化，這是因為五氧化二鈮層120偏藍(lán)，當(dāng)白色遮光層130在高溫時發(fā)生黃變，五氧化二鈮層 120能夠起到抵消的作用，從而調(diào)節(jié)視覺效果，使得白色電容式觸摸屏高溫烘烤前后的反射 色差在0.5以下，即高溫烘烤前后產(chǎn)品色度基本無變化，而無需使用昂貴的白色遮光材料， 就使白色電容式觸摸屏100的反射色度得到改善，成本較低，因此，上述白色電容式觸摸屏 100的反射色度得到改善且成本較低。
[0040] 如圖2所示，一實施方式的白色電容式觸摸屏的制備方法，可以用于制備上述白 色電容式觸摸屏。該白色電容式觸摸屏的制備方法包括如下步驟：
[0041] 步驟S210 :在基板上依次形成五氧化二鈮層、白色遮擋層、黑色遮擋層、二氧化硅 層及第一導(dǎo)電層。
[0042] 其中，基板為玻璃基板。優(yōu)選的，基板的厚度為0. 3~I. 1mm。
[0043] 其中，五氧化二鈮層的厚度為50~200埃米。其中，形成五氧化二鈮層的方法為 真空濺鍍。
[0044] 白色遮擋層的材料為白色光刻膠，例如，新應(yīng)材公司的白色光刻膠SPW1000。其中， 白色光刻膠是一種包含二氧化鈦、高分子樹脂、感光劑的光刻膠，能夠起到遮光的作用。其 中，形成白色遮擋層的方法為光刻。
[0045] 其中，白色遮擋層的厚度為10~20微米。
[0046] 黑色遮擋層的材料為黑色光刻膠，例如TOK公司的黑色光刻膠BKllO T-2。其中， 黑色光刻膠是一種包含炭黑、高分子樹脂、感光劑的光刻膠，能夠起到遮光的作用。形成黑 色遮光層的方法為光刻。
[0047] 黑色遮擋層的厚度為1~3微米。
[0048] 其中，二氧化硅層的厚度為300~600埃米。形成二氧化硅層的方法為真空濺鍍。
[0049] 其中，第一導(dǎo)電層的材料優(yōu)選為ΙΤ0。可以理解，第一導(dǎo)電層的材料也可以為其它 導(dǎo)電材料，例如AZO等。
[0050] 其中，第一導(dǎo)電層的厚度為200~1500埃米。
[0051] 形成第一導(dǎo)電層的方法為真空濺鍍。
[0052] 步驟S220 :在第一導(dǎo)電層上涂覆絕緣材料，并經(jīng)200~250°C烘烤30~60分鐘， 形成第一絕緣層。
[0053] 其中，第一絕緣層的材料為OC絕緣膠。其中，第一絕緣層的厚度為1~3微米。
[0054] 步驟S230 :在第一絕緣層上依次形成第二導(dǎo)電層及金屬層。
[0055] 其中，第二導(dǎo)電層的材料優(yōu)選為ITO。可以理解，第二導(dǎo)電層的材料也可以為其它 導(dǎo)電材料，例如AZO等。
[0056] 其中，第二導(dǎo)電層的厚度為200~900埃米。
[0057] 形成第二導(dǎo)電層的方法為真空濺鍍。
[0058] 其中，金屬層優(yōu)選為鉬鋁鉬層。
[0059] 且金屬層的厚度為2000~4000埃米。
[0060] 形成金屬層的方法為真空濺鍍。
[0061] 步驟S240 :在金屬層上涂覆絕緣材料，并經(jīng)200~250°C烘烤30~60分鐘，形成 第二絕緣層。
[0062] 其中，步驟S240中，第二絕緣層材料為OC絕緣膠。
[0063] 第二絕緣層的厚度為1~3微米。
[0064] 上述白色電容式觸摸屏的制備方法操作簡單，且制備出的白色電容式觸摸屏的反 射色度得到了改善且較低的成本。
[0065] 以下為具體實施例部分：
[0066] 實施例1
[0067] 本實施例的白色電容式觸摸屏的制備如下：
[0068] (1)提供玻璃基板，在厚度為0. 3mm的玻璃基板的一個表面上依次真空濺鍍形成 厚度為50埃米的五氧化二鈮層、光刻形成厚度為1微米的白色遮擋層、光刻形成厚度為3 微米的黑色遮擋層、真空濺鍍形成厚度為600埃米的二氧化硅層及真空濺鍍形成厚度為 200埃米的第一 ITO導(dǎo)電層，其中，白色遮擋層的材料為白色BM，黑色遮光層的材料為黑色 BMo
[0069] (2)在第一導(dǎo)電層上涂覆OC絕緣膠，并經(jīng)250°C烘烤30分鐘，形成厚度為1微米 的第一絕緣層。
[0070] (3)在第一絕緣層上真空濺鍍依次形成厚度為200微米的第二ITO導(dǎo)電層及厚度 為4000埃米的鉬鋁鉬層。
[0071] (4)在鉬鋁鉬層上涂覆OC絕緣膠，并經(jīng)200°C烘烤60分鐘，形成厚度為3微米的 第二絕緣層。
[0072] 在CIEI1976L*A*B*色空間下的反射色度來評價顏色，其中，L*為亮度；其a* :負(fù) 為綠色方向，正為紅色方向；b*:負(fù)為藍(lán)色方向，正為黃色方向，用AE*ab評價反射色差，其 中，
【主權(quán)項】
1. 一種白色電容式觸摸屏，其特征在于，包括依次層疊的基板、五氧化二鈮層、白色遮 擋層、黑色遮擋層、二氧化硅層、第一導(dǎo)電層、第一絕緣層、第二導(dǎo)電層、金屬層及第二絕緣 層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述五氧化二鈮層的厚度 為50~200埃米。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述白色遮擋層的材料為 白色光刻膠；所述白色遮擋層的厚度為10~20微米。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述黑色遮擋層的材料為 黑色光刻膠；所述黑色遮擋層的厚度為1~3微米。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述二氧化硅層的厚度為 300~500埃米。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述第一絕緣層的材料為 OC絕緣膠；所述第一絕緣層的厚度為1~3微米。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述第二絕緣層的材料為 OC絕緣膠；所述第二絕緣層的厚度為1~3微米。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層的厚度為 200~1500埃米；所述第二導(dǎo)電層的厚度為200~900埃米。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色電容式觸摸屏，其特征在于，所述金屬層為鉬鋁鉬層，且 所述金屬層的厚度為2000~4000埃米。
10. -種白色電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于，包括如下步驟： 在基板上依次形成五氧化二鈮層、白色遮擋層、黑色遮擋層、二氧化硅層及第一導(dǎo)電 層； 在所述第一導(dǎo)電層上涂覆絕緣材料，并經(jīng)200~250°C烘烤30~60分鐘，形成第一絕 緣層； 在所述第一絕緣層上依次形成第二導(dǎo)電層及金屬層； 在所述金屬層上涂覆絕緣材料，并經(jīng)200~250°C烘烤30~60分鐘，形成第二絕緣層。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種白色電容式觸摸屏及其制備方法。一種白色電容式觸摸屏，包括依次層疊的基板、五氧化二鈮層、白色遮擋層、黑色遮擋層、二氧化硅層、第一導(dǎo)電層、第一絕緣層、第二導(dǎo)電層、金屬層及第二絕緣層。該白色電容式觸摸屏的反射色度得到改善且成本較低。
【IPC分類】G06F3-044
【公開號】CN104731432
【申請?zhí)枴緾N201510056940
【發(fā)明人】黃勇祥, 鄭建萬, 申浩, 林虹云, 資小群, 石國強(qiáng), 王余剛, 池京容
【申請人】深圳南玻偉光導(dǎo)電膜有限公司
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2015年2月3日