一種全平面式指紋辨識之保護裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及指紋辨識保護蓋板技術(shù)領(lǐng)域，特別地，涉及一種全平面式指紋辨識之保護裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]公知的保護蓋板(Cover Lens)僅僅只是一個外觀件，至于指紋辨識功能的設(shè)計，則在保護蓋板上做搭接的設(shè)計。參見圖1，在保護蓋板I上必須挖空一個區(qū)域4，將指紋辨識的組件設(shè)置在此挖空的區(qū)域，并且該區(qū)域必須貫穿保護蓋板的厚度方向，即從保護蓋板的內(nèi)側(cè)面貫通到外側(cè)面。
[0003]此公知設(shè)計將造成保護蓋板無法全平面化，外觀設(shè)計不美觀，甚至由于指紋辨識組件設(shè)置于保護蓋板挖空區(qū)域，在保護蓋板和指紋辨識組件兩者之間存在有間隙，導(dǎo)致臟污殘留于間隙內(nèi)的不良效應(yīng)，并帶來液體由該間隙流入機體內(nèi)部，造成設(shè)備損壞的風(fēng)險。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型目的在于提供一種全平面式指紋辨識之保護裝置，以解決保護蓋板和指紋辨識組件之間存在縫隙的技術(shù)問題。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種全平面式指紋辨識之保護裝置，包括全平面式保護蓋板和指紋辨識組件，全平面式保護蓋板內(nèi)側(cè)面設(shè)置有一用于容納指紋辨識組件的凹槽，所述凹槽的深度范圍為0.1-1.0mm。
[0006]優(yōu)選的，所述凹槽的橫截面形狀為圓形、橢圓形或圓角矩形。
[0007]優(yōu)選的，所述凹槽延伸到保護蓋板內(nèi)側(cè)的上端或下端而形成端面和內(nèi)側(cè)面兩面開口的半通槽。
[0008]優(yōu)選的，所述凹槽不延伸到保護蓋板內(nèi)側(cè)的端面而形成內(nèi)側(cè)面單面開口的凹槽。
[0009]優(yōu)選的，所述凹槽的橫截面的大小為0.5_5cm。
[0010]優(yōu)選的，在所述保護蓋板的厚度方向上，在所述凹槽外側(cè)的保護蓋板部分為指紋辨識區(qū)，所述指紋辨識區(qū)的厚度為0.1-0.3_。
[0011]優(yōu)選的，所述凹槽設(shè)置在保護蓋板的非可視區(qū)域的內(nèi)側(cè)面。
[0012]優(yōu)選的，所述凹槽設(shè)置在保護蓋板的下部。
[0013]本實用新型將保護蓋板與指紋辨識組件做成一體化的設(shè)計，并且使保護蓋板表面形成全平面化的外觀，可具有以下有益效果:
[0014]a.保護蓋板維持為全平面化之整體外觀表面；
[0015]b.全平面化保護蓋板具有指紋辨識之功能；
[0016]c.相較于公知設(shè)計，本設(shè)計保護蓋板與指紋辨識組件之間無間隙存在，不會發(fā)生藏污納垢的問題；
[0017]d.本設(shè)計保護蓋板與指紋辨識組件之間無間隙存在，所以不會發(fā)生液體由間隙滲入，導(dǎo)致產(chǎn)品損壞的問題。
[0018]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外，本實用新型還有其它的目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖，對本實用新型作進一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0019]構(gòu)成本申請的一部分的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0020]圖1是公知設(shè)計的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2是本實用新型優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖3是圖2的A-B剖面示意圖；
[0023]圖4是本實用新型另一優(yōu)選實施例的A-B剖面示意圖；
[0024]其中，1、保護蓋板，2、可視區(qū)，3、非可視區(qū)，4、指紋辨識區(qū)，5、間隙，6、凹槽，7、指紋辨識組件。
【具體實施方式】
[0025]以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例進行詳細(xì)說明，但是本實用新型可以根據(jù)權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實施。
[0026]參見圖2和圖3，本實用新型公開了一種全平面式指紋辨識之保護裝置，包括全平面式的保護蓋板I和指紋辨識組件7，全平面式的保護蓋板I內(nèi)側(cè)面設(shè)置有一用于容納指紋辨識組件的凹槽6，所述凹槽6的深度范圍(H)可為0.1-1.0mm，根據(jù)指紋辨識組件7的規(guī)格進行選擇。全平面式的保護蓋板指保護蓋板表面為一光滑整體，指紋辨識組件7可選用業(yè)內(nèi)通用組件。
[0027]在所述保護蓋板的厚度方向上，所述凹槽外側(cè)的保護蓋板部分為指紋辨識區(qū)4，即凹槽未貫通的保護蓋板的外側(cè)面區(qū)域。指紋辨識區(qū)即是在使用指紋辨識功能時，手指指紋正對的區(qū)域；指紋辨識區(qū)4的厚度(D)范圍為0.1-0.3_。
[0028]所述凹槽6的橫截面形狀為圓形、橢圓形或圓角矩形，即為從保護蓋板外側(cè)正面所看到的形狀。或者，參見圖4，所述凹槽6可延伸到所述保護蓋板I內(nèi)側(cè)的上端或下端而形成端面和側(cè)面兩面開口的半通槽，即凹槽貫穿保護蓋板的側(cè)面，使得指紋辨識組件7的放置更為方便。
[0029]所述凹槽6的橫截面的大小可為0.5-5cm，與手指頭大小和使用時的擺放誤差之和相適應(yīng)。橫截面的大小指長度方向和/或?qū)挾确较?，都不影響本實施例的實現(xiàn)。
[0030]保護蓋板I可分為可視區(qū)2和非可視區(qū)3，可視區(qū)即為通電后會顯示出圖樣、文字等顯示屏內(nèi)容的區(qū)域，非可視區(qū)即不會顯示出任何通電后才出現(xiàn)的內(nèi)容，非可視區(qū)即使有圖樣，也是絲印所得的固定位置、固定內(nèi)容的刻印。因此，所述凹槽6應(yīng)設(shè)置在保護蓋板I的非可視區(qū)3的內(nèi)側(cè)面，不影響正常使用。
[0031]為方便使用，所述凹槽可優(yōu)選設(shè)置在保護蓋板的下部，即使用者手指較為便利放置的區(qū)域，如保護蓋板三分點以下的區(qū)域。
[0032]可以理解的是，本申請還提供了一種如上述的保護裝置的制備方法，包括步驟:
[0033]A、在保護蓋板內(nèi)側(cè)面設(shè)置凹槽，所述凹槽的深度范圍為0.1-1.0mm ；
[0034]B、將指紋辨識組件放置在所述凹槽內(nèi)，所述指紋辨識組件的辨識面朝向凹槽底面。
[0035]此保護蓋板使得使用者可通過表面無縫隙的蓋板進行指紋辨識，并保護了蓋板下的內(nèi)部機體，防塵防水。
[0036]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，包括全平面式保護蓋板和指紋辨識組件，所述全平面式保護蓋板內(nèi)側(cè)面設(shè)置有一用于容納指紋辨識組件的凹槽，所述凹槽的深度范圍為0.1-1.0mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽的橫截面形狀為圓形、橢圓形或圓角矩形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽延伸到保護蓋板內(nèi)側(cè)的上端或下端而形成端面和內(nèi)側(cè)面兩面開口的半通槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽為不延伸到保護蓋板內(nèi)側(cè)的端面而形成內(nèi)側(cè)面單面開口的凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽的橫截面的大小為0.5-5cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，在所述保護蓋板的厚度方向上，所述凹槽外側(cè)的保護蓋板部分為指紋辨識區(qū)，所述指紋辨識區(qū)的厚度為 0.1-0.3mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽設(shè)置在保護蓋板的非可視區(qū)域的內(nèi)側(cè)面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全平面式指紋辨識之保護裝置，其特征在于，所述凹槽設(shè)置在保護蓋板的下部。
【專利摘要】本實用新型提供了一種全平面式指紋辨識之保護裝置，包括全平面式保護蓋板和指紋辨識組件，保護蓋板內(nèi)側(cè)面設(shè)置有一用于容納指紋辨識組件的凹槽，所述凹槽的深度范圍為0.1-1.0mm。本實用新型將保護蓋板與指紋辨識組件做成一體化的設(shè)計，并且使保護蓋板表面形成全平面化的整體外觀，保護蓋板與指紋辨識組件之間無間隙存在，不會發(fā)生藏污納垢的問題，也不會發(fā)生液體由間隙滲入，導(dǎo)致產(chǎn)品損壞的問題。
【IPC分類】G06K9-00
【公開號】CN204270320
【申請?zhí)枴緾N201420812227
【發(fā)明人】周群飛, 饒橋兵, 郭建忠
【申請人】藍(lán)思科技（長沙）有限公司
【公開日】2015年4月15日
【申請日】2014年12月18日