一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，離子濺射儀本體的內(nèi)部設(shè)有支撐架，該支撐架的上部固定有支撐板，在支撐板的一側(cè)設(shè)有第一磁鐵，支撐板的下部設(shè)有轉(zhuǎn)軸向上的電機(jī)，該電機(jī)通過聯(lián)軸器與貫穿支撐板的連接軸相連，連接軸的上部設(shè)有開口向上的U型支架，樣品盒通過設(shè)置于樣品盒底側(cè)中部的凸耳與固定于U型支架上的銷軸鉸接，該樣品盒的底側(cè)兩端分別設(shè)有與支撐板上第一磁鐵位置對應(yīng)的第二磁鐵，蓋板上設(shè)有與樣品盒相對的靶頭。本實(shí)用新型通過啟動電機(jī)即可實(shí)現(xiàn)樣品盒同時上下擺動和水平轉(zhuǎn)動，以便于對樣品進(jìn)行全方位、均勻性的噴鍍，最終觀察時得到一個良好的圖像。
【專利說明】
一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于離子濺射儀輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架。
【背景技術(shù)】
[0002]離子濺射儀鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電產(chǎn)生帶正電荷的氣體離子，在陰極和陽極之間電壓的加速作用下，帶正電荷的氣體離子轟擊陰極表面使陰極表面材料原子化形成中性原子，從各個方向?yàn)R出并濺落到試樣的表面，于是在試樣表面形成一層均勻的薄膜。離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、銀、鉑以及混合靶材等金屬元素消除了不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高了觀測效果。另外，還可以使用噴鍍附件對樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定性分析。目前的濺射儀樣品架為固定的，無法使濺射材料濺射到樣品的側(cè)面，降低了樣品的導(dǎo)電性，還無法實(shí)現(xiàn)樣品全面性和均勻性的噴鍍，使得在掃描電鏡中無法得到更加清晰的圖像。現(xiàn)階段需要得到清晰的圖像就要對樣品進(jìn)行多次噴鍍，既浪費(fèi)了材料，也消耗了靶頭，如果對樣品側(cè)面進(jìn)行噴鍍就需要對樣品側(cè)面進(jìn)行墊高，使樣品呈現(xiàn)一定的角度，如此往復(fù)，使側(cè)面獲得全部噴鍍，但是噴鍍的效果仍然不理想，得不到均勻噴鍍，鍍層薄的部分導(dǎo)電性不好，鍍層厚的部分影響樣品形貌，實(shí)驗(yàn)達(dá)不到預(yù)期效果。由此可見，為了使離子濺射儀對樣品噴鍍?nèi)婧途鶆?，增?qiáng)其導(dǎo)電性，有必要對現(xiàn)有的離子濺射儀樣品架結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型解決的技術(shù)問題是提供了一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，該離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架可以使樣品得到全方位、均勻性的噴鍍效果。
[0004]本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題采用如下技術(shù)方案，一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，包括離子濺射儀本體和設(shè)置于離子濺射儀本體上部的蓋板，其特征在于:所述的離子濺射儀本體的內(nèi)部設(shè)有支撐架，該支撐架的上部固定有支撐板，在支撐板的一側(cè)設(shè)有第一磁鐵，支撐板的下部設(shè)有轉(zhuǎn)軸向上的電機(jī)，該電機(jī)通過聯(lián)軸器與貫穿支撐板的連接軸相連，連接軸的上部設(shè)有開口向上的U型支架，樣品盒通過設(shè)置于樣品盒底側(cè)中部的凸耳與固定于U型支架上的銷軸鉸接，該樣品盒的底側(cè)兩端分別設(shè)有與支撐板上第一磁鐵位置對應(yīng)的第二磁鐵，所述的蓋板上設(shè)有與樣品盒相對的靶頭。
[0005]進(jìn)一步優(yōu)選，所述的離子濺射儀本體的側(cè)壁上設(shè)有離子濺射儀控制面板。
[0006]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下有益效果:通過啟動電機(jī)即可實(shí)現(xiàn)樣品盒同時上下擺動和水平轉(zhuǎn)動，以便于對樣品進(jìn)行全方位、均勻性的噴鍍，最終觀察時得到一個良好的圖像，另外本實(shí)用新型降低了運(yùn)行成本，避免了不必要的浪費(fèi)，降低了對靶頭的消耗。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0008]圖中:1、靶頭，2、樣品盒，3、U型支架，4、連接軸，5、聯(lián)軸器，6、電機(jī)，7、支撐架，8、支撐板，9、第一磁鐵，1、第二磁鐵，11、蓋板，12、離子濺射儀控制面板，13、離子濺射儀本體。
【具體實(shí)施方式】
[0009]結(jié)合附圖詳細(xì)描述本實(shí)用新型的具體內(nèi)容。一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，包括離子濺射儀本體13和設(shè)置于離子濺射儀本體13上部的蓋板11，所述的離子濺射儀本體13的內(nèi)部設(shè)有支撐架7，該支撐架7的上部固定有支撐板8，在支撐板8的一側(cè)設(shè)有第一磁鐵9，支撐板8的下部設(shè)有轉(zhuǎn)軸向上的電機(jī)6，該電機(jī)6通過聯(lián)軸器5與貫穿支撐板8的連接軸4相連，連接軸4的上部設(shè)有開口向上的U型支架3，樣品盒2通過設(shè)置于樣品盒2底側(cè)中部的凸耳與固定于U型支架3上的銷軸鉸接，該樣品盒2的底側(cè)兩端分別設(shè)有與支撐板8上第一磁鐵9位置對應(yīng)的第二磁鐵10，所述的蓋板11上設(shè)有與樣品盒2相對的靶頭I，所述的離子濺射儀本體13的側(cè)壁上設(shè)有離子濺射儀控制面板12。
[0010]本實(shí)用新型的使用過程為:首先將樣品放置于樣品盒中，通過離子濺射儀面板上的控制按鈕啟動電機(jī)和靶頭，樣品盒在旋轉(zhuǎn)的過程中上下擺動，靶頭可以將濺射材料噴鍍到樣品的表面和側(cè)面，實(shí)現(xiàn)了對樣品進(jìn)行全方位、均勻性的噴鍍，并且降低了運(yùn)行成本。
[0011]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理，主要特征和優(yōu)點(diǎn)，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，包括離子濺射儀本體和設(shè)置于離子濺射儀本體上部的蓋板，其特征在于:所述的離子濺射儀本體的內(nèi)部設(shè)有支撐架，該支撐架的上部固定有支撐板，在支撐板的一側(cè)設(shè)有第一磁鐵，支撐板的下部設(shè)有轉(zhuǎn)軸向上的電機(jī)，該電機(jī)通過聯(lián)軸器與貫穿支撐板的連接軸相連，連接軸的上部設(shè)有開口向上的U型支架，樣品盒通過設(shè)置于樣品盒底側(cè)中部的凸耳與固定于U型支架上的銷軸鉸接，該樣品盒的底側(cè)兩端分別設(shè)有與支撐板上第一磁鐵位置對應(yīng)的第二磁鐵，所述的蓋板上設(shè)有與樣品盒相對的靶頭。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子濺射儀旋轉(zhuǎn)傾斜樣品架，其特征在于:所述的離子濺射儀本體的側(cè)壁上設(shè)有離子濺射儀面板。
【文檔編號】G01Q30/20GK205581138SQ201620407094
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2016年5月9日
【發(fā)明人】陳得軍, 馬澤鼎, 潘家梁, 萬振天
【申請人】河南師范大學(xué)