi)部上的側(cè)部或底部接觸。
在使用免振臺(tái)去除設(shè)備中產(chǎn)生的振動(dòng)的情況下，在免振臺(tái)卯中形成 通孔，第二區(qū)域50b穿過(guò)該通孔，第一區(qū)域50a的底部安裝在免振臺(tái)90 上，從而確保穩(wěn)定性。
將參照?qǐng)D6描述當(dāng)X臺(tái)架40沿X方向運(yùn)動(dòng)時(shí)柔性管16至19的運(yùn) 動(dòng)。如上所述，各柔性管向下懸垂在中間部分而在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的殼體底部 與真空室的第二區(qū)域50b內(nèi)的真空分隔壁14之間形成為"U"狀。在該 狀態(tài)下，當(dāng)X臺(tái)架40沿X方向運(yùn)動(dòng)時(shí)，旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1沿X方向運(yùn)動(dòng)。如 圖6所示，柔性管通過(guò)改變其曲率半徑而與X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)響應(yīng)。由于各 柔性管向下懸垂在半空中而使得在X臺(tái)架運(yùn)動(dòng)期間不與真空室的真空分 隔壁14接觸，因此消除了摩擦之類的非線性干擾。
對(duì)于柔性管的撓曲剛度，由于實(shí)際上需要考慮波紋的形狀，因此需 要復(fù)雜的計(jì)算，但是如果基于條件不變的假設(shè)進(jìn)行簡(jiǎn)單模擬，則可以當(dāng) 作圓形管道的撓曲剛度。也即，由于與截面二次矩成比例，因此撓曲剛 度與相同壁厚的圓形管道的內(nèi)徑的立方成比例。與此相比，在平行布置 相同內(nèi)徑的多個(gè)管道的情況下，截面二次矩與管道的數(shù)量成比例。因此， 不象傳統(tǒng)設(shè)備那樣使用使多個(gè)管道可從其延伸通過(guò)的大內(nèi)徑柔性管，根 據(jù)該實(shí)施方式，用于供應(yīng)空氣和排出空氣以及用于饋送電力的管道分別 設(shè)置成使得各管道為小內(nèi)徑，從而降低管道的撓曲剛度。通過(guò)這樣的設(shè) 置，可降低X臺(tái)架上的運(yùn)動(dòng)負(fù)載，實(shí)現(xiàn)高精度的定位控制。
根據(jù)管道的長(zhǎng)度和安裝間隔，在中間部分中向下懸垂成"U"狀的柔 性管可彼此接觸，這使得產(chǎn)生摩擦阻力，從而導(dǎo)致X臺(tái)架40的運(yùn)動(dòng)精度降低。為了防止這樣的情況，理想的是，如圖7所示，在合適的位置處 設(shè)置夾具91來(lái)夾持管，以使管彼此分開。而且，通過(guò)設(shè)置該夾具而期望 減小U形管道中產(chǎn)生的振動(dòng)。雖然通常用作真空金屬柔性管的不銹鋼制 柔性管單個(gè)的減振效果不好，但通過(guò)夾持多個(gè)柔性管來(lái)分散振動(dòng)能量， 從而可將共振抑制得較小。注意，期望用柔性編織物(編織線)等覆蓋 金屬柔性管來(lái)產(chǎn)生減振效果。另外，與引線連接的管道不限于金屬柔性 管，而可以是例如在真空中很少脫氣的樹脂制管。
雖然在以上的實(shí)施方式中，引線設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架1的殼體13的底 部上，但并不局限于此，引線B1至B5可以設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架的位于真空 室的第二區(qū)域50b中的側(cè)部的下部部分上，并且在引線B1至B5與設(shè)置 在真空分隔壁14上的引線Al至A5之間，柔性管16至19以及饋線25 可連接成在中間部分基本向下懸垂成"U"狀。而且在該情況下，各U 形管道布置成在X臺(tái)架40運(yùn)動(dòng)期間不接觸真空室50內(nèi)部上的側(cè)部或底 部。
從以上說(shuō)明清楚的是，在根據(jù)本發(fā)明的臺(tái)架機(jī)構(gòu)與電子束光刻設(shè)備 中，真空室具有在X臺(tái)架下方伸展的溝狀空間，并且連接在旋轉(zhuǎn)臺(tái)架與 真空分隔壁之間的管道和線布置在該空間中。這些管道和線布置成響應(yīng) 于X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)變形，而不接觸在該空間中真空室的內(nèi)壁，因此可大大 減小X臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)期間的摩擦阻力和振動(dòng)。因此，可更高精度地進(jìn)行原 版盤的定位控制，并因此可形成適于高密度記錄的微小凹坑。通過(guò)單獨(dú) 將小內(nèi)徑的柔性管相應(yīng)地設(shè)置為這些管道，可進(jìn)一步降低X臺(tái)架上的運(yùn) 動(dòng)負(fù)載。另外，由于該設(shè)備可被構(gòu)造成不具有在傳統(tǒng)設(shè)備中使用的波紋 管或引導(dǎo)管之類的部件，因此可實(shí)現(xiàn)低成本和高可靠性。
權(quán)利要求
1、一種臺(tái)架機(jī)構(gòu)，該臺(tái)架機(jī)構(gòu)包括定位機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)架和線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架具有回轉(zhuǎn)臺(tái)，所述線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架線性運(yùn)動(dòng)以定位；真空室，該真空室容納所述定位機(jī)構(gòu)；以及至少一個(gè)柔性管道，該柔性管道使所述真空室的外部與所述定位機(jī)構(gòu)的內(nèi)部連通，其中所述真空室具有在所述定位機(jī)構(gòu)下側(cè)的下方伸展的下部空間，并且所述管道從所述定位機(jī)構(gòu)的表面穿過(guò)所述下部空間引到所述真空室的內(nèi)壁。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的臺(tái)架機(jī)構(gòu)，其中，所述管道在所述中間部分中向下懸垂，而不接觸在所述下部空間中所述真空室的內(nèi)壁。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的臺(tái)架機(jī)構(gòu)，其中，所述管道的一端聯(lián) 接到所述定位機(jī)構(gòu)的下側(cè)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的臺(tái)架機(jī)構(gòu)，其中，所述管道 的一端與所述定位機(jī)構(gòu)的側(cè)表面聯(lián)接。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的臺(tái)架機(jī)構(gòu)，其中，該臺(tái)架機(jī) 構(gòu)具有多個(gè)所述管道，該臺(tái)架機(jī)構(gòu)還包括夾具，以彼此分開地夾持所述 管道。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的臺(tái)架機(jī)構(gòu)，其中， 所述線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架具有通孔，并且 所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架插入所述通孔中。
7、 一種電子束光刻設(shè)備，該電子束光刻設(shè)備包括定位機(jī)構(gòu)，該定 位機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)架以及線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架具有回轉(zhuǎn)臺(tái)，所 述線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架使所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架線性運(yùn)動(dòng)以定位；電子束照射裝置，該 電子束照射裝置將電子束照射在安裝于所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)架上的原版盤上，以 形成記錄標(biāo)記；真空室，該真空室容納所述定位機(jī)構(gòu)；以及至少一個(gè)柔 性管道，該柔性管道使所述真空室的外部與所述定位機(jī)構(gòu)的內(nèi)部連通， 其中-所述真空室具有在所述定位機(jī)構(gòu)下側(cè)的下方伸展的下部空間，并且 所述管道從所述定位機(jī)構(gòu)的表面穿過(guò)所述下部空間引到所述真空室 的內(nèi)壁。
全文摘要
包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)架和線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架的定位機(jī)構(gòu)容納在真空室中，管道從所述真空室的外部連接到所述定位機(jī)構(gòu)。在真空室中形成在所述定位機(jī)構(gòu)下方延伸的空間。將所述定位機(jī)構(gòu)與所述真空分隔壁彼此連接的所述管道布置成大致U形，使得所述管道可響應(yīng)于線性運(yùn)動(dòng)臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)變形，而不接觸在所述空間中真空室的內(nèi)壁。
文檔編號(hào)G11B7/26GK101641742SQ20078005236
公開日2010年2月3日 申請(qǐng)日期2007年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月28日
發(fā)明者北原弘昭 申請(qǐng)人:先鋒株式會(huì)社