水浸線聚焦探頭的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種超聲波探頭，特別涉及一種水浸線聚焦探頭。
【背景技術】
[0002]為了提高探測精度，有些探頭的外殼上設置有刻度。而這種刻度大多數(shù)是通過人眼測量，誤差很大，特別是水浸探頭，與工件處于非接觸狀態(tài)，如何對準刻度對檢測精度尤為重要。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明要解決的技術問題是:為了克服現(xiàn)有技術的不足，本發(fā)明提供一種水浸線聚焦探頭。
[0004]本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是:一種水浸線聚焦探頭，包括殼體，所述殼體具有探測面和兩個相對的側面，兩個側面均與探測面垂直，且其中一個側面上具有刻度線，所述刻度線延伸到刻度線所在的側面與探測面的相交線上，具有刻度線的側面上設置有一紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器的發(fā)射方向與刻度線的延伸方向平行。
[0005]為了方便調節(jié)紅外發(fā)射器的位置，便于對準，具有刻度線的側面上開設有凹槽，所述紅外發(fā)射器與所述側面在凹槽處滑動連接，所述凹槽的長度延伸方向與刻度線的分布方向相同。因此，紅外發(fā)射器能夠沿凹槽的長度方向前后移動，即沿刻度線的分布方向前后移動。
[0006]為了便于滑動，所述凹槽底部和紅外發(fā)射器之間嵌入有玻璃珠，所述凹槽底部和紅外發(fā)射器均與玻璃珠滾動連接。
[0007]所述紅外發(fā)射器具有一個側面為弧面。這樣，弧面部位可以方便手持。
[0008]為了防止刻度線對紅外發(fā)射器的移動產生干擾，所述刻度線內凹于所述殼體。
[0009]本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明的水浸線聚焦探頭，設置了紅外發(fā)射器，可以用于對準起始刻度或探傷位置，減少探測誤差。
【附圖說明】
[0010]下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明。
[0011]圖1是本發(fā)明的水浸線聚焦探頭的結構示意圖。
[0012]圖2是本發(fā)明的水浸線聚焦探頭的俯視結構示意圖。
[0013]圖3是本發(fā)明的水浸線聚焦探頭的局部剖面示意圖。
[0014]圖中1、殼體，1-1、凹槽，1-2、刻度線，a、探測面，b、相交線，2、紅外發(fā)射器，2_1、弧面，3、玻璃珠，y、刻度線的延伸方向，X、刻度線的分布方向。
【具體實施方式】
[0015]現(xiàn)在結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結構，因此其僅顯示與本發(fā)明有關的構成。
[0016]如圖1-3所示，本發(fā)明的一種水浸線聚焦探頭，包括殼體I，殼體I具有探測面a和兩個相對的側面，兩個側面均與探測面a垂直，且其中一個側面上具有刻度線1-2，刻度線1-2延伸到刻度線1-2所在的側面與探測面a的相交線b上，具有刻度線1-2的側面上設置有一紅外發(fā)射器2，紅外發(fā)射器2的發(fā)射方向與刻度線1-2的延伸方向平行。紅外發(fā)射器2具有一個側面為弧面2-1。
[0017]具有刻度線1-2的側面上開設有凹槽1-1，紅外發(fā)射器2與側面在凹槽1-1處滑動連接，凹槽1-1的長度延伸方向與刻度線1-2的分布方向相同。凹槽1-1底部和紅外發(fā)射器2之間嵌入有玻璃珠3，凹槽1-1底部和紅外發(fā)射器2均與玻璃珠3滾動連接。
[0018]以上述依據(jù)本發(fā)明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內容，相關工作人員完全可以在不偏離本項發(fā)明技術思想的范圍內，進行多樣的變更以及修改。本項發(fā)明的技術性范圍并不局限于說明書上的內容，必須要根據(jù)權利要求范圍來確定其技術性范圍。
【主權項】
1.一種水浸線聚焦探頭，其特征在于:包括殼體(I)，所述殼體(I)具有探測面(a)和兩個相對的側面，兩個側面均與探測面(a)垂直，且其中一個側面上具有刻度線(1-2)，所述刻度線(1-2)延伸到刻度線(1-2)所在的側面與探測面(a)的相交線(b)上，具有刻度線(1-2)的側面上設置有一紅外發(fā)射器(2)，所述紅外發(fā)射器⑵的發(fā)射方向與刻度線(1-2)的延伸方向平行。2.如權利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:具有刻度線(1-2)的側面上開設有凹槽(1-1)，所述紅外發(fā)射器(2)與所述側面在凹槽(1-1)處滑動連接，所述凹槽(1-1)的長度延伸方向與刻度線(1-2)的分布方向相同。3.如權利要求2所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述凹槽(1-1)底部和紅外發(fā)射器(2)之間嵌入有玻璃珠(3)，所述凹槽(1-1)底部和紅外發(fā)射器(2)均與玻璃珠(3)滾動連接。4.如權利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述紅外發(fā)射器(2)具有一個側面為弧面(2-1)。5.如權利要求1所述的水浸線聚焦探頭，其特征在于:所述刻度線(1-2)內凹于所述殼體⑴。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種水浸線聚焦探頭，包括殼體，所述殼體具有探測面和兩個相對的側面，兩個側面均與探測面垂直，且其中一個側面上具有刻度線，所述刻度線延伸到刻度線所在的側面與探測面的相交線上，具有刻度線的側面上設置有一紅外發(fā)射器，所述紅外發(fā)射器的發(fā)射方向與刻度線的延伸方向平行。本發(fā)明的水浸線聚焦探頭，設置了紅外發(fā)射器，可以用于對準起始刻度或探傷位置，減少探測誤差。
【IPC分類】G01C15/00
【公開號】CN105021170
【申請?zhí)枴緾N201510417402
【發(fā)明人】周南岐
【申請人】常州市常超電子研究所有限公司
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2015年7月15日