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一種紋路識(shí)別顯示裝置的制造方法

文檔序號(hào):10656110閱讀:446來(lái)源:國(guó)知局
一種紋路識(shí)別顯示裝置的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種上述紋路識(shí)別顯示裝置,包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板,紋路承接板,位于陣列基板的至少部分像素區(qū)域中的感光單元,與各感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各感光單元面向紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,與各聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的感光單元之間的遮光部。這樣當(dāng)手指或手掌接觸紋路承接板時(shí),利用聚光透鏡使由手指或手掌反射回來(lái)且照射到聚光透鏡的光向主光軸方向會(huì)聚,但是由于有透光孔的設(shè)置,因此只有部分滿(mǎn)足特定條件的光才能照到感光單元上,從而實(shí)現(xiàn)各感光單元僅采集特定傳輸方向的光,因此無(wú)論感光單元與紋路承接板上表面的距離多遠(yuǎn),都可以降低光串?dāng)_。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種紋路識(shí)別顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤指一種紋路識(shí)別顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展,觸摸屏(Touch Screen Panel)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中。目前,觸摸屏按照工作原理可以分為:電阻式、電容式、紅外線(xiàn)式以及表面聲波式、電磁式、振波感應(yīng)式以及受抑全內(nèi)反射光學(xué)感應(yīng)式等。
[0003]而在觸摸屏基于安全性的個(gè)人驗(yàn)證系統(tǒng)中,使用指紋進(jìn)行識(shí)別的方法得到了廣泛的使用。目前,現(xiàn)有的指紋識(shí)別顯示裝置如圖1所示,主要包括顯示面板1,位于顯示面板I上的保護(hù)蓋板2;其中顯示面板I中具有呈矩陣排列的像素區(qū)域,每個(gè)像素區(qū)域中設(shè)置有有機(jī)電致發(fā)光像素單元01和感光單元02。但是在上述指紋識(shí)別顯示裝置中,如圖1所示,當(dāng)有手指按壓保護(hù)蓋板2時(shí),由于感光單元02與手指之間至少還設(shè)置有顯示面板I的封裝薄膜03、偏光片層04、透明光學(xué)膠層05和保護(hù)蓋板2,因此手指與感光單元02之間的距離較遠(yuǎn),而有機(jī)電致發(fā)光像素單元01發(fā)出的光經(jīng)過(guò)這些膜層后照射在手指上時(shí)會(huì)形成漫反射,且發(fā)散角相當(dāng)大,這就導(dǎo)致指紋同一位置處的光再經(jīng)過(guò)這些膜層后會(huì)照射到多個(gè)感光單元02上,從而發(fā)生光串?dāng)_,而現(xiàn)有指紋識(shí)別顯示裝置中,一般保護(hù)蓋板2都比較厚,因此光串?dāng)_問(wèn)題比較嚴(yán)重,從而嚴(yán)重影響了指紋識(shí)別顯示裝置的指紋識(shí)別能力。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種紋路識(shí)別顯示裝置,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在光串?dāng)_冋題。
[0005]因此,本發(fā)明實(shí)施例提供的一種紋路識(shí)別顯示裝置,包括:相對(duì)設(shè)置的陣列基板和紋路承接板;其中所述陣列基板的至少部分像素區(qū)域中設(shè)置有感光單元,所述紋路承接板位于所述感光單元背離所述陣列基板一側(cè);所述紋路識(shí)別顯示裝置還包括:
[0006]設(shè)置在至少部分所述像素區(qū)域中的感光單元;
[0007]與各所述感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各所述感光單元面向所述紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,所述聚光透鏡用于將由所述聚光透鏡面向所述紋路承接板一側(cè)入射的光經(jīng)所述聚光透鏡后向所述聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚;
[0008]與各所述聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各所述聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的所述感光單元之間的的遮光部,所述遮光部具有一個(gè)透光孔,且沿所述聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚的光至少部分穿過(guò)所述透光孔照射在對(duì)應(yīng)的所述感光單元上。
[0009]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述聚光透鏡為凸透
Ho
[0010]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述透光孔在所述陣列基板的正投影的形狀與所述凸透鏡在所述陣列基板的正投影的形狀相似,且所述透光孔的中心位于所述凸透鏡的主光軸上。
[0011]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,在沿所述凸透鏡的主光軸的任意截面中,所述透光孔在所述截面中的寬度d滿(mǎn)足:d多sl/f;
[0012]其中,s表示所述透光孔的中心與所述凸透鏡的焦點(diǎn)之間的距離,I表示在所述截面中所述凸透鏡的最大寬度,f表示所述凸透鏡的焦距。
[0013]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述透光孔的中心位于所述凸透鏡的焦點(diǎn)。
[0014]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,還包括:與各所述感光單元一一對(duì)應(yīng)連接的且位于所述像素區(qū)域中的控制開(kāi)關(guān)晶體管;用于向?qū)?yīng)的所述控制開(kāi)關(guān)晶體管加載識(shí)別掃描信號(hào)的識(shí)別掃描線(xiàn),以及用于通過(guò)對(duì)應(yīng)的所述控制開(kāi)關(guān)晶體管向所述感光單元加載負(fù)向偏壓或讀取所述感光單元的輸出電信號(hào)的識(shí)別輸出線(xiàn);其中,
[0015]各所述識(shí)別掃描線(xiàn)與各行所述感光單元一一對(duì)應(yīng),各所述識(shí)別輸出線(xiàn)與各列所述感光單元--對(duì)應(yīng);或,各所述識(shí)別掃描線(xiàn)與各列所述感光單元--對(duì)應(yīng),各所述識(shí)別輸出線(xiàn)與各行所述感光單元--對(duì)應(yīng)。
[0016]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,還包括位于各像素區(qū)域中的像素單元,其中所述像素單元包括像素電路和與所述像素電路電連接的有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu);其中所述像素電路中包括有至少一個(gè)像素開(kāi)關(guān)晶體管;
[0017]所述像素開(kāi)關(guān)晶體管與所述控制開(kāi)關(guān)晶體管結(jié)構(gòu)相同,且所述像素開(kāi)關(guān)晶體管與所述控制開(kāi)關(guān)晶體管中相同功能的部件同層設(shè)置。
[0018]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述感光單元為光敏二極管;
[0019]所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)位于所述像素開(kāi)關(guān)晶體管面向所述紋路承接板一側(cè);
[0020]所述光敏二極管位于所述控制開(kāi)關(guān)晶體管與所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)之間。
[0021]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述光敏二極管的一個(gè)電極與對(duì)應(yīng)的控制開(kāi)關(guān)晶體管連接;
[0022]所述紋路識(shí)別顯示裝置還包括:與各所述光敏二極管的另一個(gè)電極連接的參考信號(hào)線(xiàn)。
[0023]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)包括依次位于所述像素開(kāi)關(guān)晶體管上方的第一電極層、發(fā)光層和第二電極層;
[0024]所述聚光透鏡位于所述第二電極層與所述紋路承接板之間。
[0025]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述遮光部位于所述第一電極層與第二電極層之間,且所述遮光部在所述陣列基板的正投影與所述第一電極層在所述陣列基板的正投影不重疊。
[0026]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,所述遮光部與所述第一電極層位于同一層且相互獨(dú)立。
[0027]本發(fā)明有益效果如下:
[0028]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置,包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板,紋路承接板,位于陣列基板的至少部分像素區(qū)域中的感光單元,與各感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各感光單元面向紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,與各聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的感光單元之間的的遮光部。由于在每一感光單元與紋路承接板之間還設(shè)置有透光孔和聚光透鏡,這樣當(dāng)手指或手掌接觸紋路承接板時(shí),利用聚光透鏡使由手指或手掌反射回來(lái)且照射到聚光透鏡的光向主光軸方向會(huì)聚,但是由于有透光孔的設(shè)置,因此只有部分滿(mǎn)足特定條件的光才能照到感光單元上,從而實(shí)現(xiàn)各感光單元僅采集特定傳輸方向的光,因此無(wú)論感光單元與紋路承接板上表面的距離多遠(yuǎn),都可以降低光串?dāng)_。并且,聚光透鏡可以增加光強(qiáng)度,從而提高觸控的靈敏度。
【附圖說(shuō)明】
[0029]圖1為現(xiàn)有的指紋識(shí)別顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;;
[0030]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0031]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置在有手指觸控時(shí)的原理圖;
[0032]圖4a至圖4c分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置中遮光部與聚光透鏡之間的相對(duì)位置示意圖;
[0033]圖5本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置的俯視示意圖;
[0034]圖6a和圖6b分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0035]圖7a和圖7b分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的紋路識(shí)別顯示裝置的具體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0037]附圖中各部件的形狀和大小不反映真實(shí)比例,目的只是示意說(shuō)明本
【發(fā)明內(nèi)容】

[0038]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種紋路識(shí)別顯示裝置,如圖2所示,包括:相對(duì)設(shè)置的陣列基板10和紋路承接板20;其中陣列基板10的至少部分像素區(qū)域中設(shè)置有感光單元12,紋路承接板20位于感光單元12背離陣列基板10—側(cè);紋路識(shí)別顯示裝置還包括:
[0039]與各感光單元12—一對(duì)應(yīng)、且位于各感光單元12面向紋路承接板20—側(cè)的聚光透鏡13,該聚光透鏡13用于將由聚光透鏡13面向紋路承接板20—側(cè)入射的光經(jīng)聚光透鏡13后向聚光透鏡13的主光軸方向會(huì)聚;
[0040]與各聚光透鏡13—一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡13與對(duì)應(yīng)的感光單元12之間的的遮光部14,遮光部14具有一個(gè)透光孔,且沿對(duì)應(yīng)的聚光透鏡13的主光軸方向會(huì)聚的光至少部分穿過(guò)該透光孔照射在對(duì)應(yīng)的感光單元12上。
[0041]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置,包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板,紋路承接板,位于陣列基板的至少部分像素區(qū)域中的感光單元,與各感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各感光單元面向紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,與各聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的感光單元之間的的遮光部。與各聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的感光單元之間的的遮光部。由于在每一感光單元與紋路承接板之間還設(shè)置有透光孔和聚光透鏡,這樣當(dāng)手指或手掌接觸紋路承接板時(shí),利用聚光透鏡使由手指或手掌反射回來(lái)且照射到聚光透鏡的光向主光軸方向會(huì)聚,但是由于有透光孔的設(shè)置,因此只有部分滿(mǎn)足特定條件的光才能照到感光單元上,從而實(shí)現(xiàn)各感光單元僅采集特定傳輸方向的光,因此無(wú)論感光單元與紋路承接板上表面的距離多遠(yuǎn),都可以降低光串?dāng)_。并且,聚光透鏡可以增加光強(qiáng)度,從而提高觸控的靈敏度。
[0042]需要說(shuō)明的是,本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置,不僅可以適用于指紋采集、掌紋采集或指紋和掌紋同時(shí)采集,還可以適用與其它紋路的采集,在此不作限定。為了便于說(shuō)明,本發(fā)明實(shí)施例均是以紋路為指紋或掌紋為例進(jìn)行說(shuō)明的。
[0043]進(jìn)一步需要說(shuō)明的是,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,紋路承接板主要用于承接紋路。在具體實(shí)施時(shí),紋路承接板可選為透明基板,在此不作限定。在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,為了提高識(shí)別精度,在所有像素區(qū)域中均設(shè)置有感光單元。
[0044]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,各像素區(qū)域呈矩陣排列,在此不作限定。
[0045]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖3所示,聚光透鏡13為凸透鏡。由于凸透鏡可以使與主光軸平行的入射光會(huì)聚于主光軸的同一點(diǎn)上即凸透鏡的焦點(diǎn)O上,從而可以利用透光孔僅采集與主光軸平行的入射光,如圖3所示,這樣相當(dāng)于各感光單元12僅采集對(duì)應(yīng)的聚光透鏡13所覆蓋的區(qū)域內(nèi)、且平行主光軸的入射光,而滿(mǎn)足這些條件的光只能是位于聚光透鏡13所覆蓋的區(qū)域內(nèi)的指紋或掌紋所反射的光,從而不管感光單元12與紋路承接板20上表面的距離多遠(yuǎn),均不會(huì)產(chǎn)生光串?dāng)_。
[0046]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,透光孔在陣列基板的正投影的形狀與凸透鏡在陣列基板的正投影的形狀相似,且透光孔的中心位于凸透鏡的主光軸上。
[0047]需要說(shuō)明的是這里的形狀相似是指形狀相同、但是面積可以相等也可以不相等。例如透光孔在紋路承接板的正投影的形狀為圓形或正方形,那么凸透鏡在紋路承接板的正投影的形狀也為圓形或正方形,但是兩個(gè)圓形或兩個(gè)正方形的面積可以相等,也可以不相等。較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖4a至圖4c所示,在沿凸透鏡的主光軸的任意截面中,透光孔在截面中的寬度d滿(mǎn)足:d多sl/f;
[0048]其中,s表示透光孔的中心與凸透鏡的焦點(diǎn)之間的距離,I表示在截面中凸透鏡的最大寬度,f表示凸透鏡的焦距。這樣可以保證所有垂直入射凸透鏡的光線(xiàn)均可以通過(guò)透光孔。
[0049]在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖4a所示,遮光部14與凸透鏡的距離可以小于凸透鏡的焦距f;或者如圖4b所示,遮光部14與凸透鏡的距離也可以大于凸透鏡的焦距f;或者如圖4c所示,遮光部14與凸透鏡的距離也可以等于凸透鏡的焦距f,即凸透鏡的焦點(diǎn)O與透光孔的中心A重合,在此不作限定,可以根據(jù)實(shí)際情況確定遮光部14與凸透鏡之間的相對(duì)位置。但是從圖中可以看出,遮光部14距離凸透鏡的焦點(diǎn)O越遠(yuǎn),遮光部12上的透光孔的孔徑越大。
[0050]較佳地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,透光孔的中心位于凸透鏡的焦點(diǎn)。這樣可以使透光孔的孔徑最小,從而可以最大程度的避免會(huì)聚于主光軸上除了焦點(diǎn)之外的其它點(diǎn)上的光通過(guò)透光孔照射到感光單元上。
[0051]需要說(shuō)明的是,本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,焦點(diǎn)均是指位于凸透鏡面向感光單元一側(cè)的焦點(diǎn)。
[0052]在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,凸透鏡可以是雙凸結(jié)構(gòu),也可以是平凸結(jié)構(gòu),在此不作限定。
[0053]較佳地,為了便于制作,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,凸透鏡為平凸結(jié)構(gòu),且凸透鏡的平面面向遮光部一側(cè),凸透鏡的凸面面向紋路承接板一側(cè)。在具體實(shí)施時(shí),該凸透鏡可以采用壓印的方式形成。
[0054]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖5所示,還包括:與各感光單元12—一對(duì)應(yīng)連接的且位于像素區(qū)域中的控制開(kāi)關(guān)晶體管15;用于向?qū)?yīng)的控制開(kāi)關(guān)晶體管15加載識(shí)別掃描信號(hào)的識(shí)別掃描線(xiàn)16,以及用于通過(guò)對(duì)應(yīng)的控制開(kāi)關(guān)晶體管15向感光單元12加載負(fù)向偏壓或讀取感光單元12的輸出電信號(hào)的識(shí)別輸出線(xiàn)17;其中,
[0055]各識(shí)別掃描線(xiàn)16與各行感光單元12—一對(duì)應(yīng),各識(shí)別輸出線(xiàn)17與各列感光單元12對(duì)應(yīng);或,各識(shí)別掃描線(xiàn)16與各列感光單元12 對(duì)應(yīng),各識(shí)別輸出線(xiàn)17與各行感光單元12——對(duì)應(yīng)。
[0056]在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖2所示,還包括位于各像素區(qū)域中的像素單元11,如圖6a和圖6b所示,像素單元11包括像素電路和與像素電路電連接的有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)111;其中像素電路中包括有至少一個(gè)像素開(kāi)關(guān)晶體管112;像素開(kāi)關(guān)晶體管112與控制開(kāi)關(guān)晶體管15結(jié)構(gòu)相同,且像素開(kāi)關(guān)晶體管112與控制開(kāi)關(guān)晶體管15中相同功能的部件同層設(shè)置。這樣可以在制備像素開(kāi)關(guān)晶體管的同時(shí)制備控制開(kāi)關(guān)晶體管,從而不需要單獨(dú)增加制作控制開(kāi)關(guān)晶體管的工藝。
[0057]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖6a和圖6b所示,感光單元12為光敏二極管;
[0058]有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)111位于像素開(kāi)關(guān)晶體管112面向紋路承接板20—側(cè);
[0059]光敏二極管位于控制開(kāi)關(guān)晶體管15與有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)111之間。
[0060]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖5所示,光敏二極管的一個(gè)電極與對(duì)應(yīng)的控制開(kāi)關(guān)晶體管15連接;
[0061 ]紋路識(shí)別顯示裝置還包括:與各光敏二極管的另一個(gè)電極連接的參考信號(hào)線(xiàn)18。
[0062]在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置,開(kāi)關(guān)晶體管一般包括柵極、有源層、源極和漏極。
[0063]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖6a和圖6b所示,有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)111包括依次位于像素開(kāi)關(guān)晶體管112上方的第一電極層111a、發(fā)光層Illb和第二電極層Illc;
[0064]聚光透鏡13位于第二電極層11Ic與紋路承接板20之間。
[0065]在具體實(shí)施時(shí),本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,第一電極層可以為陰極層,第二電極層為陽(yáng)極層,當(dāng)然第一電極層也可以為陽(yáng)極層,第二電極層為陰極層,在此不作限定。
[0066]進(jìn)一步地,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖6a所示,遮光部14位于第一電極層Illa與第二電極層Illc之間,且遮光部14在陣列基板10的正投影與第一電極層Illa在陣列基板10的正投影不重疊。
[0067]或者,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖6b所示,遮光部14與第一電極層Illa位于同一層且相互獨(dú)立。
[0068]在具體實(shí)施時(shí),顯示裝置一般包括顯示面板,其中顯示面板包括陣列基板和對(duì)向基板,因此在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,紋路承接板可以是指現(xiàn)有顯示面板中的對(duì)向基板,當(dāng)然,紋路承接板也可以是現(xiàn)有顯示面板外側(cè)的保護(hù)蓋板,在此不作限定。
[0069]在具體實(shí)施時(shí),在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,可以采用像素單元作為感光單元的原始光源,即當(dāng)具有紋路的物體接觸紋路承接板時(shí),像素單元發(fā)出的光經(jīng)紋路承接板后照射在具有紋路的物體上并被該具有紋路的物體反射;而被具有紋路的物體所反射回來(lái)的光依次經(jīng)過(guò)紋路承接板和聚光透鏡后向聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚;最后沿聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚的光至少部分穿過(guò)透光孔后照射在對(duì)應(yīng)的感光單元上。
[0070]在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置與現(xiàn)有的紋路識(shí)別顯示裝置相比僅是多了設(shè)置在每個(gè)感光單元上方的遮光部和聚光透鏡,因此在具體實(shí)施時(shí),上述紋路識(shí)別顯示裝置種還設(shè)置有現(xiàn)有的紋路識(shí)別顯示裝置中的其它膜層,在此不作詳述。
[0071]下面通過(guò)兩個(gè)具體實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中遮光部和聚光透鏡的具體位置,但是不限于此,僅是為了舉例說(shuō)明。
[0072]實(shí)施例一、
[0073]在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖7a所示,包括:陣列基板10,依次位于陣列基板10上的柵極30,柵絕緣層31,有源層32,第一介質(zhì)層33,參考信號(hào)線(xiàn)18,第二介質(zhì)層34,同層設(shè)置的源極35和漏極36,第一絕緣層37,同層設(shè)置的識(shí)別輸出線(xiàn)17、第一連接部38和第二連接部39,感光單元12,第二絕緣層40,同層設(shè)置的第一電極層111a、第三連接部41和遮光部14,像素限定層42,發(fā)光層111b,第二電極層111c,封裝薄膜43,聚光透鏡13,偏光層44、透明光學(xué)膠層45,紋路承接板20 (即保護(hù)蓋板)。
[0074]其中,第一電極層Illa為陽(yáng)極層,第二電極層Illc為陰極層,第一電極層Illa與像素開(kāi)關(guān)晶體管112的漏極36相連,識(shí)別輸出線(xiàn)17與控制開(kāi)關(guān)晶體管15的源極35相連,感光單元12的一端通過(guò)第二連接部39與控制開(kāi)關(guān)晶體管15的漏極36相連,感光單元12的另一端通過(guò)第三連接部41以及第一連接部38與參考信號(hào)線(xiàn)18相連。
[0075]在具體實(shí)施時(shí),感光單元為光敏二極管,光敏二極管一般包括P電極、半導(dǎo)體層和N電極。
[0076]在具體實(shí)施時(shí),在光敏二極管與第三連接部之間還設(shè)置有透明導(dǎo)電層,在此不作限定。
[0077]以如圖7a所示的紋路識(shí)別顯示裝置為例,該紋路識(shí)別顯示裝置的制造方法包括以下步驟:(I)形成柵極30; (2)形成柵絕緣層31; (3)形成有源層32; (4)形成第一介質(zhì)層33;(5)形成參考信號(hào)線(xiàn)18; (6)形成第二介質(zhì)層34; (7)形成源極35和漏極36; (8)形成第一絕緣層37; (9)形成識(shí)別輸出線(xiàn)17、第一連接部38和第二連接部39; (10)形成感光單元12; (11)形成第二絕緣層40; (12)形成遮光部14; (13)形成第一電極層Illa和第三連接部41; (14)形成像素限定層42; (15)形成發(fā)光層Illb; (16)形成第二電極層Illc; (17)形成封裝薄膜43;(18)形成聚光透鏡13; (19)形成偏光層44; (20)形成透明光學(xué)膠層45; (21)形成紋路承接板
20 ο
[0078]實(shí)施例二、
[0079]在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置中,如圖7b所示,包括:陣列基板10,依次位于陣列基板10上的柵極30,柵絕緣層31,有源層32,第一介質(zhì)層33,參考信號(hào)線(xiàn)18,第二介質(zhì)層34,同層設(shè)置的源極35和漏極36,第一絕緣層37,同層設(shè)置的識(shí)別輸出線(xiàn)17、第一連接部38和第二連接部39,感光單元12,第二絕緣層40,同層設(shè)置的第一電極層11 Ia和第三連接部41,第一像素限定層42,遮光部14,第二像素限定層43,發(fā)光層111b,第二電極層111c,封裝薄膜44,聚光透鏡13,偏光層45、透明光學(xué)膠層46,紋路承接板20(即保護(hù)蓋板)。
[0080]其中,第一電極層Illa為陽(yáng)極層,第二電極層Illc為陰極層,第一電極層Illa與像素開(kāi)關(guān)晶體管112的漏極36相連,識(shí)別輸出線(xiàn)17與控制開(kāi)關(guān)晶體管15的源極35相連,感光單元12的一端通過(guò)第二連接部39與控制開(kāi)關(guān)晶體管15的漏極36相連,感光單元12的另一端通過(guò)第三連接部41以及第一連接部38與參考信號(hào)線(xiàn)18相連。
[0081]在具體實(shí)施時(shí),感光單元為光敏二極管,光敏二極管一般包括P電極、半導(dǎo)體層和N電極。
[0082]在具體實(shí)施時(shí),在光敏二極管與第三連接部之間還設(shè)置有透明導(dǎo)電層,在此不作限定。
[0083]以如圖7b所示的紋路識(shí)別顯示裝置為例,該紋路識(shí)別顯示裝置的制造方法包括以下步驟:(I)形成柵極30; (2)形成柵絕緣層31; (3)形成有源層32; (4)形成第一介質(zhì)層33;
(5)形成參考信號(hào)線(xiàn)18; (6)形成第二介質(zhì)層34; (7)形成源極35和漏極36; (8)形成第一絕緣層37; (9)形成識(shí)別輸出線(xiàn)17、第一連接部38和第二連接部39; (10)形成感光單元12; (11)形成第二絕緣層40; (12)形成第一電極層Illa和第三連接部41,(13)形成第一像素限定層42,
(14)遮光部14,(15)第二像素限定層43,(16)形成發(fā)光層Illb; (17)形成第二電極層Illc;
(18)形成封裝薄膜44; (19)形成聚光透鏡13; (20)形成偏光層45; (21)形成透明光學(xué)膠層46; (22)形成紋路承接板20。
[0084]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述紋路識(shí)別顯示裝置,包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板,紋路承接板,位于陣列基板的至少部分像素區(qū)域中的感光單元,與各感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各感光單元面向紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,與各聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的感光單元之間的的遮光部。由于在每一感光單元與紋路承接板之間還設(shè)置有透光孔和聚光透鏡,這樣當(dāng)手指或手掌接觸紋路承接板時(shí),利用聚光透鏡使由手指或手掌反射回來(lái)且照射到聚光透鏡的光向主光軸方向會(huì)聚,但是由于有透光孔的設(shè)置,因此只有部分滿(mǎn)足特定條件的光才能照到感光單元上,從而實(shí)現(xiàn)各感光單元僅采集特定傳輸方向的光,因此無(wú)論感光單元與紋路承接板上表面的距離多遠(yuǎn),都可以降低光串?dāng)_。并且,聚光透鏡可以增加光強(qiáng)度,從而提高觸控的靈敏度。
[0085]顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,包括:相對(duì)設(shè)置的陣列基板和紋路承接板;其中所述陣列基板的至少部分像素區(qū)域中設(shè)置有感光單元,所述紋路承接板位于所述感光單元背離所述陣列基板一側(cè);所述紋路識(shí)別顯示裝置還包括: 與各所述感光單元一一對(duì)應(yīng)、且位于各所述感光單元面向所述紋路承接板一側(cè)的聚光透鏡,所述聚光透鏡用于將由所述聚光透鏡面向所述紋路承接板一側(cè)入射的光經(jīng)所述聚光透鏡后向所述聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚; 與各所述聚光透鏡一一對(duì)應(yīng)、且位于各所述聚光透鏡與對(duì)應(yīng)的所述感光單元之間的的遮光部,所述遮光部具有一個(gè)透光孔,且沿對(duì)應(yīng)的所述聚光透鏡的主光軸方向會(huì)聚的光至少部分穿過(guò)所述透光孔照射在對(duì)應(yīng)的所述感光單元上。2.如權(quán)利要求1所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述聚光透鏡為凸透鏡。3.如權(quán)利要求2所述紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述透光孔在所述陣列基板的正投影的形狀與所述凸透鏡在所述陣列基板的正投影的形狀相似,且所述透光孔的中心位于所述凸透鏡的主光軸上。4.如權(quán)利要求3所述紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,在沿所述凸透鏡的主光軸的任意截面中,所述透光孔在所述截面中的寬度d滿(mǎn)足:d多sl/f; 其中,s表示所述透光孔的中心與所述凸透鏡的焦點(diǎn)之間的距離,I表示在所述截面中所述凸透鏡的最大寬度,f表示所述凸透鏡的焦距。5.如權(quán)利要求4所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述透光孔的中心位于所述凸透鏡的焦點(diǎn)。6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,還包括:與各所述感光單元一一對(duì)應(yīng)連接的且位于所述像素區(qū)域中的控制開(kāi)關(guān)晶體管;用于向?qū)?yīng)的所述控制開(kāi)關(guān)晶體管加載識(shí)別掃描信號(hào)的識(shí)別掃描線(xiàn),以及用于通過(guò)對(duì)應(yīng)的所述控制開(kāi)關(guān)晶體管向所述感光單元加載負(fù)向偏壓或讀取所述感光單元的輸出電信號(hào)的識(shí)別輸出線(xiàn);其中, 各所述識(shí)別掃描線(xiàn)與各行所述感光單元一一對(duì)應(yīng),各所述識(shí)別輸出線(xiàn)與各列所述感光單元--對(duì)應(yīng);或,各所述識(shí)別掃描線(xiàn)與各列所述感光單元--對(duì)應(yīng),各所述識(shí)別輸出線(xiàn)與各行所述感光單元--對(duì)應(yīng)。7.如權(quán)利要求6所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,還包括位于各像素區(qū)域中的像素單元,其中所述像素單元包括像素電路和與所述像素電路電連接的有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu);其中所述像素電路中包括有至少一個(gè)像素開(kāi)關(guān)晶體管; 所述像素開(kāi)關(guān)晶體管與所述控制開(kāi)關(guān)晶體管結(jié)構(gòu)相同,且所述像素開(kāi)關(guān)晶體管與所述控制開(kāi)關(guān)晶體管中相同功能的部件同層設(shè)置。8.如權(quán)利要求7所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述感光單元為光敏二極管; 所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)位于所述像素開(kāi)關(guān)晶體管面向所述紋路承接板一側(cè); 所述光敏二極管位于所述控制開(kāi)關(guān)晶體管與所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)之間。9.如權(quán)利要求8所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述光敏二極管的一個(gè)電極與對(duì)應(yīng)的控制開(kāi)關(guān)晶體管連接; 所述紋路識(shí)別顯示裝置還包括:與各所述光敏二極管的另一個(gè)電極連接的參考信號(hào)線(xiàn)。10.如權(quán)利要求9所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述有機(jī)電致發(fā)光結(jié)構(gòu)包括依次位于所述像素開(kāi)關(guān)晶體管上方的第一電極層、發(fā)光層和第二電極層; 所述聚光透鏡位于所述第二電極層與所述紋路承接板之間。11.如權(quán)利要求10所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述遮光部位于所述第一電極層與第二電極層之間,且所述遮光部在所述陣列基板的正投影與所述第一電極層在所述陣列基板的正投影不重疊。12.如權(quán)利要求10所述的紋路識(shí)別顯示裝置,其特征在于,所述遮光部與所述第一電極層位于同一層且相互獨(dú)立。
【文檔編號(hào)】G06K9/00GK106022324SQ201610633369
【公開(kāi)日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年8月4日
【發(fā)明人】吳俊緯, 董學(xué), 王海生, 劉英明, 丁小梁, 呂敬
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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