一種多功能真空校準(zhǔn)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種校準(zhǔn)裝置，是模塊化的多功能真空校準(zhǔn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，公知的真空校準(zhǔn)裝置一般由初級泵、分子泵、真空管路、閥門、真空室、標(biāo)準(zhǔn)真空計等組成，結(jié)構(gòu)上單獨設(shè)計成低真空校準(zhǔn)裝置、高真空校準(zhǔn)裝置、漏孔校準(zhǔn)裝置，以實現(xiàn)真空計和漏孔的校準(zhǔn)，不具備氣體成分分析和檢漏功能。由于真空校準(zhǔn)裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，且對密封性要求較高，該設(shè)備一般固定于實驗室使用。真空泵固定在裝置上，不能拆卸單獨使用?，F(xiàn)有的真空校準(zhǔn)裝置功能單一，僅用于真空計和漏孔的校準(zhǔn)，設(shè)計為實驗室環(huán)境使用，不能在現(xiàn)場對真空設(shè)備進(jìn)行測試。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服現(xiàn)有的真空校準(zhǔn)裝置功能單一，以及結(jié)構(gòu)設(shè)計不能兼顧實驗室與現(xiàn)場使用的不足，本發(fā)明提供一種模塊化的多功能真空校準(zhǔn)裝置，該裝置不僅能在實驗室進(jìn)行傳統(tǒng)的真空計、漏孔的校準(zhǔn)，結(jié)構(gòu)上還進(jìn)行模塊化的設(shè)計，可組合使用，滿足現(xiàn)場校準(zhǔn)及氣體成分分析和檢漏的要求。
[0004]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0005]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，包括抽氣機組、高真空單元、低真空單元、檢漏單元，低真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，高真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，檢漏單元通過閥門和管路與抽氣機組連接。
[0006]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置的抽氣機組包括干泵、分子泵和復(fù)合真空計。
[0007]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，低真空單元包括低真空室、標(biāo)準(zhǔn)電容薄膜真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔，低真空室分別與抽氣機組、標(biāo)準(zhǔn)電容薄膜真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔和氣瓶連接，且低真空室通過微調(diào)閥與氣瓶連接。
[0008]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，所述高真空單元包括高真空室、標(biāo)準(zhǔn)電離真空計、四極質(zhì)譜計和氣室，高真空室分別與抽氣機組、標(biāo)準(zhǔn)電離真空計、四極質(zhì)譜計和氣室連接。
[0009]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，所述檢漏單元為檢漏模塊，檢漏模塊與抽氣機組連接。
[0010]一種多功能真空校準(zhǔn)裝置的干泵安裝于滑動式導(dǎo)軌上。
[0011]裝置中配置四極質(zhì)譜計、檢漏模塊、標(biāo)準(zhǔn)高真空計、標(biāo)準(zhǔn)低真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔、復(fù)合真空計等設(shè)備，配合由干泵、分子泵、閥門、管路構(gòu)成的真空系統(tǒng)，實現(xiàn)真空計、漏孔的校準(zhǔn)，以及真空設(shè)備氣體成分分析、檢漏功能。其中干泵、分子泵提供工作需要的真空，標(biāo)準(zhǔn)高真空計、標(biāo)準(zhǔn)低真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔作為量值溯源標(biāo)準(zhǔn)器，四極質(zhì)譜計采集氣體成分信號，檢漏模塊作為檢漏設(shè)備。
[0012]本發(fā)明真空校準(zhǔn)裝置采用模塊化設(shè)計，通過不同功能模塊的組合，方便在現(xiàn)場和實驗室使用。根據(jù)裝置功能需要、系統(tǒng)組成、各部分的連接關(guān)系、便于移動特點，布局既要保持功能齊全和系統(tǒng)完整性，又要保證各個模塊的獨立性。設(shè)計中兼顧每個單元的重量趨于平衡，如干泵(14)采用滑動式導(dǎo)軌安裝方式，既減輕高真空單元的自重，又便于現(xiàn)場使用。
[0013]本發(fā)明的有益效果是，該真空校準(zhǔn)裝置經(jīng)過模塊化功能設(shè)計，能在實驗室和現(xiàn)場環(huán)境使用，可以進(jìn)行真空計、漏孔的校準(zhǔn)，以及真空設(shè)備氣體成分分析、檢漏工作。該裝置設(shè)計先進(jìn)，結(jié)構(gòu)合理，能提高真空領(lǐng)域計量技術(shù)水平。
【附圖說明】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0015]圖1是真空校準(zhǔn)裝置工作原理圖。
[0016]圖中1、標(biāo)準(zhǔn)高真空計2、復(fù)合真空計3、被校高真空計4、標(biāo)準(zhǔn)低真空計5、被校低真空計6、復(fù)合真空計7、標(biāo)準(zhǔn)漏孔8、被校漏孔9、四極質(zhì)譜計10、檢漏模塊11、高真空室12、低真空室13、氣室14、干泵15、分子泵16、插板閥17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、手動閥27、球型閥28、29、微調(diào)閥30、31、32、33、截止閥34、35、36、法蘭
【具體實施方式】
[0017]裝置具備實驗室和現(xiàn)場使用功能，校準(zhǔn)原理采用相對法，由裝置提供比對環(huán)境，通過溯源標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行比對校準(zhǔn)。設(shè)計的系統(tǒng)具備多功能、移動方便的特點。
[0018]在圖1中，采用模塊化設(shè)計，結(jié)構(gòu)設(shè)計上分為高真空單元、低真空單元、檢漏單元三部分，可通過不同功能的組合，方便在現(xiàn)場和實驗室使用。組合連接管路采用不銹鋼波紋管，用法蘭連接；法蘭34、法蘭36使用快速拆裝連接法蘭，采用橡膠圈密封；法蘭35使用金屬靜密封法蘭，采用銅墊圈密封。
[0019]在圖1中，低真空單元用于低真空計校準(zhǔn)、漏孔校準(zhǔn)，由低真空室12、標(biāo)準(zhǔn)低真空計4、標(biāo)準(zhǔn)漏孔7、微調(diào)閥29等組成。低真空室12提供比對校準(zhǔn)環(huán)境，標(biāo)準(zhǔn)低真空計4、標(biāo)準(zhǔn)漏孔7作為溯源標(biāo)準(zhǔn)。干泵14采用滑動式導(dǎo)軌安裝方式，便于現(xiàn)場使用。標(biāo)準(zhǔn)低真空計4為標(biāo)準(zhǔn)電容薄膜真空計
[0020]在圖1中，低真空計校準(zhǔn)時，用波紋管連接法蘭34，啟動干泵14抽氣，打開截止閥33，打開手動閥26。對低真空室12抽氣，達(dá)到需要的真空度后，微調(diào)閥29接通氮氣氣瓶充氣微調(diào)，精密調(diào)節(jié)不同的真空度值，進(jìn)行低真空計的比對校準(zhǔn)。
[0021]在圖1中，漏孔校準(zhǔn)時，用波紋管分別連接法蘭34、法蘭35，打開截止閥33，打開手動閥21、手動閥22、手動閥24，啟動干泵14抽氣，復(fù)合真空計6真空度小于5Pa時，關(guān)閉截止閥33，關(guān)閉手動閥24，打開截止閥32和手動閥20，啟動分子泵15抽高真空，打開插板閥16，復(fù)合真空計2真空度達(dá)到10-2Pa后，四極質(zhì)譜計9接通電源工作，系統(tǒng)穩(wěn)定后，采集電流信號，計算被校漏孔漏率值，進(jìn)行漏孔的校準(zhǔn)。
[0022]在圖1中，高真空單元用于高真空計校準(zhǔn)、氣體成分分析，由高真空室11、插板閥16、四極質(zhì)譜計9、標(biāo)準(zhǔn)高真空計1、微調(diào)閥28等組成。標(biāo)準(zhǔn)高真空計I為標(biāo)準(zhǔn)電離真空計。
[0023]在圖1中，高真空計校準(zhǔn)時，啟動干泵14抽氣，打開截止閥32，復(fù)合真空計6真空度小于1Pa時，啟動分子泵15，打開插板閥16，打開手動閥17、手動閥18，通過球型閥27給氣室13充氮氣，通過微調(diào)閥28精密調(diào)節(jié)不同的真空度值，進(jìn)行高真空計的比對校準(zhǔn)。
[0024]在圖1中，氣體成分分析時，關(guān)閉手動閥20，用波紋管將法蘭35與真空設(shè)備校準(zhǔn)測試口連接，操作真空設(shè)備，控制設(shè)備真空度達(dá)到10_2Pa后，四極質(zhì)譜計接通電源工作，采集分析氣體分子成分。
[0025]在圖1中，用波紋管連接法蘭36、檢漏模塊10可以對真空校準(zhǔn)裝置和現(xiàn)場的真空設(shè)備檢漏。
[0026]在圖1中，對校準(zhǔn)裝置檢漏時，分別用波紋管連接法蘭34、法蘭35、法蘭36，打開截止閥30，啟動干栗14，打開截止閥32、截止閥33，打開手動閥20、手動閥26，打開插板閥16，確認(rèn)復(fù)合真空計6真空度小于10Pa，接通檢漏模塊電源，用噴槍對真空校準(zhǔn)裝置檢查點噴氦氣，進(jìn)行檢漏。
[0027]對真空設(shè)備檢漏時，用波紋管將檢漏模塊10端口的法蘭36與真空設(shè)備初級泵檢查測試口連接，操作真空設(shè)備，設(shè)備真空度穩(wěn)定后，接通檢漏模塊電源，用噴槍對真空設(shè)備檢查點噴氦氣，進(jìn)行檢漏。
[0028]以上僅為本發(fā)明的一種實施例，但并不因此將本專利的保護(hù)范圍局限于此，其他不脫離本發(fā)明思想的技術(shù)方案均在本專利的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，包括抽氣機組、高真空單元、低真空單元、檢漏單元，低真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，高真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，檢漏單元通過閥門和管路與抽氣機組連接。
2.權(quán)利要求1所述一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述抽氣機組包括干泵、分子泵和復(fù)合真空計。
3.權(quán)利要求1所述一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述低真空單元包括低真空室、標(biāo)準(zhǔn)電容薄膜真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔，低真空室分別與抽氣機組、標(biāo)準(zhǔn)電容薄膜真空計、標(biāo)準(zhǔn)漏孔和氣瓶連接，且低真空室通過微調(diào)閥與氣瓶連接。
4.權(quán)利要求1所述一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述高真空單元包括高真空室、標(biāo)準(zhǔn)電離真空計、四極質(zhì)譜計和氣室，高真空室分別與抽氣機組、標(biāo)準(zhǔn)電離真空計、四極質(zhì)譜計和氣室連接。
5.權(quán)利要求1所述一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述檢漏單元為檢漏模塊，檢漏模塊與抽氣機組連接。
6.權(quán)利要求1所述一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述干泵(14)安裝于滑動式導(dǎo)軌上。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種多功能真空校準(zhǔn)裝置，包括抽氣機組、高真空單元、低真空單元、檢漏單元，低真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，高真空單元通過閥門和管路與抽氣機組連接，檢漏單元通過閥門和管路與抽氣機組連接。本發(fā)明采用模塊化設(shè)計，通過不同功能模塊的組合，方便在現(xiàn)場和實驗室使用。能開展真空計和漏孔的校準(zhǔn)，以及氣體成分分析和檢漏工作。
【IPC分類】G01L27-00
【公開號】CN104748911
【申請?zhí)枴緾N201510110003
【發(fā)明人】歐雷, 李濘, 魏開利, 孟萁, 李翔, 辛立正, 張勇健, 衛(wèi)婧逸
【申請人】成都飛機工業(yè)（集團(tuán)）有限責(zé)任公司, 成都國光電氣股份有限公司
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2015年3月13日