手工痕跡鑰匙的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種手工痕跡鑰匙，所述手工痕跡鑰匙包括痕跡載體毛坯，在所述痕跡載體毛坯上在保密狀態(tài)下加載手工痕跡形成所述手工痕跡鑰匙。應(yīng)用所述手工痕跡鑰匙的方法，第一步：將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步：將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步：如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出拒絕指令。本發(fā)明不容易被破譯，而且不會泄露個(gè)人信息。
【專利說明】手工痕跡鑰匙

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及信息領(lǐng)域，尤其是一種手工痕跡鑰匙。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的加密方法通過密碼或人的生物特征加密，例如人的指紋、瞳孔或面部特征等加以識別。這些方法要么容易被破譯，要么涉及個(gè)人隱私，容易泄露個(gè)人信息，因此需要一種新型的手工痕跡鑰匙。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問題，本發(fā)明提出的技術(shù)方案如下:
[0004]方案1，一種手工痕跡鑰匙，通過痕跡載體進(jìn)行加密，所述痕跡載體包括載體和所述載體上的手工痕跡。
[0005]方案2，一種手工痕跡鑰匙，包括痕跡載體毛坯，在所述痕跡載體毛坯上在保密狀態(tài)下加載手工痕跡形成所述手工痕跡鑰匙。
[0006]方案3，在方案I或2的基礎(chǔ)上，所述手工痕跡設(shè)為光消失痕跡。
[0007]方案4，在方案I或2的基礎(chǔ)上，所述手工痕跡設(shè)為化學(xué)消失痕跡。
[0008]方案5，在方案I或2的基礎(chǔ)上，所述手工痕跡設(shè)為壓力消失痕跡。
[0009]方案6，在方案I或2的基礎(chǔ)上，所述手工痕跡設(shè)為磁消失痕跡。
[0010]方案7，在方案I或2的基礎(chǔ)上，所述手工痕跡設(shè)為二維痕跡或三維痕跡。
[0011]方案8，在方案7的基礎(chǔ)上，所述二維痕跡設(shè)為手寫字或手畫圖案。
[0012]方案9，在方案7的基礎(chǔ)上，所述三維痕跡設(shè)為三維圖形或立體造物。
[0013]方案10，應(yīng)用方案I至9中任一方案所述手工痕跡鑰匙的方法，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出拒絕指令。
[0014]方案11，應(yīng)用方案I至9中任一方案所述手工痕跡鑰匙的方法，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出報(bào)警指令。
[0015]方案12，應(yīng)用方案I至9中任一方案所述手工痕跡鑰匙的方法，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)對所述執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出強(qiáng)制鎖死指令。
[0016]方案13，在方案10至12中任一方案的基礎(chǔ)上，所述痕跡識別系統(tǒng)設(shè)為電子識別系統(tǒng)或光電識別系統(tǒng)。
[0017]方案14，在方案10至12中任一方案的基礎(chǔ)上，所述痕跡識別系統(tǒng)設(shè)為圖像識別系統(tǒng)或立體識別系統(tǒng)。
[0018]本發(fā)明涉及的手工痕跡由于是通過手工形成的，不具有可再現(xiàn)性，例如，就算是同一個(gè)人寫同樣的字，也不可能兩次寫的完全一樣，因此想破譯手工痕跡是沒有可能性的。
[0019]本發(fā)明中，所謂的“光消失痕跡”是指遇到非所屬環(huán)境的光時(shí)消失的痕跡，當(dāng)所述手工痕跡設(shè)為光消失痕跡的所述手工痕跡鑰匙在使用時(shí)，被儲存在特定裝置內(nèi)，所述痕跡識別系統(tǒng)通過磁、光波、影像等手段識別所述手工痕跡鑰匙，當(dāng)所述特定裝置被惡意開啟時(shí)，所述手工痕跡由于遇到非所述特定裝置內(nèi)的環(huán)境的光而消失。
[0020]本發(fā)明中，所謂的“化學(xué)消失痕跡”是指當(dāng)所屬化學(xué)環(huán)境改變時(shí)消失的痕跡，當(dāng)所述手工痕跡設(shè)為化學(xué)消失痕跡的所述手工痕跡鑰匙在使用時(shí)，被儲存在特定裝置內(nèi)，所述痕跡識別系統(tǒng)通過磁、光波、影像等手段識別所述手工痕跡鑰匙，當(dāng)所述特定裝置被惡意開啟時(shí)，所述手工痕跡由于其所在的所述特定裝置內(nèi)的化學(xué)環(huán)境被改變而消失。
[0021]本發(fā)明中，所謂的“壓力消失痕跡”是指當(dāng)所屬環(huán)境的壓力改變時(shí)消失的痕跡，當(dāng)所述手工痕跡設(shè)為壓力消失痕跡的所述手工痕跡鑰匙在使用時(shí)，被儲存在特定裝置內(nèi)，所述痕跡識別系統(tǒng)通過磁、光波、影像等手段識別所述手工痕跡鑰匙，當(dāng)所述特定裝置被惡意開啟時(shí)，所述手工痕跡由于其所在的所述特定裝置內(nèi)的壓力被改變而消失。
[0022]本發(fā)明中，所謂的“磁消失痕跡”是指當(dāng)所屬環(huán)境的磁力改變時(shí)消失的痕跡，當(dāng)所述手工痕跡為磁消失痕跡的所述手工痕跡鑰匙在使用時(shí)，被儲存在特定裝置內(nèi)，所述痕跡識別系統(tǒng)通過磁、光波、影像等手段識別所述手工痕跡鑰匙，當(dāng)所述特定裝置被惡意開啟時(shí)，所述手工痕跡由于其所在的所述特定裝置內(nèi)的磁力被改變而消失。
[0023]本發(fā)明中，應(yīng)根據(jù)本領(lǐng)域的公知技術(shù)，在必要的地方設(shè)置必要的部件、單元或系統(tǒng)坐寸ο
[0024]本發(fā)明的有益效果如下:不容易被破譯，而且不會泄露個(gè)人信息。

【具體實(shí)施方式】
[0025]實(shí)施例1
[0026]一種手工痕跡鑰匙，包括痕跡載體毛坯，在所述痕跡載體毛坯上在保密狀態(tài)下加載手工痕跡形成所述手工痕跡鑰匙。
[0027]實(shí)施例2
[0028]一種手工痕跡鑰匙，通過痕跡載體進(jìn)行加密，所述痕跡載體包括載體和所述載體上的手工痕跡。
[0029]實(shí)施例3
[0030]一種手工痕跡鑰匙，其在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將所述手工痕跡設(shè)為光消失痕跡。
[0031]作為可以變換的實(shí)施方式，所述手工痕跡可改設(shè)為化學(xué)消失痕跡、壓力消失痕跡或磁消失痕跡。
[0032]實(shí)施例2也可參照本實(shí)施例設(shè)置所述手工痕跡鑰匙。
[0033]實(shí)施例4
[0034]一種手工痕跡鑰匙，其在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將所述手工痕跡設(shè)為二維痕跡，具體實(shí)施時(shí)，將所述二維痕跡設(shè)為手寫字。
[0035]作為可以變換的實(shí)施方式，所述二維痕跡改設(shè)為手畫圖案。
[0036]作為可以變換的實(shí)施方式，所述手工痕跡改設(shè)為三維痕跡，可選擇性地，將所述三維痕跡設(shè)為三維圖形或立體造物。
[0037]實(shí)施例2、實(shí)施例3及實(shí)施例3的可變換的實(shí)施方式均可參照本實(shí)施例設(shè)置所述手工痕跡。
[0038]實(shí)施例5
[0039]一種應(yīng)用實(shí)施例1或2所述手工痕跡鑰匙的方法，其在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出拒絕指令。
[0040]本發(fā)明所有實(shí)施方式中的所述手工痕跡鑰匙均可替換本實(shí)施例中的所述手工痕跡鑰匙。
[0041]實(shí)施例6
[0042]一種應(yīng)用實(shí)施例1或2所述手工痕跡鑰匙的方法，其在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出報(bào)警指令。
[0043]本發(fā)明所有實(shí)施方式中的所述手工痕跡鑰匙均可替換本實(shí)施例中的所述手工痕跡鑰匙。
[0044]實(shí)施例7
[0045]一種應(yīng)用實(shí)施例1或2所述手工痕跡鑰匙的方法，其在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)對所述執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出強(qiáng)制鎖死指令。
[0046]本發(fā)明所有實(shí)施方式中的所述手工痕跡鑰匙均可替換本實(shí)施例中的所述手工痕跡鑰匙。
[0047]本發(fā)明中，可選擇性地，將所述痕跡識別系統(tǒng)設(shè)為電子識別系統(tǒng)或光電識別系統(tǒng)；
[0048]也可選擇性地，將所述痕跡識別系統(tǒng)設(shè)為圖像識別系統(tǒng)或立體識別系統(tǒng)。
[0049]顯然，本發(fā)明不限于以上實(shí)施例，根據(jù)本領(lǐng)域的公知技術(shù)和本發(fā)明所公開的技術(shù)方案，可以推導(dǎo)出或聯(lián)想出許多變型方案，所有這些變型方案，也應(yīng)認(rèn)為是本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種手工痕跡鑰匙，其特征在于:通過痕跡載體進(jìn)行加密，所述痕跡載體包括載體和所述載體上的手工痕跡。
2.一種手工痕跡鑰匙，包括痕跡載體毛坯，其特征在于:在所述痕跡載體毛坯上在保密狀態(tài)下加載手工痕跡形成所述手工痕跡鑰匙。
3.如權(quán)利要求1或2所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述手工痕跡設(shè)為光消失痕跡。
4.如權(quán)利要求1或2所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述手工痕跡設(shè)為化學(xué)消失痕跡。
5.如權(quán)利要求1或2所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述手工痕跡設(shè)為壓力消失痕跡。
6.如權(quán)利要求1或2所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述手工痕跡設(shè)為磁消失痕跡。
7.如權(quán)利要求1或2所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述手工痕跡設(shè)為二維痕跡或三維痕跡。
8.如權(quán)利要求7所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述二維痕跡設(shè)為手寫字或手畫圖案。
9.如權(quán)利要求7所述手工痕跡鑰匙，其特征在于:所述三維痕跡設(shè)為三維圖形或立體造物。
10.應(yīng)用權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述手工痕跡鑰匙的方法，其特征在于，第一步:將所述手工痕跡鑰匙的特征預(yù)先儲存到痕跡識別系統(tǒng)中；第二步:將所述手工痕跡鑰匙的特征供所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別；第三步:如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為真所述痕跡識別系統(tǒng)對執(zhí)行機(jī)構(gòu)發(fā)出開啟指令，如所述痕跡識別系統(tǒng)判斷識別結(jié)果為偽所述痕跡識別系統(tǒng)發(fā)出拒絕指令。
【文檔編號】G06F21/34GK104239774SQ201410478915
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月18日
【發(fā)明者】靳北彪 申請人:摩爾動力(北京)技術(shù)股份有限公司