專利名稱:模版及光信息儲存媒體的制造方法
技術領域:
本發(fā)明涉及一種模版及光信息儲存媒體的制造方法,尤其是一種具有改質層的模版及光信息儲存媒體的制造方法。
背景技術:
隨著信息與多媒體時代的來臨,電子產(chǎn)品對于儲存媒體的儲存密度及容量的需求也不斷地增加。傳統(tǒng)的儲存媒體,大致上可分為兩大類,分別是磁記錄媒體與光記錄媒體。目前市場上是以光記錄媒體占優(yōu)勢,其包含只讀型光盤(CD-ROM)、可寫一次型光盤(CD-R)、可重復讀寫型光盤(CD-RW)、只讀型數(shù)字激光視盤(DVD-ROM)、可寫一次型數(shù)字激光視盤(DVD-R)、可重復讀寫式數(shù)字激光視盤(DVD-RW,DVD+RW)、以及動態(tài)隨機存儲數(shù)字激光視盤(DVD-RAM)等等。
面對愈來愈龐大的影音信息量,提高光盤的資料容量,一直是產(chǎn)業(yè)界追求的目標。而DVD因為具有比CD更大的資料儲存容量,因此已于光儲存媒體市場上占有一定的比例。目前的DVD具有不同的外觀型式,從單面單層(single side single layer)、雙面單層(dual sidesingle layer)、單面雙層(single side dual layer)到雙面雙層(dual sidedual layer),它們的儲存容量范圍也從4.7GB到17GB不等。
若只有單面儲存資料而另一面為空白片(dummy),則其儲存容量約為4.7GB,即為單面單層的只讀型數(shù)字激光視盤,又稱為DVD-5;若在單面的盤片上儲存雙層的容量,因為要扣除黏合所占去的空間及連接兩層資料的指令,故實際所能儲存資料的容量較單面容量的兩倍少一些,即為單面雙層的只讀型數(shù)字激光視盤,又稱DVD-9,其儲存容量約為8.5GB。若結合雙面雙層的技術,則儲存容量可擴增為13.2GB,亦即DVD-14(單面單層加單面雙層),或是儲存容量擴增為17GB,亦即DVD-18(雙面雙層)。其中,在DVD光盤片市場上接受度較高的,為單面單層容量為DVD-5以及DVD-9兩種盤片,因此兩種規(guī)格的盤片在被存取時,均省去了”翻面”的麻煩,故較為消費者所喜愛。
具有8.5GB容量的單面雙層DVD-R,由于容量大,再加上可寫一次的結構,也愈來愈受到市場重視。如圖1所示,現(xiàn)有的單面雙層DVD-R盤片10,依序含有一第一基板11、一第一有機染料層12、一半反射層13、一間隔層14、一第二有機染料層15、一反射層16、一第二基板17、及一接合層19。
現(xiàn)有技術中,對于單面雙層DVD-R盤片10而言,2P制程(Photo-Polymerization Process)為常用的制造方法之一,以下便針對2P制程作一簡單介紹請參照圖2,其于一具有預刻溝槽(pre-grooved)的第一基板11上,依次形成第一有機染料層12、半反射層13、及光固膠層14’。接著,將一具有預刻溝槽的模版(master)18,壓合于光固膠層14’上,并經(jīng)過紫外光照射,以固化膠體,形成間隔層14。剝除模版18后,于形成溝槽的間隔層14上,再形成第二有機染料層15及反射層16。最后,將第二基板17涂布一接合膠19’后,與反射層16接合,再經(jīng)光固化后,形成一接合層19,即完成單面雙層DVD-R盤片10的制作。
然而,在模版18剝除時,由于模版18與間隔層14之間的黏著力強,需要施加較強的拉力來使間隔層14與模版18分離。但是,第一有機染料層12及半反射層13的接著力相對上較弱,無法承受強大的拉力。因此,進行剝除模版的步驟時,則易發(fā)生間隔層14破碎剝落(如圖2D虛線處所示)、或是導致第一有機染料層12及半反射層13與第一基板11分離的現(xiàn)象,影響了激光存取的行進路徑,進而造成盤片的良率偏低,增加了生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的不足與缺陷,提供一種模版及光信息儲存媒體的制造方法,以解決現(xiàn)有單面雙層DVD-R盤片剝除模版時,模版與間隔層的接著力太強問題,進而解決盤片制程良率偏低等問題。
本發(fā)明的一目的為提供一種模版,用于光信息儲存媒體的制造,模版具有一改質層,以使模版的表面張力或粗糙度變小。
本發(fā)明的另一目的為提供一種光信息儲存媒體的制造方法,尤其是利用一表面張力或粗糙度較小的模版,來制造單面雙層DVD-R的光信息儲存媒體的制造方法。
為達上述目的,依本發(fā)明的模版,用于一光信息儲存媒體的制造,模版包含一基板及一改質層。其中,基板具有復數(shù)預刻溝槽,改質層設置于基板上。
又,依本發(fā)明的光信息儲存媒體制造方法,其包含形成一第一記錄層于一第一基板之上;形成一第一反射層于第一記錄層之上;形成具有一改質層的一模版;涂布一光固膠層;壓合模版及第一基板;固化光固膠層,并剝除模版以形成一間隔層;形成一第二記錄層于間隔層上;形成一第二反射層于第二記錄層上;以及接合一第二基板于第二反射層上。
承上所述,本發(fā)明的模版及光信息儲存媒體的制造方法,模版具有一改質層。與現(xiàn)有技術相比,依本發(fā)明的模版及光信息儲存媒體的制造方法,由于改質層能降低模版的表面粗糙度及表面張力,進而降低間隔層與模版之間的黏著力。故于剝除模版時,所需的剝除力量較小,不易發(fā)生因為間隔層與模版之間的黏著力過大,而使得間隔層破碎剝落的問題;也不易發(fā)生第一有機染料層或是第一反射層因為剝除模版的力量過大,而與第一基板分離的現(xiàn)象。如此一來,即可提升產(chǎn)品的良率,進而也降低了生產(chǎn)成本。
圖1為現(xiàn)有單面雙層數(shù)字激光視盤的示意圖;圖2A~2F為現(xiàn)有的單面雙層數(shù)字激光視盤的2P制程的示意圖;圖3為本發(fā)明的光信息儲存媒體制造方法的流程圖;圖4為本發(fā)明的光信息儲存媒體制造方法的另一流程圖;圖5A~5G為本發(fā)明的光信息儲存媒體制造方法及模版的示意圖。
圖中符號說明10單面雙層DVD-R盤片11第一基板12第一有機染料層13半反射層14間隔層14’光固膠層15第二有機染料層16反射層17第二基板18模版19接合層19’接合膠20單面雙層DVD-R盤片21第一基板22第一記錄層
22第一反射層24間隔層24’光固膠層25第二記錄層26第二反射層27第二基板28接合層28’接合膠30模版31基板32改質層P1第一記錄積層形成程序P2間隔層形成程序P3第二記錄積層形成程序P4第二基板接合程序S10第一記錄層形成步驟S20第一反射層形成步驟S30改質層形成步驟S40光固膠形成步驟S50壓合固化步驟S60模版剝除步驟S70第二記錄層形成步驟S80第二反射層形成步驟S90接合膠形成步驟S100接合膠固化步驟L0第一記錄積層L1第二記錄積層具體實施方式
以下將參照相關附圖,說明依本發(fā)明較佳實施例的模版及光信息儲存媒體的制造方法。
本實施例中,本發(fā)明的光信息儲存媒體為可寫一次式的數(shù)字激光視盤(DVD-R),且以2P制程所形成的單面雙層DVD-R盤片20為例,以說明本發(fā)明光信息儲存媒體的制造方法的較佳實施例。
首先,請參照圖3至圖5,以說明依本發(fā)明較佳實施例的光信息儲存媒體的制造方法。
如圖3所示,本實施例中,光信息儲存媒體的制造方法包含一第一記錄積層形成程序(P1)、一間隔層形成程序(P2)、一第二記錄積層形成程序(P3)、以及一第二基板接合程序(P4)。
如圖4及圖5所示,第一記錄積層L0包含一第一記錄層22及一第一反射層23。于第一記錄積層形成程序(P1)中,包含一第一記錄層形成步驟(S10),將一第一記錄層形成于一第一基板之上,以及一第一反射層形成步驟(S20),將一第一反射層于第一記錄層之上。
其中,第一記錄層22的材質可為有機染料或是無機材料。本實施例中,第一記錄層22的材質為有機染料,并以旋轉涂布方式形成。而第一反射層23為一半反射層(semi-reflective layer),其材質為金屬或其合金,例如是銀/銀合金、以及鋁/鋁合金等等。而第一反射層23的形成方式,通常是利用濺鍍或蒸鍍方式來形成。
于間隔層形成程序(P2)中包含一改質層形成步驟(S30)、一光固膠形成步驟(S40)、一壓合固化步驟(S50)、以及一模版剝除步驟(S60)。
又,如圖4及圖5所示,改質層形成步驟(S30)于一基板31上,形成一改質層32。其中,模版30包含一基板31,基板31具有復數(shù)預刻溝槽(pre-grooved),基板31的材質選自聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、玻璃及鎳金屬其中之一。
改質層32可利用濺鍍方式形成,其材質選自于氮化硅(siliconnitride,SiNx)、氧化硅(silicon oxide,SiOx)、硫化鋅-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化鈦(Titanium oxide,TiOx)、碳化物(carbide)、鋁(aluminum,Al)、銅(copper,Cu)、銀(silver,Ag)、金(gold,Au)、鉑(platinum,Pt)金屬、鉆石薄膜(DLC)、金屬氮化物(metal nitride,AxN1-x)、金屬氧化物(metal oxide,AxO1-x)、碲(tellurium,Te)、鍺(germanium,Ge)、銻(stibium,Sb)合金列、銦(indium,In)、銀(silver,Ag)銻(Sb)、及碲(Te)合金其中之一。
另外,改質層32也可由電鍍方式形成,其材質選自于鋁(aluminum,Al)、銅(copper,Cu)、銀(silver,Ag)、金(gold,Au)及鉑(platinum,Pt)金屬其中之一。
改質層32的形成,能使模版30的表面粗糙度及表面張力變小,有利于下面的模版30剝除步驟。
接著,光固膠形成步驟(S40)是涂布以形成一光固膠層24’。而光固膠層24’可形成于具有改質層32的模版30上,也能形成于第一反射層23上。本實施例中,以光固膠層24’形成于第一反射層23上為例。
于壓合固化步驟(S50)中,壓合模版30及第一基板21。本實施例中,將模版30具有改質層32之側與第一基板21上的光固膠層24’壓合。壓合后,將光固膠層24’照射紫外光,以形成一間隔層24。
于模版剝除步驟(S60)中,施力將黏合于間隔層24上的模版30剝除。模版30剝除后,改質層32仍設置于基板31上,能重復使用。
請參照圖4,第二記錄積層L1包含一第二記錄層25及一第二反射層26。于第二記錄積層形成程序(P3)中,包含一第二記錄層形成步驟(S70)、以及一第二反射層形成步驟(S80)。
如圖4及圖5所示,第二記錄層形成步驟(S70)中,形成一第二記錄層25于間隔層24上,本實施例中,第二記錄層25的材質為有機染料,以旋轉涂布方式形成。
第二反射層形成步驟(S80),形成一第二反射層26于第二記錄層25上。而第二反射層26可為一半導體合金薄膜、導體合金薄膜、或金屬薄膜。
如圖4及圖5所示,最后,于第二基板接合程序(P4)中,包含一接合膠形成步驟(S90)、以及一接合膠固化步驟(S100)。
于接合膠形成步驟(S90)中,以旋轉涂布一接合膠28’于第二反射層26上。再將第二基板27接合于接合膠28’上,之后,進行一接合膠固化步驟(S100),將接合膠28’照射紫外光,以形成一接合層28,以將第二基板27接合于第二反射層26之上,即完成單面雙層DVD-R盤片20的制造。
接著,請參照圖5,以說明依本發(fā)明較佳實施例的模版。
如圖5所示,模版30用于一單面雙層DVD-R盤片20的制造,而模版30包含一基板31、及一改質層32。
其中,基板31具有復數(shù)預刻溝槽(pre-grooved),其材質選自于聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、玻璃、及鎳金屬其中之一。本實施中,基板31為聚碳酸酯。
改質層32設置于模版30上。改質層32可由濺鍍方式形成,其材質選自于氮化硅(silicon nitride,SiNx)、氧化硅(silicon oxide,SiOx)、硫化鋅-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化鈦(Titanium oxide,TiOx)、碳化物(carbide)、鋁(aluminum,Al)、銅(copper,Cu)、銀(silver,Ag)、金(gold,Au)、鉑(platinum,Pt)金屬、鉆石薄膜(DLC)、金屬氮化物(metal nitride,AxN1-x)、金屬氧化物(metal oxide,AxO1-x)、碲(tellurium,Te)、鍺(germanium,Ge)、銻(stibium,Sb)合金列、銦(indium,In)、銀(silver,Ag)銻(Sb)、及碲(Te)合金其中之一。
另外,改質層32也可由電鍍方式形成,其材質選自于鋁(aluminum,Al)、銅(copper,Cu)、銀(silver,Ag)、金(gold,Au)及鉑(platinum,Pt)金屬其中之一。
改質層32的形成,能使模版30的表面粗糙度及表面張力變小,有利于間隔層24形成后的模版30剝除。
綜上所述,本發(fā)明的模版及光信息儲存媒體的制造方法,模版具有一改質層。與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的模版及光信息儲存媒體的制造方法,改質層能降低模版的表面粗糙度及表面張力,進而降低間隔層與模版之間的黏著力。故于剝除模版時,所需的剝除力量較小,不易發(fā)生因為間隔層與模版之間的黏著力過大,而使得間隔層破碎剝落的問題;也不易發(fā)生第一有機染料層或是第一反射層因為剝除模版的力量過大,而與第一基板分離的現(xiàn)象。如此一來,即可提升產(chǎn)品的良率,進而也降低了生產(chǎn)成本。
以上所述僅為舉例性,而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇,而對其進行的等效修改或變更,均應包含于權利要求書的范圍中。
權利要求
1.一種模版,用于一光信息儲存媒體的制造,其特征在于,該模版包含一基板,其具有復數(shù)預刻溝槽;以及一改質層,其設置于該基板上。
2.如權利要求1所述的模版,其中,該光信息儲存媒體為寫一次型單面雙層數(shù)字激光視盤。
3.如權利要求1所述的模版,其中,該模版的材質選自聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、玻璃及鎳金屬其中之一。
4.如權利要求1所述的模版,其中,該改質層以濺鍍方式形成,該改質層的材質選自于氮化硅、氧化硅、硫化鋅-二氧化硅、氧化鈦、碳化物、鋁、銅、銀、金、鉑金屬、鉆石薄膜、金屬氮化物、金屬氧化物、碲、鍺、銻合金列、銦、銀、銻、及碲合金其中之一。
5.如權利要求1所述的模版,其中,該改質層以電鍍方式形成,該改質層的材質選自于鋁、銅、銀、金及鉑金屬其中之一。
6.一種光信息儲存媒體制造方法,其特征在于,包含形成一第一記錄層于一第一基板之上;形成一第一反射層于該第一記錄層之上;形成一具有一改質層的模版;涂布一光固膠層;壓合該模版及該第一基板;固化該光固膠層,并剝除該模版以形成一間隔層;形成一第二記錄層于該間隔層上;形成一第二反射層于該第二記錄層上;以及接合一第二基板于該第二反射層上。
7.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,更包含涂布一接合膠于該第二反射層上。
8.如權利要求7所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,更包含固化該接合膠,以形成一接合層。
9.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,該第一記錄層的材質為有機染料。
10.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,該第一反射層為一半反射層。
11.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,該改質層以濺鍍方式形成,該改質層的材質選自氮化硅、氧化硅、硫化鋅-二氧化硅、氧化鈦、碳化物、鋁、銅、銀、金、鉑、鉆石薄膜、金屬氮化物、金屬氧化物、碲、鍺、銻合金及銦、銀、銻、碲合金其中之一。
12.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,該改質層以電鍍方式形成,該改質層的材質選自鋁、銅、銀、金或鉑金屬其中之一。
13.如權利要求6所述的光信息儲存媒體制造方法,其中,該第二記錄層的材質為有機染料。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種模版,用于一光信息儲存媒體的制造,模版包含一基板及一改質層,其中,基板具有復數(shù)預刻溝槽;改質層設置于基板上。本發(fā)明亦揭露一種光信息儲存媒體的制造方法。
文檔編號G11B7/26GK1719528SQ200410069809
公開日2006年1月11日 申請日期2004年7月9日 優(yōu)先權日2004年7月9日
發(fā)明者薛裕倉, 賴昭平 申請人:精碟科技股份有限公司