一種可視化漏磁檢測裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明屬于無損檢測技術領域，更為具體地講，涉及一種可視化漏磁檢測裝置。
【背景技術】
[0002] 無損檢測（NDT-NondestructiveTesting)是檢測技術的一個重要組成部分。它是 在不損傷被檢測對象的情況下，利用材料內(nèi)部結構異?；蛉毕菟鸬膶帷⒙?、光、電、磁 等反應的變化，來探測各種工程材料、零部件、結構件等內(nèi)部或表面缺陷，并對缺陷的類型、 性質、數(shù)量、形狀、位置、尺寸、分布及其變化作出判斷和評價，以評價構件的允許負荷、壽命 或者剩余壽命，或檢測設備在制造和使用過程中產(chǎn)生的結構不完整性及缺陷情況，以便改 進制造工藝，提高產(chǎn)品質量，及時發(fā)現(xiàn)故障，保證設備安全、可靠運行。
[0003] 目前，無損檢測技術中有五大常規(guī)方法，分別是：超聲法、射線法、磁粉法、滲透法 和渦流法。在鐵素體鋼等磁性材料檢測中，應用廣泛的漏磁檢測。然而，目前漏磁檢測多采 用GMR、霍爾探針或霍爾陣列作為磁傳感元件，它們空間分辨率和檢測效率低，對微小裂紋 不能有效識別且檢測結果不直觀。因此，高效的漏磁可視化檢測具有特別重要的意義。
[0004] 然而，在漏磁可視化檢測中，磁光薄膜表面（magnetic-opticalfilm)反射光并未 攜帶漏磁分布信息而疊加在反射光斑中，對檢測到的圖像信息起到干擾作用，進而降低了 檢測靈敏度。為解決這一問題，現(xiàn)有方法是在磁光薄膜表面涂增透膜，以減小其表面反射光 強，但增透膜的增透作用只在垂直入射時能完全避免表面反射，增透作用也隨著入射角的 增大而減小。因此，在不涂增透膜的情況下，有效避免表面反射光的干擾具有重要的現(xiàn)實意 義。
[0005] 同時。如圖1所示，由于采用垂直入射方式，需要用分光器進行光路調整和嚴格對 齊，結構比較復雜，使用不是很方便。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術不足，提供一種可視化漏磁檢測裝置，以避免磁 旋光薄膜表面反射光的干擾，提高檢測靈敏度，同時，簡化結構，方便使用。
[0007] 為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明可視化漏磁檢測裝置，其特征在于，包括：
[0008] 具有磁旋光特性的磁光薄膜（magnetic-opticalfilm)，該磁光薄膜的底面即鐵 磁材料被測件一側涂有反射膜，以作為磁傳感元件；
[0009] 磁場產(chǎn)生裝置，用于產(chǎn)生磁場并作用于被測件；
[0010] 光源、第一凸透鏡以及第一偏振片，第一凸透鏡將光源發(fā)出散射光聚集成平行光 線，并作為入射光線；入射光線經(jīng)過第一偏振片進行起偏方向調整后，入射到磁光薄膜中， 然后經(jīng)過其底層的反射膜反射后得到反射光線，反射光線穿出磁光薄膜后，到達第二偏振 片；
[0011] 第二偏振片、第二凸透鏡以及C⑶相機，第二偏振片對到達的反射光線進行調整， 得到帶有漏磁信息的線偏振光，然后經(jīng)過第二凸透鏡聚集到CCD相機形成具有明暗區(qū)域的 反射光斑，該反射光斑間接地反映了漏磁的水平分布即缺陷情況，從而到達漏磁（缺陷）的 可視化檢測；
[0012] 所述的第一偏振片作為起偏鏡，采用與入射面共面且垂直于入射光線的方向作為 起偏鏡起偏方向；
[0013] 所述的入射光線與磁光薄膜的入射角：
【主權項】
1. 一種可視化漏磁檢測裝置，其特征在于，包括： 具有磁旋光特性的磁光薄膜（magnetic-optical film)，該磁光薄膜的底面即鐵磁材 料被測件一側涂有反射膜，以作為磁傳感元件； 磁場產(chǎn)生裝置，用于產(chǎn)生磁場并作用于被測件； 光源、第一凸透鏡以及第一偏振片，第一凸透鏡將光源發(fā)出散射光聚集成平行光線，并 作為入射光線；入射光線經(jīng)過第一偏振片進行起偏方向調整后，入射到磁光薄膜中，然后經(jīng) 過其底層的反射膜反射后得到反射光線，反射光線穿出磁光薄膜后，到達第二偏振； 第二偏振片、第二凸透鏡以及CCD相機，第二偏振片對到達的反射光線進行調整，得到 帶有漏磁信息的線偏振光，然后經(jīng)過第二凸透鏡聚集到CCD相機形成具有明暗區(qū)域的反射 光斑，該反射光斑間接地反映了漏磁的水平分布即缺陷情況，從而到達漏磁（缺陷）的可視 化檢測； 所述的第一偏振片作為起偏鏡，采用與入射面共面且垂直于入射光線的方向作為起偏 鏡起偏方向； 所述的入射光線與磁光薄膜的入射角：
其中，H1為光在空氣中的折射率，η 2為光在磁光薄膜中的折射率。
2. 根據(jù)權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，第二偏振片物理結構完全相同與第 一偏振片完全相同，并且其偏振方向與反射面共面且垂直于反射光線。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可視化漏磁檢測裝置，采用具有磁旋光特性并在底層即被測件一側涂有反射膜的材料作為磁傳感元件，以光源、CCD相機、兩個凸透鏡、兩片偏振片構成光學圖像采集系統(tǒng)實現(xiàn)漏磁的可視化檢測。由于檢測引入光作為信息的載體，所以漏磁圖像即反射光斑對漏磁的空間分辨率很高。本發(fā)明可視化漏磁檢測裝置一次成像的面積只受到CCD相機傳感器和磁敏感元件的有效面積限制，相對于GMR等傳統(tǒng)漏磁檢測方法，檢測效率能夠大大提高。同時通過控制起偏鏡即第一偏振片的偏振方向和調節(jié)入射光線的入射角度，使入射光線在磁光薄膜表明發(fā)生全透射即全部進入磁光薄膜中，從而避免表面反射光的干擾，進而大大提高檢測靈敏度。
【IPC分類】G01N27-83
【公開號】CN104764798
【申請?zhí)枴緾N201510136346
【發(fā)明人】白利兵, 程玉華, 鄧力, 周小東, 陳凱, 殷春, 張 杰
【申請人】電子科技大學
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年3月26日