高光譜圖像處理方法及裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種高光譜圖像處理方法及裝置，該方法包括：確定待處理的高光譜圖像；從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)；對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果。本實施例的高光譜圖像處理方法，通過確定待處理的高光譜圖像，從待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)，對異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果。這樣，從高光譜圖像中提取異常目標(biāo)，并對異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果，能夠降低虛警率，從而提高定位精度。
【專利說明】高光譜圖像處理方法及裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，尤其涉及一種高光譜圖像處理方法及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]高光譜圖像數(shù)據(jù)作為一個三維的數(shù)據(jù)立方體，在提供地物空間維的紋理和位置信息的同時，第三維光譜維又包含了地物豐富的光譜特征信息，因此在對地物識別能力上有其他探測影像所不能比擬的優(yōu)勢。
[0003]高光譜圖像對地物目標(biāo)識采用光譜識別的方法，利用統(tǒng)計學(xué)知識找尋與背景環(huán)境存在光譜差異的目標(biāo)點可以在沒有先驗信息的條件下完成對異常目標(biāo)的檢測。例如，在沒有目標(biāo)光譜先驗知識的情況下定位與鄰域背景或全局背景存在明顯光譜差異的異常點。
[0004]但是，這種方法容易受到背景噪聲分布和異常點面積的影響，存在檢測結(jié)果虛警率過高的問題，影響定位精度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實施例提供一種高光譜圖像處理方法及裝置，能夠降低虛警率，從而提高定位精度。
[0006]本發(fā)明實施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]一種高光譜圖像處理方法，包括:
[0008]確定待處理的高光譜圖像；
[0009]從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)；
[0010]對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果。
[0011]可選的，所述從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)包括:
[0012]根據(jù)SMd(r) = (r-yb)tIT1O-yb)從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)，其
中，Snd(r)為RXD檢測算子，r為高光譜圖像中任一像元的光譜矢量
【權(quán)利要求】
1.一種高光譜圖像處理方法，其特征在于，包括: 確定待處理的高光譜圖像； 從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)； 對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)包括: 根據(jù)δ (r) = (r-μ b)Tr1(1-Ub)從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)，其中，δ rxd(r)為RXD檢測算子，r為高光譜圖像中任一像元的光譜矢量，
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果包括: 根據(jù)Xb=[Xl，X2，...χπ]分離異常目標(biāo)，其中Xb為LXM的矩陣，L為高光譜圖像的波段數(shù)，M為背景數(shù)據(jù)中像素點的數(shù)量，Xi=[Xl，X2，...χ」，X為待檢測點向量，η表示背景噪聲，s為目標(biāo)光譜向量,如果χ=η且a=0則不存在待分離目標(biāo),如果x=ax+n且a > O則存在待分離的異常目標(biāo)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果之后，還包括: 將Ku值用
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定待處理的高光譜圖像包括: 獲取高光譜影像； 從獲取的高光譜影像中去除誤差譜段后，從中選取目標(biāo)波段影像組成的待檢測數(shù)據(jù)立方體，得到所述待處理的高光譜圖像。
6.一種高光譜圖像處理裝置，其特征在于，包括: 確定模塊，用于確定待處理的高光譜圖像； 提取模塊，用于從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)； 處理模塊，用于對所述異常目標(biāo)進(jìn)行分離處理，得到異常檢測結(jié)果。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述提取模塊具體用于: 根據(jù)δ (r) = (r-μ b)Tr1(1-Ub)從所述待處理的高光譜圖像中提取異常目標(biāo)，其中，δ rxd(r)為RXD檢測算子，r為高光譜圖像中任一像元的光譜矢量，
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述處理模塊具體用于: 根據(jù)Xb=[Xl，X2，...χπ]分離異常目標(biāo)，其中Xb為LXM的矩陣，L為高光譜圖像的波段數(shù)，M為背景數(shù)據(jù)中像素點的數(shù)量，Xi=[Xl，X2，...χ」，X為待檢測點向量，η表示背景噪聲，s為目標(biāo)光譜向量,如果χ=η且a=0則不存在待分離目標(biāo),如果x=ax+n且a > O則存在待分離的異常目標(biāo)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述處理模塊還用于: 將Ku值用

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述確定模塊具體用于: 獲取高光譜影像；從獲取的高光譜影像中去除誤差譜段后，從中選取目標(biāo)波段影像組成的待檢測數(shù)據(jù)立方體，得到所述待處理的高光譜圖像。
【文檔編號】G06T7/00GK103606157SQ201310627384
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年11月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月28日
【發(fā)明者】曾曉茹, 呂群波, 張桂峰 申請人:中國科學(xué)院光電研究院