觸摸顯示單元及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及觸摸顯示單元及其制造方法。觸摸顯示單元包括：具有第一表面和第二表面的基礎(chǔ)基板，用戶的觸摸施加于第一表面，第二表面具有多個凹槽的凹凸圖案；在第二表面上形成的電極層，電極層具有用于通過感測用戶的觸摸產(chǎn)生電信號的感測區(qū)域并且具有對應(yīng)于該多個凹槽的一部分的開放區(qū)域；和在電極層下方形成并且向基礎(chǔ)基板提供光的顯示面板。
【專利說明】觸摸顯示單元及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本公開涉及一種在其一個表面上具有納米尺寸的凹凸圖案的觸摸顯示單元和一 種用于制造該觸摸顯示單元的方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 近來，一種圖像顯示裝置具有觸摸屏功能，該觸摸屏功能用于通過使用用戶的手 指、筆等來輸入信號而非通過另外的輸入裝置諸如鍵盤。
[0003] 根據(jù)數(shù)據(jù)檢測方法，觸摸屏功能可以被分類成電阻性類型、電容性類型、表面聲波 (SAW)類型、紅外類型等。
[0004] 隨著顯示裝置的發(fā)展，對于移動顯示器和觸摸屏的研究正在活躍地進(jìn)行中。為了 更加清楚地輸出屏幕并且增強(qiáng)可視性，觸摸窗口的材料和結(jié)構(gòu)正在不斷發(fā)展中。
[0005] 近來，正在提出具有增強(qiáng)透射性或者反射性的顯示單元，該顯示單元通過一種在 蓋玻片上沉積電極的方法或者一種在LCD和觸摸面板之間移除空氣層的結(jié)構(gòu)而具有增強(qiáng) 的光學(xué)功能。從顯示單元發(fā)射以輸出圖像的光在穿過觸摸面板的每一個結(jié)構(gòu)的同時損失。 [0006] 此外，因為顯示裝置的外表面由用于感測用戶的觸摸輸入并且顯示圖像的強(qiáng)化玻 璃形成，所以光從外表面反射。這可能降低可視性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 因此，本發(fā)明的一個方面在于提供一種具有增強(qiáng)的可視性的觸摸顯示單元。
[0008] 為了實現(xiàn)這些和其它優(yōu)點并且根據(jù)本說明書的目的，如在這里體現(xiàn)并且一般性描 述地，提供一種觸摸顯不單兀，包括：具有第一表面和第二表面的基礎(chǔ)基板，用戶的觸摸施 加于第一表面，第二表面具有多個凹槽的凹凸圖案；在第二表面上形成的電極層，該電極層 具有用于對應(yīng)于用戶的觸摸產(chǎn)生電信號的感測區(qū)域并且具有對應(yīng)于該多個凹槽的一個部 分的開放區(qū)域；和在電極層下方形成并且向基礎(chǔ)基板提供光的顯示面板。
[0009] 凹槽可以以納米尺寸不規(guī)則地形成。
[0010] 電極層可以包括：在凹凸圖案上形成的第一電極層；在第一電極層上形成的絕緣 部件；和在絕緣部件上形成的第二電極層。
[0011] 電極層可以包括：在凹凸圖案上形成的第一電極層；在基礎(chǔ)基板的第二表面上形 成的透明粘結(jié)膜；和在透明粘結(jié)膜上形成并且與第一電極層一起地形成電信號的第二電極 層。
[0012] 基礎(chǔ)基板的第一表面可以包括具有多個凹槽的凹凸圖案，以便散射從外側(cè)入射到 基礎(chǔ)基板上的光。
[0013] 觸摸顯示單元可以進(jìn)一步包括在基礎(chǔ)基板的第一表面上形成并且配置為防止異 物接觸基礎(chǔ)基板的膜，該第一表面暴露于外側(cè)。
[0014] 基礎(chǔ)基板可以包括：形成基礎(chǔ)基板的外表面的玻璃基板；和由模制部件形成的凹 凸層，該模制部件的一個表面附接到玻璃基板的一側(cè)并且具有凹凸圖案的凹凸部分形成在 模制部件的另一個表面上。
[0015] 玻璃基板具有在玻璃基板的另一個表面上對應(yīng)于凹凸圖案地形成的納米尺寸凹 槽。
[0016] 電極層可以包括：在凹凸圖案上形成的第一電極；和在顯示面板上形成并且配置 為與第一電極一起地感測用戶的觸摸的第二電極。
[0017] 為了實現(xiàn)這些和其它優(yōu)點并且根據(jù)本說明書的目的，如在這里體現(xiàn)并且一般性描 述地，還提供一種用于制造觸摸顯示單元的方法，該方法包括：在玻璃基板的一個表面上形 成納米掩模；利用納米掩模蝕刻玻璃基板的所述一個表面，由此形成包括多個凹槽的凹凸 結(jié)構(gòu)；通過移除納米掩模形成基礎(chǔ)基板；并且在玻璃基板的包括該多個凹槽的所述一個表 面上形成電極層。
[0018] 形成納米掩模的步驟可以包括：在玻璃基板的一個表面上形成金屬層；并且向已 經(jīng)形成有金屬層的玻璃基板施加熱量，使金屬層凝聚（cohere)，由此形成納米掩模。
[0019] 形成電極層的步驟可以包括：相對于基準(zhǔn)方向以預(yù)設(shè)傾斜角度固定玻璃基板；并 且通過在基準(zhǔn)方向上向玻璃基板提供氣體，在玻璃基板的一個表面上形成電極層。
[0020] 該方法可以進(jìn)一步包括：在蓋玻片上沉積模制部件；在模制部件上布置玻璃基 板，使得玻璃基板的一個表面面對蓋玻片；擠壓玻璃基板，使得利用凹槽在模制部件處形成 凹凸圖案；并且移除玻璃基板。
[0021] 該方法可以進(jìn)一步包括在模制部件的已經(jīng)形成有凹凸圖案的一個表面上形成電 極層，其中模制部件由透明材料形成。
[0022] 該方法可以進(jìn)一步包括：在玻璃基板的另一個表面上形成金屬層；向已經(jīng)形成有 金屬層的玻璃基板施加熱量，由此使金屬層凝聚；并且通過將利用熱而凝聚的多個金屬片 用作掩模，在玻璃基板的另一個表面上形成多個凹槽。
[0023] 該方法可以進(jìn)一步包括在玻璃基板的另一個表面上形成膜，以便防止異物被引入 玻璃基板。
[0024] 形成納米掩模的步驟可以包括：在玻璃基板的一個表面上形成金屬層；在金屬層 上形成由多個珠體形成的單一珠體層；通過使用氧等離子體蝕刻珠體，并且在所述珠體之 間具有間隔的情況下將珠體相互分離；并且通過使用珠體作為掩模蝕刻金屬層，由此形成 納米掩模。
[0025] 形成納米掩模的步驟可以包括：在玻璃基板的一個表面上形成由多個珠體形成的 單一珠體層；通過使用氧等離子體蝕刻珠體，并且在珠體之間具有間隔的情況下將珠體相 互分離；在包括珠體的玻璃基板上形成金屬層；并且通過使用等離子體將珠體和在珠體下 方形成的金屬層形成為納米掩模。
[0026] 形成納米掩模的步驟可以包括：在玻璃基板的一個表面上形成金屬層；向金屬層 施加熱量，形成利用熱而凝聚的多個金屬片，由此形成金屬掩模；在金屬掩模和玻璃基板上 形成樹脂層；并且向樹脂層施加等離子體，由此形成由多個樹脂片構(gòu)成的樹脂掩模。
[0027] 形成納米掩模的步驟可以包括：在玻璃基板的一個表面上形成樹脂層；在樹脂層 上形成金屬層；通過將熱量施加于金屬層而使金屬層凝聚，并且形成由多個金屬片構(gòu)成的 金屬掩模；并且通過使用金屬掩模蝕刻樹脂層。
[0028] 本發(fā)明能夠具有以下優(yōu)點。
[0029] 首先，因為電極層部分地由納米尺寸凹凸結(jié)構(gòu)形成，所以從顯示面板輸出的光的 損失能夠最小化。
[0030] 第二，由于凹凸結(jié)構(gòu)，從外側(cè)入射到觸摸窗口上的光的反射量能夠最小化。這能夠 允許更加清楚地從顯示面板輸出圖像。
[0031] 從在下文中給出的詳細(xì)說明，本申請進(jìn)一步的適用性范圍將變得更加清楚。然而， 應(yīng)該理解，雖然示意本公開的優(yōu)選實施例，但是詳細(xì)說明和具體實例僅僅以示意的方式給 出，因為根據(jù)該詳細(xì)說明，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，在本公開的精神和范圍內(nèi)的各種改變 和修改將變得清楚。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0032] 附圖圖示示例性實施例并且與說明書一起地用于解釋本公開的原理，該附圖被包 括以提供對于本公開的進(jìn)一步理解并且被結(jié)合在本說明書中并且構(gòu)成它的一個部分。
[0033] 在附圖中：
[0034] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的移動終端的框圖；
[0035] 圖2A是根據(jù)本發(fā)明的實施例的移動終端的前透視圖；
[0036] 圖2B是圖2A的移動終端的后透視圖；
[0037] 圖3是圖1的移動終端的分解透視圖；
[0038] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的實施例的觸摸屏面板的放大截面視圖；
[0039] 圖5A到?是用于說明在基礎(chǔ)基板上形成納米尺寸凹槽的過程的概念圖；
[0040] 圖6A到6C是用于說明在基礎(chǔ)基板上形成電極層的過程的概念圖；
[0041] 圖7A到7H是用于說明根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的形成基礎(chǔ)基板的過程的概念 圖；
[0042] 圖8A到8H是用于說明根據(jù)本發(fā)明的再一個實施例的具有納米結(jié)構(gòu)的觸摸窗口的 概念圖；
[0043] 圖9A到9E是用于說明根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例的制造觸摸窗口的基礎(chǔ)基板的 過程的概念圖；
[0044] 圖10A到10E是用于說明根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例的制造觸摸窗口的基礎(chǔ)基板 的過程的概念圖；
[0045] 圖11A到11D是用于說明根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的形成基礎(chǔ)基板的過程的視 圖；并且
[0046] 圖12A到12C是用于說明根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的觸摸窗口的結(jié)構(gòu)的概念 圖。

【具體實施方式】
[0047] 在本說明書中使用的技術(shù)術(shù)語被闡述用于提及本發(fā)明的具體實施例而非旨在限 定本發(fā)明的范圍。就未被不同地定義而言，包括技術(shù)或者科學(xué)術(shù)語的、在這里使用的所有的 術(shù)語可以具有與本公開所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中的普通人員通常地理解的那些相同的含義，而不應(yīng) 該在過度地全面的含義或者過度地受到限制的含義上理解。另外，如果在本公開的說明中 使用的技術(shù)術(shù)語是未能清楚地表達(dá)本公開的思想的錯誤的術(shù)語，則它應(yīng)該被本領(lǐng)域技術(shù)人 員能夠正確地理解的技術(shù)術(shù)語替換。另外，在本公開的說明中使用的一般術(shù)語應(yīng)該根據(jù)在 詞典中的定義或者根據(jù)其前后文理解，而不應(yīng)該理解為具有過度地受到約束的含義。
[0048] 就它代表明確地不同于上下文的含義而言，單數(shù)表示可以包括復(fù)數(shù)表示。在這里 使用的術(shù)語"包括"或者"具有"應(yīng)該如此理解，即它們旨在示意存在在說明書中公開的幾 個構(gòu)件或者幾個步驟，并且還可以如此理解，即，可以不包括構(gòu)件或者步驟中的一部分或者 可以進(jìn)一步包括另外的構(gòu)件或者步驟。
[0049] 將會理解，雖然可以在這里使用術(shù)語第一、第二等以描述各種元件，但是這些元件 不應(yīng)該受到這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅僅用于將一個元件區(qū)別于另一個元件。例如，在不 偏離本公開的范圍的情況下，第一元件能夠稱作第二元件，并且類似地，第二元件能夠稱作 第一兀件。
[0050] 將在下面參考附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例，其中與圖號無關(guān)地，相同的 或者對應(yīng)的那些構(gòu)件被賦予相同的附圖標(biāo)記，并且省略了多余的解釋。
[0051] 在描述本發(fā)明時，如果認(rèn)為用于相關(guān)的已知功能或者構(gòu)造的詳細(xì)解釋不必要地分 散本發(fā)明的主旨，則這種解釋已經(jīng)被省略但是將會得到本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解。附圖用于 幫助容易地理解本發(fā)明的技術(shù)思想并且應(yīng)該理解本發(fā)明的思想不受附圖限制。
[0052] 根據(jù)本發(fā)明的移動終端可以包括智能電話、膝上型計算機(jī)、數(shù)字廣播終端、個人數(shù) 字助理（PDA)、便攜式多媒體播放器（PMP)、導(dǎo)航器等。然而，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言將會 清楚，除了用于靈活性的特定配置，本發(fā)明還可以應(yīng)用于固定終端諸如數(shù)字TV、桌上型計算 機(jī)和其它服務(wù)器。
[0053] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的移動終端100的框圖。
[0054] 形成移動終端100的外觀的殼體(外殼、外罩、蓋等)可以包括前殼111和后殼121。 由前殼111和后殼121形成的空間可以在其中容納各種構(gòu)件。至少一個中殼可以進(jìn)一步置 放在前殼111和后殼121之間。這種殼體可以通過注射模制合成樹脂形成，或者可以使用 金屬材料諸如不銹鋼（STS)或者鈦（Ti)形成。
[0055] 在前殼111處，可以置放顯示單元113、第一音頻輸出單元114、第一圖像輸入單元 115、第一操控單元116、音頻輸入單元117等。
[0056] 顯示單元113包括用于在視覺上顯示信息的顯示面板200 (參考圖3)，諸如液晶 顯示器（IXD)面板和有機(jī)發(fā)光二極管（0LED)面板。顯示單元113可以實現(xiàn)為觸摸屏，并且 可以允許通過用戶的觸摸輸入信息。
[0057] 顯示單元113可以進(jìn)一步包括用于感測施加到顯示面板200上的觸摸輸入的觸摸 窗口 300 (參考圖3)。
[0058] 第一音頻輸出單元114可以實現(xiàn)為接收器或者揚(yáng)聲器。
[0059] 第一圖像輸入單元115可以實現(xiàn)為用于由用戶捕捉靜止圖像或者活動圖像的照 相機(jī)模塊等。
[0060] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，第一操控單元116配置為接收用于控制移動終端100的操 作的命令。
[0061] 音頻輸入單元117可以實現(xiàn)為用于輸入用戶的語音、其它聲音等的麥克風(fēng)。
[0062] 在安裝到移動終端100的后表面的后殼121處，可以置放第二操控單元123、接口 單元124、供電單元125等。
[0063] 第二操控單元123可以安設(shè)在后殼121的側(cè)表面上。第一操控單元116和第二操 控單元123可以被稱作操控部分，并且可以包括能夠以用戶的觸覺方式操控的任何類型的 操控單元。例如，操控單元可以實現(xiàn)為用于通過用戶的推動或者觸摸而輸入命令或者信息 的鍋仔片、觸摸屏或者觸摸墊。可替代地，操控單元可以實現(xiàn)為推輪或者輕搖開關(guān)。
[0064] 第一操控單元116可以用于輸入命令諸如START (開始）和END (結(jié)束)，并且第二 操控單元123可以作為用于執(zhí)行特殊功能而非翻滾功能，例如致動第一圖像輸入單元115 的熱鍵操作。電話號碼、字符等可以被輸入到設(shè)置在顯示單元113處的觸摸屏。
[0065] 接口單元124用作移動終端100通過其與外部裝置交換數(shù)據(jù)的通道。例如，接口單 元124可以包括用于通過電線或者以無線方式連接耳機(jī)的連接端口、用于短程通信的端口 (例如，紅外線端口（IrDA端口））、藍(lán)牙端口、無線LAN端口，和用于向移動終端100供應(yīng)電力 的供電端口中的至少一個。接口單元124可以是用戶識別模塊（ΠΜ)、客戶識別模塊（SM) 或者用于容納外部卡片諸如記憶卡的卡片槽。
[0066] 用于向移動終端100供應(yīng)電力的供電單元125安裝到后殼121。供電單元125可 以作為充電電池被以可拆離方式安裝到后殼121。
[0067] 圖2是圖1的移動終端100的后透視圖。
[0068] 參考圖2,第二圖像輸入單元127、第二音頻輸出單元130等可以另外地布置在后 殼121處。
[0069] 第二圖像輸入單元127可以具有基本與第一圖像輸入單元115的圖像捕捉方向相 反的圖像捕捉方向（參考圖1)，并且可以具有與第一圖像輸入單元115的像素不同數(shù)目的 像素。例如，優(yōu)選的是第一圖像輸入單元115具有相對小的數(shù)目的像素，當(dāng)用戶在視頻呼叫 等期間捕捉他的或者她的自身面部并且將其發(fā)送另一方時該相對小的數(shù)目的像素不足以 引起困難，并且第二圖像輸入單元127具有相對大的數(shù)目的像素，因為用戶經(jīng)常捕捉不被 即刻地發(fā)送的普通對象。
[0070] 進(jìn)而，閃光燈128和反射鏡129可以另外地靠近第二圖像輸入單元127置放。當(dāng) 利用第二圖像輸入單元127捕捉對象時，閃光燈128朝向?qū)ο笳丈涔?。反射鏡129允許用 戶當(dāng)通過使用第二圖像輸入單元127捕捉他自己或者她自己(在自拍模式中)時以反射方式 觀看他的或者她的自身面部等。
[0071] 第二音頻輸出單元130能夠與第一音頻輸出單元114 一起地實現(xiàn)立體聲功能(參 考圖1)，并且還可以用于在電話呼叫期間實現(xiàn)揚(yáng)聲器電話模式。
[0072] 用于接收廣播信號的天線131可以置放在后殼121的與用于實現(xiàn)電話呼叫等的天 線分開的一側(cè)處。天線131可以以可縮退方式設(shè)置在后殼121中。
[0073] 在以上說明中，第一操控單元116等在前殼111處形成，并且第二操控單元123等 在后殼121處形成。然而，本發(fā)明不限于此。例如，第二操控單元123可以靠近第一操控單 元116布置在前殼111處。此外，可以不另外地設(shè)置第二圖像輸入單元127。在此情形中， 第一圖像輸入單元115可以被以可旋轉(zhuǎn)方式形成，并且可以配置為進(jìn)一步捕捉第二圖像輸 入單元127的捕捉方向。
[0074] 圖3是圖1的移動終端100的分解透視圖。
[0075] 參考圖3,觸摸窗口 300形成為覆蓋前殼111的一個表面。觸摸窗口 300覆蓋顯示 面板200的一個表面從而能夠從外側(cè)辨識從顯示模塊200輸出的視覺信息。顯示面板200 和觸摸窗口 300構(gòu)成顯示單元113 (參考圖1)。
[0076] 觸摸窗口 300形成為辨識用戶的觸摸輸入，并且信息(命令、信號等)能夠被輸入到 觸摸窗口 300。
[0077] 觸摸窗口 300可以具有對應(yīng)于顯示模塊200的面積，并且可以由透射性材料形成。 觸摸窗口 300可以具有不透明區(qū)域，光在該不透明區(qū)域處不可透射或者光的光學(xué)透射性非 常低。例如，觸摸窗口 300可以沿著其邊緣被表面處理從而光不能通過那里。
[0078] 操控墊可以對應(yīng)于第一操控單元116地在前殼111處形成。操控墊被用戶觸摸或 者擠壓。操控墊可以作為操控區(qū)域在觸摸窗口 300的一個部分處形成。
[0079] 聲音孔114b、窗口孔112b和透射性窗口可以在前殼111處形成。
[0080] 聲音孔114形成為對應(yīng)于第一音頻輸出單元114,并且配置為發(fā)射將要通過那里 向外側(cè)發(fā)射的移動終端的聲音(鈴聲、音樂等)。窗口孔112b形成為對應(yīng)于顯示單元113。 由光透射性材料形成的透射性窗口可以形成為對應(yīng)于第一圖像輸入單元115 (參考圖1)。
[0081] 顯示面板200、揚(yáng)聲器模塊114a、照相機(jī)模塊115a、開關(guān)等可以安裝到后殼121。
[0082] 在本發(fā)明中，顯示單元116的至少一個區(qū)域包括納米圖案化結(jié)構(gòu)。在下文中，將解 釋顯示單元116的詳細(xì)結(jié)構(gòu)和用于制造該顯示單元的方法。
[0083] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的實施例的觸摸屏面板的放大截面視圖。
[0084] 參考圖4,觸摸窗口 300可以包括基礎(chǔ)基板310、電極層320、填充材料360、粘結(jié)膜 330,和顯示面板200。
[0085] 顯示面板200包括配置為朝向基礎(chǔ)基板310發(fā)射光的背光單元230、配置為使用從 背光單兀230發(fā)射的光輸出多個顏色的光的濾色片面板220,和配置為偏振光的一個或者 多個偏振板210。即，根據(jù)該實施例的觸摸窗口可以與用于輸出圖像的顯示面板一體地形 成。
[0086] 然而，本發(fā)明不限于此。即，觸摸窗口可以實現(xiàn)為用于感測用戶的觸摸的觸摸面 板，并且用于輸出圖像的顯示面板被組裝到彼此。
[0087] 顯示面板在觸摸傳感器下方形成，并且從顯示面板發(fā)射的光通過觸摸傳感器提供 給用戶。顯示面板200被粘結(jié)膜330附接到觸摸傳感器。
[0088] 基礎(chǔ)基板310的第一表面施加有用戶的觸摸輸入。玻璃基板301的一個表面可以 形成為暴露于移動終端的外側(cè)。基礎(chǔ)基板可以由強(qiáng)化玻璃形成，并且實現(xiàn)為蓋玻片和觸摸 面板的一體式觸摸窗口。
[0089] 基礎(chǔ)基板310與第一表面相反的第二表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)。電極層320在第二表 面上形成。即，多個凹槽（G)在第二表面上形成。該多個凹槽（G)可以形成為具有不同的深 度，并且可以被以不規(guī)則的方式形成。凹槽的截面表面可以具有各種形狀。
[0090] 參考圖4,在該多個凹槽（G)中的第一凹槽（G1)和第二凹槽（G2)分別地形成為具 有第一深度（dl)和第二深度（d2)。第一深度（dl)可以形成為大于第二深度（d2)。例如， 深度可以在大約129mn?228nm的范圍中。凹槽（G)形成為具有納米尺寸深度。凹槽（G) 還可以形成為具有納米尺寸直徑。
[0091] 電極層320包括第一電極321和第二電極322。第一電極321部分地形成在第二 表面上，該第二表面形成有多個凹槽（G)。即，在第二表面上形成第二電極322的區(qū)域可以 被定義為感測區(qū)域（SA)。并且在第二表面上未形成第二電極322的區(qū)域可以被定義為開放 區(qū)域（ΤΑ)。即，觸摸屏面板被定義為用于感測用戶的觸摸輸入的感測區(qū)域（SA)和除感測區(qū) 域（SA)以外的開放區(qū)域（TA)。
[0092] 第二電極322可以在顯示面板200上形成。然而，本發(fā)明不限于此。例如，第二電 極322可以在形成在第一電極321上的絕緣層上形成。
[0093] 開放區(qū)域（TA)可以形成為具有納米尺寸，并且可以對應(yīng)于該多個凹槽中的至少一 個。即，第一電極321可以不在形成有凹槽（G)的區(qū)域上形成。從觸摸窗口 300的開放區(qū) 域（TA)中的背光提供的光可以直接地到達(dá)基礎(chǔ)基板310而不通過電極層320。然后光可以 通過基礎(chǔ)基板310發(fā)射到外側(cè)。從顯示面板200發(fā)射的光的一個部分被提供給用戶而不通 過電極層320。這能夠減小將被損失的光的量。
[0094] 因為開放區(qū)域（TA)也形成為具有納米尺寸，所以用于感測觸摸的電極層320的電 阻最小化。
[0095] 電極層320由透明粘結(jié)膜（ΙΤ0薄膜）形成。S卩，電極層320在感測區(qū)域（SA)處形 成，并且光通過感測區(qū)域（SA)中的電極層320發(fā)射到外側(cè)。
[0096] 電極層320以不規(guī)則的方式在第二表面上形成。即，觸摸窗口 300包括多個感測 區(qū)域（SA)和多個開放區(qū)域（TA)。該多個感測區(qū)域（SA)和該多個開放區(qū)域（TA)可以形成為 具有不同的面積。
[0097] 電極層320可以由透明傳導(dǎo)材料形成，并且可以由氧化銦錫（ΙΤ0)、氧化銦鋅 (ΙΖ0)、氧化鋅（ZnO)和氧化鎘錫（CT0)中的至少一種形成。在該實施例中，觸摸窗口 300的 電極層320包括第一電極321和第二電極322。第一電極321和第二電極322可以實現(xiàn)為 沿著相互垂直的X和Y軸線形成的電極線。第一電極321可以在基礎(chǔ)基板310上形成，并 且第二電極322可以在基礎(chǔ)基板310上形成在已經(jīng)形成有第一電極321的位置處。雖然未 示出，但是絕緣部件在第一電極321和第二電極322之間的交叉部處形成。
[0098] 電極層320可以通過濺射、蒸發(fā)、原子層沉積（ALD)中的至少一種在基礎(chǔ)基板310 上沉積。
[0099] 填充材料360在基礎(chǔ)基板310和電極層320上形成。填充材料360和顯示面板 200通過粘結(jié)膜330 (0CA)附著到彼此。由于填充材料360,所以平面顯示面板200能夠容 易地附接到已經(jīng)形成有電極層320的基礎(chǔ)基板310。
[0100] 可以在觸摸窗口 300和顯示面板200之間形成空氣層，而非填充材料360。在其中 形成填充材料360的情形中，由于在空氣層和顯示面板之間的折射率差異，反射性能夠減 小。
[0101] SP，由于納米尺寸凹凸圖案，蛾眼（Μ0ΤΗΕΥΕ)現(xiàn)象可能發(fā)生。更加具體地，由納米 尺寸凹槽形成空氣層，并且在外部空氣和玻璃基板之間的折射率逐漸地降低。能夠通過最 小化通過玻璃基板的光的折射率的變化而最小化光的反射性。
[0102] 在下文中，將解釋一種用于制造包括納米尺寸凹槽的觸摸窗口的方法。
[0103] 圖5A到?是用于解釋用于在基礎(chǔ)基板上形成納米尺寸凹槽的過程的概念圖。
[0104] 首先，玻璃基板301的表面被清洗。玻璃基板301包括彼此相對的第一表面301a 和第二表面301b。玻璃基板301可以形成為包括鈉鈣玻璃、鉛堿玻璃、硼硅玻璃、石英玻璃 和鋰鋁硅酸鹽玻璃中的至少一種?；A(chǔ)基板310包括彼此相對的第一表面和第二表面。
[0105] 金屬層401沉積在基礎(chǔ)基板310的第一表面301a上。
[0106] 金屬層401形成為具有幾十納米或者更小的厚度。
[0107] 金屬層401可以由銀（Ag)、金（Au)、鉬（Pt)、銅（Cu)等形成。
[0108] 熱量被施加到已經(jīng)在此處形成金屬層401的玻璃基板301。然后沉積的金屬層401 被熱處理。沉積的金屬層401可以經(jīng)歷退火過程。通常，貴金屬具有在高溫下凝聚的趨勢。 因此，如果金屬層401被熱處理，則金屬層401開始凝聚。根據(jù)這種原理，金屬層401形成為 金屬掩模402,該金屬掩模402具有足夠大以在玻璃基板301上形成納米結(jié)構(gòu)的尺寸。艮P， 金屬層401可以以納米尺寸凝聚。
[0109] 金屬層401可以被熱處理裝置諸如場增強(qiáng)快速熱退火爐（RTA)或者熔爐在高溫下 熱處理。例如，高溫可以在150°C?600°C的范圍中。優(yōu)選地，高溫可以在150°C?400°C的 范圍中。玻璃基板301可以在熱處理裝置的腔室中熱處理。隨著在玻璃基板301的表面和 界面上表面能由于熱效應(yīng)而增加，金屬顆粒凝聚。
[0110] 金屬顆粒具有相互間不同的尺寸和形狀，并且被不規(guī)則地布置。優(yōu)選地，金屬顆粒 形成為具有至少可見光線的波長的尺寸和間距。
[0111] 在其中金屬顆粒已經(jīng)在玻璃基板301上形成的狀態(tài)下，玻璃基板301的第一表 面301a被部分地蝕刻。即，金屬顆粒形成為金屬掩模，用于在蝕刻過程期間防止第一表面 301a的一個部分被蝕刻。
[0112] 蝕刻過程可以是濕法蝕刻過程。優(yōu)選地，蝕刻深度是大約50nm或者更深。凹槽（G， 參考圖4)在未被金屬掩模覆蓋的玻璃基板301的一個表面上形成。在玻璃基板310上的、 被金屬顆粒覆蓋的區(qū)域和在玻璃基板310上的、未被金屬顆粒覆蓋的區(qū)域均具有不規(guī)則的 尺寸。結(jié)果，在蝕刻過程期間形成的凹槽（G)也具有不規(guī)則的結(jié)構(gòu)。
[0113] 因為金屬顆粒形成為具有不同的高度，所以凹槽（G)也可以形成為具有不同的深 度。例如，相對較深并且較寬的凹槽（G1)可以在金屬顆粒之間的寬的區(qū)域處通過蝕刻過程 形成。相對較淺并且較窄的凹槽（G2)可以在金屬顆粒之間的窄的區(qū)域處通過蝕刻過程形 成。如果在金屬顆粒之間的區(qū)域是窄的，則可以不形成凹槽（G)。
[0114] 在已經(jīng)形成凹槽（G)之后，金屬顆粒被移除。在移除金屬顆粒時，包括納米尺寸結(jié) 構(gòu)的基礎(chǔ)基板310在第一表面301a上形成。
[0115] 圖6A到6C是用于解釋用于在基礎(chǔ)基板上形成電極層的過程的概念圖。
[0116] 將參考圖6A到6C解釋用于在包括納米尺寸結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)基板310上形成電極層 320的過程。
[0117] 電極層320通過濺射、蒸發(fā)、原子層沉積（ALD)中的至少一種在基礎(chǔ)基板310上形 成。配置為通過所述一種或者多種方法形成電極層320的裝置在朝向基礎(chǔ)基板310的預(yù)設(shè) 方向（D1)上提供電極層320的材料。例如，在等離子體濺射方法的情形中，使用在筆直方 向上發(fā)射的等離子體顆粒在基礎(chǔ)基板310上形成傳導(dǎo)顆粒。
[0118] 作為傳導(dǎo)層，可以使用透明傳導(dǎo)材料諸如ΙΤ0或者ΙΖ0。傳導(dǎo)層可以形成為具有 l，2()〇A?]，600A的厚度。
[0119] 基礎(chǔ)基板310被以預(yù)設(shè)角度安裝。雖然未示出，但是基礎(chǔ)基板310相對于方向（D1) 以預(yù)設(shè)角度地固定于濺射裝置的腔室中。因此，可以不在凹槽（G)之間形成傳導(dǎo)顆粒。艮P， 由突出區(qū)域覆蓋的凹槽（G)被定義為不形成有傳導(dǎo)層的開放區(qū)域（TA)。
[0120] 電極層320可以形成為覆蓋至少一個凹槽（G)。例如，電極層可以根據(jù)凹槽（G)的 深度和在預(yù)設(shè)方向（D1)和基礎(chǔ)基板310之間的角度在凹槽（G)處形成。
[0121] 電極層320可以以不規(guī)則的方式在基礎(chǔ)基板310上形成。開放區(qū)域（TA)的尺寸、 感測區(qū)域（SA)的尺寸，和在每一個區(qū)域處電極層320的厚度可以不是均勻的。
[0122] 參考圖4,第二電極322可以在已經(jīng)在基礎(chǔ)基板310上形成的第一電極321上形 成。第一電極321和第二電極322可以實現(xiàn)為沿著相互垂直的X和Y軸線形成的電極線， 并且配置為感測用戶的觸摸。用于制造觸摸窗口的方法可以進(jìn)一步包括在第一電極321和 第二電極322之間形成絕緣部件的步驟，該絕緣部件被配置為將第一電極321和第二電極 322從彼此絕緣。
[0123] 圖7A到7H是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例用于解釋用于形成基礎(chǔ)基板的過程的概 念圖。
[0124] 首先，玻璃基板301被清洗。金屬層411在玻璃基板301的第一表面301a上沉積。 例如，金屬層411可以是由鉻（Cr)形成的膜?？商娲兀饘賹?11可以是由鉻或者鉻金 屬形成的薄膜。因此，在第一表面上形成鉻層。
[0125] 已經(jīng)形成有鉻層411的第一表面301a經(jīng)歷親水表面化處理。
[0126] 接著，在玻璃基板301的第一表面301a上涂覆珠體421?？梢栽诮饘賹?11上將 珠體421涂覆為單層。珠體421可以是由聚合物材料形成的納米珠體。
[0127] 珠體421可以是聚苯乙烯珠體。聚苯乙烯珠體421可以具有納米尺寸。例如，聚苯 乙烯珠體421可以是具有100nm的直徑的球體?？梢栽诮饘賹?11上將聚苯乙烯珠體421 涂覆為單層。
[0128] 可以通過使用旋涂方法和噴涂方法中的至少一種在玻璃基板301上涂覆珠體 421?？梢酝ㄟ^使用旋涂方法和噴涂方法中的至少一種在鉻層上將聚苯乙烯珠體421涂覆 為單層。
[0129] 聚苯乙烯珠體421利用氧（02)等離子體11蝕刻，并且聚苯乙烯珠體421被氧等離 子體11相互隔開。即，在聚苯乙烯珠體421之間的間隔由氧等離子體11控制。
[0130] 聚苯乙烯珠體421改變?yōu)橹轶w掩模422。即，珠體421實現(xiàn)為在珠體421a和珠體 421b之間具有間隔（L)的珠體掩模422。
[0131] 金屬層411利用等離子體12蝕刻。等離子體12可以由氯氣（Cl2)、氧氣（0 2)和氬 氣（Ar)之一形成，或者可以是包括在氯氣（Cl2)、氧氣（02)和氬氣（Ar)中的至少兩種的混 合氣體。例如，等離子體12可以是氯等離子體。
[0132] 金屬層411通過使用珠體掩模422而被圖案化。因為珠體掩模422具有納米結(jié)構(gòu)， 所以珠體掩模422可以被用作用于納米圖案化金屬層411的基本掩模。利用等離子體12， 珠體掩模以點的形式轉(zhuǎn)移到金屬層411上，并且金屬層411得以蝕刻。
[0133] 結(jié)果，金屬層411改變呈點的形式的金屬掩模412。例如，如果金屬層411是鉻薄 膜，則鉻薄膜改變呈點的形式的鉻掩模412。鉻掩模具有呈金屬點的形式的納米尺寸。艮P， 鉻掩模由納米顆粒構(gòu)成。金屬掩模412和珠體掩模422用作雙層掩模。
[0134] 玻璃基板301的表面被蝕刻?；A(chǔ)基板310的表面可以通過使用氣體13蝕刻?？?以使用在氟基CF 4、C4F8和CHF3、氟基CF4、C 4F8和CHF3的混合氣體或者在氟基氣體和添加劑 氣體之間的混合氣體中的至少一種作為用于蝕刻基礎(chǔ)基板310的氣體。添加劑氣體可以用 于激活等離子體的離子密度和HF成分。例如，添加劑氣體可以包括0 2和H2中的至少一種。
[0135] 通過使用金屬掩模412蝕刻玻璃基板301的表面。因為金屬掩模412具有納米結(jié) 構(gòu)，所以玻璃基板301的表面被蝕刻成納米結(jié)構(gòu)。結(jié)果，具有納米結(jié)構(gòu)的玻璃基板301得以 形成。
[0136] 具有納米結(jié)構(gòu)的玻璃基板301的表面被清洗。玻璃基板301的表面可以利用酸基 蝕刻溶液清洗。在玻璃基板301上保留的金屬材料可以利用蝕刻溶液移除。蝕刻溶液可以 包括鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種。即，可以通過使用鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨 中的至少一種清洗具有納米結(jié)構(gòu)的玻璃基板301的表面。結(jié)果，在玻璃基板301上保留的 金屬材料(例如，鉻殘余）可以被蝕刻，并且可以獲得玻璃基板301的清洗效果。
[0137] 在基礎(chǔ)基板310的一個表面上形成納米結(jié)構(gòu)。可以利用已經(jīng)通過在金屬掩模412 的金屬顆粒之間的間隙的氣體106蝕刻納米結(jié)構(gòu)的凹槽。
[0138] 通過在觸摸窗口的折射率和在納米結(jié)構(gòu)下面的顯示面板的折射率之間匹配，由根 據(jù)本發(fā)明的制造顯示器的方法制造的基礎(chǔ)基板310實現(xiàn)低反射和高透射性，而不另外地使 用抗反射性（AR)涂覆膜。采用本發(fā)明的基礎(chǔ)基板310作為蓋玻片的顯示器具有優(yōu)良的可 視性。
[0139] 圖8A到8E是根據(jù)本發(fā)明的再一個實施例用于解釋具有納米結(jié)構(gòu)的觸摸窗口的概 念圖。
[0140] 首先，玻璃基板301的表面被清洗。玻璃基板301由彼此相對的第一表面301a和 第二表面301b構(gòu)成。玻璃基板301可以由鈉鈣玻璃、鉛堿玻璃、硼硅玻璃、石英玻璃和鋰鋁 硅酸鹽玻璃中的至少一種形成。
[0141] 在玻璃基板301的第一表面301a上涂覆珠體421?？梢詫⒅轶w421在玻璃基板 301上涂覆為單層。珠體421可以是由聚合物材料形成的納米珠體。
[0142] 珠體421可以是聚苯乙烯珠體。聚苯乙烯珠體421可以具有納米尺寸。例如，聚苯 乙烯珠體421可以是具有100nm的直徑的球體?？梢詫⒕郾揭蚁┲轶w421在玻璃基板301 上涂覆為單層。
[0143] 可以通過使用旋涂方法和噴涂方法中的至少一種在玻璃基板301上涂覆聚苯乙 烯珠體421?？梢酝ㄟ^使用旋涂方法和噴涂方法中的至少一種，將聚苯乙烯珠體421在玻璃 基板301上涂覆為單層。
[0144] 接著，聚苯乙烯珠體421利用氧（02)等離子體11蝕刻，并且聚苯乙烯珠體421被 氧等離子體11相互隔開。即，在聚苯乙烯珠體421a和聚苯乙烯珠體421b之間的間隔由氧 等離子體11控制。
[0145] 聚苯乙烯珠體421改變?yōu)橹轶w掩模422。即，聚苯乙烯珠體421實現(xiàn)為在珠體421a 和珠體421b之間具有間隔（L)的珠體掩模422。
[0146] 金屬層430在玻璃基板301的第一表面301a上沉積。金屬層430可以是由鉻（Cr) 形成的膜?？商娲?，金屬層430可以是鉻薄膜，或者鉻金屬薄膜。鉻（Cr)可以在玻璃基 板310上沉積，從而能夠在玻璃基板301和珠體掩模422上形成鉻層。
[0147] 金屬層430利用等離子體14蝕刻。等離子體12可以由氯氣（Cl2)、氧氣（0 2)和氬 氣（Ar)之一形成，或者可以是包括在氯氣（Cl2)、氧氣（02)和氬氣（Ar)中的至少兩種的混 合氣體。例如，等離子體14可以是氯等離子體。
[0148] 金屬層430通過使用珠體掩模422而被圖案化。因為珠體掩模422具有納米結(jié)構(gòu)， 所以珠體掩模422可以被用作用于納米圖案化金屬層430的基本掩模。通過等離子體14， 珠體掩模以點的形式轉(zhuǎn)移到金屬層430上，并且金屬層430得以蝕刻。
[0149] 結(jié)果，金屬層430改變呈點的形式的金屬掩模431。例如，如果金屬層430是鉻薄 膜，則鉻薄膜改變?yōu)槌庶c的形式的鉻掩模。鉻掩模具有呈點的形式的納米尺寸。即，鉻掩模 由納米顆粒構(gòu)成。珠體掩模422和金屬掩模431用作雙層掩模。
[0150] 玻璃基板301的表面被蝕刻。玻璃基板301的表面可以通過使用氣體13蝕刻?？?以使用在氟基CF 4、C4F8和CHF3、包括在氟基CF4、C 4F8和CHF3中的至少兩種的混合氣體或者 在氟基氣體和添加劑氣體之間的混合氣體中的一種作為用于蝕刻玻璃基板301的氣體。添 加劑氣體可以用于激活等離子體的離子密度和HF成分。例如，添加劑氣體可以包括0 2和 H2中的至少一種。
[0151] 通過使用金屬掩模431蝕刻玻璃基板301的表面。因為金屬掩模431具有納米結(jié) 構(gòu)，所以玻璃基板301的表面被蝕刻成納米結(jié)構(gòu)。結(jié)果，獲得了具有納米結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)基板 310。
[0152] 利用酸基蝕刻溶液清洗基礎(chǔ)基板310的表面。在基礎(chǔ)基板310上保留的金屬層可 以利用酸基蝕刻溶液移除。蝕刻溶液可以包括鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種。即， 可以通過使用鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種清洗基礎(chǔ)基板310的表面。結(jié)果，在 基礎(chǔ)基板310上保留的金屬材料(例如，絡(luò)殘余)可以被蝕刻，并且可以獲得基礎(chǔ)基板310的 清洗效果。
[0153] 在基礎(chǔ)基板310上形成納米結(jié)構(gòu)?？梢岳靡呀?jīng)通過在金屬掩模431的金屬顆粒 之間的間隙的氣體15蝕刻納米結(jié)構(gòu)的凹槽。
[0154] 通過利用納米結(jié)構(gòu)208在觸摸窗口的折射率和顯示面板的折射率之間匹配，由根 據(jù)本發(fā)明的制造觸摸顯示單元的方法制造的基礎(chǔ)基板310實現(xiàn)低反射和高透射性，而不另 外地使用抗反射性（AR)涂覆膜。采用本發(fā)明的基礎(chǔ)基板310作為蓋玻片的顯示器具有優(yōu) 良的可視性。
[0155] 圖9A到9E是根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例用于解釋用于制造觸摸窗口的基礎(chǔ)基板 的過程的概念圖。
[0156] 首先，玻璃基板301被清洗。在玻璃基板301的第一表面301a上沉積金屬層411。 例如，金屬層411可以是由鉻（Cr)形成的膜?？商娲?，金屬層411可以是由鉻或者鉻金 屬形成的薄膜。因此，在第一表面301a上形成鉻層。
[0157] 熱量被施加到已經(jīng)形成有鉻層411的玻璃基板301。金屬層411第一表面301a上 凝聚成多個金屬顆粒。金屬顆粒具有相互間不同的尺寸和形狀，并且被不規(guī)則地布置。優(yōu) 選地，金屬顆粒形成為具有至少可見光線的波長的尺寸和間距。即，金屬層411經(jīng)歷初級退 火過程。
[0158] 金屬顆粒用作金屬掩模412。在金屬掩模412和玻璃基板301上涂覆樹脂層440。
[0159] 已經(jīng)在其上涂覆樹脂層440的玻璃基板301經(jīng)歷二級退火過程。在通過二級退火 過程移除樹脂層440的一個部分時，樹脂層440改變?yōu)橛啥鄠€樹脂片構(gòu)成的樹脂掩模441。 艮P，金屬掩模412和樹脂掩模440在第一表面301a上形成。即，在玻璃基板301上形成雙 重掩模。
[0160] 然后已經(jīng)形成有雙重掩模的、玻璃基板的第一表面301a被蝕刻?？梢酝ㄟ^使用氣 體13蝕刻第一表面301a?？梢允褂迷诜鵆F4、C4F8和CHF 3、包括在氟基CF4、C4F8和CHF3 中的至少兩種的混合氣體或者在氟基氣體和添加劑氣體之間的混合氣體中的一種作為氣 體13。添加劑氣體可以用于激活等離子體的離子密度和HF成分。例如，添加劑氣體可以包 括0 2和112中的至少一種。
[0161] 通過使用雙重掩模蝕刻玻璃基板301的表面。因為樹脂掩模441和金屬掩模412 具有納米結(jié)構(gòu)，所以玻璃基板301的表面被蝕刻成納米結(jié)構(gòu)。
[0162] 具有納米結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)基板310的表面被清洗。可以利用酸基蝕刻溶液清洗基礎(chǔ)基 板310的表面。
[0163] 利用酸基蝕刻溶液移除在基礎(chǔ)基板310上保留的金屬材料。蝕刻溶液可以包括鹽 酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種。即，可以通過使用鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至 少一種清洗基礎(chǔ)基板310的表面。結(jié)果，在基礎(chǔ)基板310上保留的金屬材料(例如，鉻殘余） 可以被蝕刻，并且可以獲得基礎(chǔ)基板310的清洗效果。
[0164] 在該實施例中，作為用于蝕刻玻璃基板301的雙重掩模，能夠形成更加微小的圖 案。此外，因為金屬掩模412的蝕刻現(xiàn)象減輕，所以能夠在玻璃基板上形成更加精確的納米 圖案。
[0165] 圖10A到10E是根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例用于解釋用于制造觸摸窗口的基礎(chǔ)基 板的過程的概念圖。
[0166] 首先，玻璃基板301被清洗。在玻璃基板301的第一表面30la上涂覆樹脂層440。 在樹脂層440上形成金屬層411。金屬層411可以由銀（Ag)或者鉻（Cr)形成。
[0167] 熱量被施加到在玻璃基板301的第一表面301a上形成的金屬層411，由此形成金 屬掩模412。金屬掩模412由通過熱轉(zhuǎn)換的多個金屬片構(gòu)成。
[0168] 在其中已經(jīng)在樹脂層440上形成金屬掩模412的狀態(tài)下，通過使用等離子體14蝕 刻樹脂層440。等離子體14可以被實現(xiàn)為氯氣（Cl 2)、氧氣（02)和氬氣（Ar)之一，或者可以 被實現(xiàn)為包括氯氣（Cl2)、氧氣（0 2)和氬氣（Ar)中的至少兩種的混合氣體。例如，等離子體 14可以是氯等離子體。
[0169] 樹脂掩模441由金屬掩模412形成。樹脂掩模441由在對應(yīng)于金屬掩模412的區(qū) 域處形成的多個樹脂片構(gòu)成。
[0170] 樹脂掩模441和金屬掩模412形成雙重掩模。在其中已經(jīng)在第一表面301a上形 成雙重掩模的狀態(tài)下，玻璃基板310被蝕刻。
[0171] 可以通過使用氣體13蝕刻第一表面301a。可以使用在氟基CF4、C4F 8和CHF3、包括 在氟基CF4、C4F 8和CHF3中的至少兩種的混合氣體或者在氟基氣體和添加劑氣體之間的混合 氣體中的一種作為氣體13。添加劑氣體可以用于激活等離子體的離子密度和HF成分。例 如，添加劑氣體可以包括〇 2和H2中的至少一種。
[0172] 可以利用酸基蝕刻溶液清洗基礎(chǔ)基板310的表面?？梢岳梦g刻溶液移除金屬掩 模 412。
[0173] 蝕刻溶液可以包括鹽酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種。即，可以通過使用鹽 酸、硝酸、過氧化氫和氨中的至少一種清洗基礎(chǔ)基板310的表面。
[0174] 在基礎(chǔ)基板310的第一表面上形成納米結(jié)構(gòu)。可以利用已經(jīng)通過在金屬掩模412 的金屬顆粒之間的間隙的氣體13蝕刻納米結(jié)構(gòu)的凹槽。
[0175] 在該實施例中，由于雙重掩模，納米圖案能夠被以更加均勻的方式形成。
[0176] 圖11A到11D是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例用于解釋用于形成基礎(chǔ)基板的過程的 視圖。
[0177] 首先，形成具有第一表面301a和第二表面301b的基礎(chǔ)基板310,并且基礎(chǔ)基板 310在第一表面301a上包括具有多個凹槽（G，參考圖6)的凹凸部分310a。
[0178] 在蓋玻片300'上沉積模制部件501。已經(jīng)形成有模制部件501的蓋玻片300'布 置成面對基礎(chǔ)基板310的第一表面301a。然后將壓力施加到蓋玻片300'。
[0179] 雖然未示出，但是當(dāng)向蓋玻片300'施加壓力時，可以使用配置為支撐蓋玻片300' 并且向蓋玻片300'和基礎(chǔ)基板310施加壓力的金屬圖案。
[0180] 在已經(jīng)將壓力施加到蓋玻片300'和基礎(chǔ)基板310之后，基礎(chǔ)基板310被從蓋玻片 300'移除。可以利用凹凸部分310a在模制層510處形成對應(yīng)于基礎(chǔ)基板310的凹凸部分 310a的納米圖案。例如，利用凹凸部分310a的多個凹槽，模制層510的一個表面可以向外 側(cè)關(guān)出。
[0181] 可以在蓋玻片300的一個表面上形成具有納米尺寸凹凸圖案的模制部件510。模 制部件可以由透明材料形成，允許光通過該透明材料。因此，從顯示面板發(fā)射的光可以通過 蓋玻片300'和具有納米尺寸凹凸納米圖案的模制部件510提供給用戶。
[0182] 可以在凹凸層501上形成電極層320。
[0183] 可以通過使用包括凹凸部分310a的基礎(chǔ)基板和模制過程制造具有基本與凹凸部 分310a相同的凹凸圖案的蓋玻片。
[0184] 可以利用圖5A到?的過程和圖6A到6C的過程形成單一觸摸窗口?？梢栽诨A(chǔ) 基板的一個表面上形成凹凸結(jié)構(gòu)。并且可以通過使用具有凹凸圖案的另一個基礎(chǔ)基板在基 礎(chǔ)基板的另一個表面上形成凹凸圖案。即，可以通過不同的制造過程在基礎(chǔ)基板的兩個表 面上形成凹凸結(jié)構(gòu)。
[0185] 圖12A到12C是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例用于解釋觸摸窗口的結(jié)構(gòu)的概念圖。
[0186] 參考圖4和12A，根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的觸摸窗口 313包括第一表面313a 和第二表面313b。第一表面313a和第二表面313b形成包括多個納米尺寸凹槽的凹凸結(jié) 構(gòu)。
[0187] 由于在第一表面313a上形成的凹凸結(jié)構(gòu)，從外側(cè)入射到觸摸窗口上的光的反射 量能夠最小化。在其中在明亮的場所處使用觸摸窗口的情形中，從外側(cè)入射到觸摸窗口上 的光被從觸摸窗口的最外表面反射。由于這種反射，用戶不能精確地辨識從顯示面板輸出 的圖像。
[0188] 在該實施例中，在觸摸窗口的外表面上形成凹凸結(jié)構(gòu)，光入射到該外表面上。在這 種配置下，通過觸摸窗口的光的折射率的變化減小，并且因此光的反射性減小。因為用戶不 能容易地辨識反射光，所以耀眼的現(xiàn)象能夠最小化并且從顯示面板輸出的圖像能夠被更加 精確地辨識。
[0189] 雖然未示出，但是可以進(jìn)一步在蓋玻片313的一個表面上形成指紋防止膜，從而 防止在觸摸窗口 313上形成移動終端外觀的指紋。
[0190] 參考圖12B，觸摸屏面板300可以包括基礎(chǔ)基板310、電極層320、填充材料360、粘 結(jié)膜330和顯示面板200。除了電極層320,觸摸屏面板300具有與圖4的觸摸窗口相同的 配置。相同的構(gòu)件被賦予相同的附圖標(biāo)記，并且將省略其詳細(xì)解釋。
[0191] 參考圖12C，電極層320包括第一電極321、第二電極322和絕緣層323。絕緣層 323可以在第一電極321和第二電極322之間形成。絕緣層323由用于將第一電極321和 第二電極322相互絕緣的絕緣材料形成。
[0192] 優(yōu)選地，絕緣層323在部分地在基礎(chǔ)基板310上形成的第一電極321上形成。
[0193] 圖12C的觸摸窗口包括基礎(chǔ)基板310、第一電極321、透明粘結(jié)膜370、第二電極 322、ΙΤ0膜380和顯示面板200。
[0194] 根據(jù)這個實施例的基礎(chǔ)基板310可以由ΙΤ0膜涂覆玻璃形成。通過在玻璃基板上 沉積透明傳導(dǎo)金屬膜（ΙΤ0,32Γ)形成基礎(chǔ)基板310。當(dāng)在形成納米尺寸凹凸結(jié)構(gòu)時形成凹 槽（G)時，ΙΤ0膜被部分地移除。結(jié)果，可以由涂覆的ΙΤ0膜限定開放區(qū)域（ΤΑ)和感測區(qū)域 (SA)。
[0195] 透明粘結(jié)膜370 (光透明粘結(jié)劑，0CA)在基礎(chǔ)基板310下方形成。由ΙΤ0膜形成 的電極層322'在透明粘結(jié)膜370下方形成。電極層322'沒有設(shè)置任何凹槽。
[0196] 顯示面板200在電極層322 '下方形成。
[0197] 前面的實施例和優(yōu)點僅僅是示例性的而將不被視為限制本公開。本教示能夠易于 應(yīng)用于其它類型的設(shè)備。該說明旨在是示意性的而非限制權(quán)利要求的范圍。很多可替代形 式、修改和變型對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說將是明顯的。在這里描述的示例性實施例的特征、 結(jié)構(gòu)、方法和其它特性可以被以各種方式組合以獲得另外和/或可替代的示例性實施例。
[0198] 因為目前的特征可以在不偏離其特性的情況下被以幾種形式體現(xiàn)，所以還應(yīng)該理 解，上述實施例不受前面的說明的任何細(xì)節(jié)限制，除非另有規(guī)定，而是實際上應(yīng)該在它的、 如在所附權(quán)利要求中限定的范圍內(nèi)被一般性地考慮，并且因此落入權(quán)利要求的范圍或者這 種范圍的等價形式內(nèi)的所有的改變和修改因此旨在被所附權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1. 一種觸摸顯示單元，包括： 具有第一表面和第二表面的基礎(chǔ)基板，用戶的觸摸施加于所述第一表面，所述第二表 面具有帶多個凹槽的凹凸圖案； 在所述第二表面上形成的電極層，所述電極層具有用于產(chǎn)生與用戶的觸摸對應(yīng)的電信 號的感測區(qū)域，并且具有與所述多個凹槽的一部分對應(yīng)的開放區(qū)域；和 在所述電極層下方形成的顯示面板，所述的顯示面板向所述基礎(chǔ)基板提供光。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸顯示單元，其中，所述凹槽以納米尺寸不規(guī)則地形成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸顯示單元，其中，所述電極層包括： 在所述凹凸圖案上形成的第一電極層； 在所述第一電極層上形成的絕緣部件；和 在所述絕緣部件上形成的第二電極層。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸顯示單元，其中，所述電極層包括： 在所述凹凸圖案上形成的第一電極層； 在所述基礎(chǔ)基板的所述第二表面上形成的透明粘結(jié)膜；和 在所述透明粘結(jié)膜上形成并且與所述第一電極層一起形成電信號的第二電極層。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸顯示單元，其中，所述基礎(chǔ)基板的所述第一表面包括具 有多個凹槽的凹凸圖案，以便散射從外側(cè)入射到所述基礎(chǔ)基板上的光。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸摸顯示單元，進(jìn)一步包括在所述基礎(chǔ)基板的所述第一表面 上的膜，以便防止異物被引入所述基礎(chǔ)基板中，所述第一表面暴露于外側(cè)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸顯示單元，其中，所述基礎(chǔ)基板包括： 形成所述基礎(chǔ)基板的外表面的玻璃基板；和 由模制部件形成的凹凸層，所述模制部件的一個表面附接到所述玻璃基板的一側(cè)，并 且具有所述凹凸圖案的凹凸部分形成在所述模制部件的另一個表面。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸摸顯示單元，其中，所述玻璃基板具有在所述玻璃基板的 另一個表面上對應(yīng)于所述凹凸圖案地形成的納米尺寸凹槽。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸顯示單元，其中，所述電極層包括： 在所述凹凸圖案上形成的第一電極；和 在所述顯示面板上形成并且配置為與所述第一電極一起感測用戶觸摸的第二電極。
10. -種用于制造觸摸顯示單元的方法，所述方法包括如下步驟： 在玻璃基板的一個表面上形成納米掩模； 利用所述納米掩模來蝕刻所述玻璃基板的所述一個表面，由此形成包括多個凹槽的凹 凸結(jié)構(gòu)； 移除所述納米掩模；和 在所述玻璃基板的包括所述多個凹槽的所述一個表面上形成電極層。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成納米掩模的步驟包括： 在所述玻璃基板的一個表面上形成金屬層；和 向已經(jīng)形成有所述金屬層的所述玻璃基板施加熱量，使所述金屬層凝聚，由此形成由 金屬片構(gòu)成的納米掩模。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成電極層的步驟包括： 基于基準(zhǔn)方向以預(yù)設(shè)傾斜角度固定所述玻璃基板；和 通過在所述基準(zhǔn)方向上向所述玻璃基板提供氣體，在所述玻璃基板的一個表面上形成 電極層。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括： 在蓋玻片上沉積模制部件； 將所述玻璃基板布置在所述模制部件上，使得所述玻璃基板的一個表面面對所述蓋玻 片； 擠壓所述玻璃基板，使得利用所述凹槽在所述模制部件處形成凹凸圖案；和 移除所述玻璃基板。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進(jìn)一步包括在所述模制層的已經(jīng)形成有所述凹凸圖 案的一個表面上形成電極層， 其中所述模制部件由透明材料形成。
15. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，進(jìn)一步包括： 在所述玻璃基板的另一個表面上形成金屬層； 向已經(jīng)形成有所述金屬層的所述玻璃基板施加熱量，由此使所述金屬層凝聚；和 通過將利用熱量而凝聚成的多個金屬片用作掩模，在所述玻璃基板的另一個表面上形 成多個凹槽。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括在所述玻璃基板的另一個表面上形成 膜，以便防止異物被引入所述玻璃基板中。
17. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成納米掩模的步驟包括： 在所述玻璃基板的一個表面上形成金屬層； 在所述金屬層上形成由多個珠體形成的單一珠體層； 通過使用氧等離子體蝕刻所述珠體，并且在所述珠體之間具有間隔的情況下將所述珠 體相互分離；和 通過將所述珠體用作掩模來蝕刻所述金屬層，由此形成由金屬片構(gòu)成的納米掩模。
18. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成納米掩模的步驟包括： 在所述玻璃基板的一個表面上形成由多個珠體形成的單一珠體層； 通過使用氧等離子體蝕刻所述珠體，并且在所述珠體之間具有間隔的情況下將所述珠 體相互分離； 在包括所述珠體的所述玻璃基板上形成金屬層；和 通過使用等離子體，將所述珠體和在所述珠體下方形成的金屬層形成為納米掩模。
19. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成納米掩模的步驟包括： 在所述玻璃基板的一個表面上形成金屬層； 向所述金屬層施加熱量，形成利用熱量而凝聚成的多個金屬片，由此形成由金屬片構(gòu) 成的金屬掩模； 在所述金屬掩模和所述玻璃基板上形成樹脂層；和 向所述樹脂層施加等離子體，由此形成由多個樹脂片構(gòu)成的樹脂掩模。
20. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，形成納米掩模的步驟包括： 在所述玻璃基板的一個表面上形成樹脂層； 在所述樹脂層上形成金屬層； 通過將熱量施加于所述金屬層而使所述金屬層凝聚，并且形成由多個金屬片構(gòu)成的金 屬掩模；和 通過使用所述金屬掩模來蝕刻所述樹脂層。
【文檔編號】G06F3/041GK104102377SQ201410129180
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年4月1日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月1日
【發(fā)明者】樸周度, 田成萬, 金用大, 金東賢 申請人:Lg電子株式會社