專利名稱：電子探針微分析儀的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種電子探針微分析儀，特別涉及試料Z軸方向上的位置控制。
在采用波長分散型分光器的電子探針微分析儀(EPMA)中，作為檢測由電子束照射試料所放射出的特性X線的集光條件，要求將試料和分光結(jié)晶、檢測器的X線分光器高精度地配置在洛蘭德圓的圓周上。通常，通過調(diào)整試料面的高度位置來滿足該X線分光器的集光條件。
在采用電子探針微分析儀的分析中，有只在試料面上的一點進行分析的點分析，或者在試料面上逐步改變分析位置的同時檢測該處的X線信號以獲得一維或者二維分布的線分析和面分析。對于有凹凸的試料面，為了進行高精度的點分析、線分析和面分析，有必要隨時控制試料平臺的高度方向以便使其滿足X線分光器的集光條件。
現(xiàn)有的電子探針微分析儀的高度方向(Z軸方向)的位置調(diào)整所采用的方法為，(a)獲得每個分析點的試料面的當前的高度信息并反饋給試料平臺，調(diào)整試料平臺的高度位置以使試料面上的分析點滿足集光條件的反饋控制法，(b)將試料面分割成最小單位區(qū)域，預先獲得各單位區(qū)域的交點的坐標值，根據(jù)該坐標值近似計算單位區(qū)域內(nèi)的分析點的高度信息，根據(jù)所得到的高度信息調(diào)整試料平臺的高度位置的控制法。
在采用現(xiàn)有的電子探針微分析儀進行點分析、線分析和面分析時，為了能高精度地用上述(a)、(b)的控制方法來調(diào)整高度方向的位置，需要獲得每個分析點的坐標值，或者增加區(qū)域的分割數(shù)或坐標值的獲取次數(shù)，存在需要處理龐大的數(shù)據(jù)量和處理時間長時間化的問題。特別是在進行線分析和面分析時的坐標值的獲取次數(shù)更加龐大。
又，在線分析和面分析中需要在移動分析點的同時調(diào)整高度方向上的位置，在上述(a)的反饋控制方法中，如果單位時間內(nèi)的高度方向的變動量較大，則位置控制的響應速度無法趕上變動的速度而使得控制發(fā)散，存在著增大從跟隨狀態(tài)下偏離的可能性的問題。又，在線分析和面分析中通過上述(b)的分割區(qū)域進行控制時，雖然不會出現(xiàn)象(a)的反饋控制所引起的發(fā)散現(xiàn)象，但是，由于所獲取的高度信息不是正確表現(xiàn)試料形狀的東西，為了對部分存在起伏變化密集的區(qū)域的試料面進行高度補正，必需對照起伏變化最密的區(qū)域進行分割區(qū)域的細分，從而會增大分割數(shù)或坐標的獲取次數(shù)，增大數(shù)據(jù)量和處理時間。
在對表面為以一軸為中心的對稱的同心圓形狀的試料進行線分析和面分析時，如果采用由(b)的分割區(qū)域所進行的控制，即使已經(jīng)知道其圓周方向上的高度信息相同，仍然存在需要龐大的區(qū)域分割數(shù)和坐標值的獲取系數(shù)的問題。
為此，本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有的問題，在電子探針微分析儀中以少的坐標值獲取次數(shù)進行高精度的分析。又，即使是高度方向的變化較大時，也不會出現(xiàn)控制發(fā)散并能進行高精度的分析。
本發(fā)明的第1種發(fā)明構(gòu)成為，在利用通過電子束照射從試料放射出的特性X線進行試料表面的元素分析的電子探針微分析儀，具有根據(jù)分析范圍內(nèi)的測定坐標值形成Z軸坐標值的等值線，求出由等值線區(qū)分的Z軸補正值的區(qū)域的運算功能，根據(jù)上述Z軸補正值讓試料表面滿足分析條件的高度來進行試料Z軸方向的位置控制。
上述第1種發(fā)明，為了進行試料Z軸方向的位置控制，利用Z軸坐標值的等值線所區(qū)分的Z軸補正值的區(qū)域。對于Z軸坐標值的等值線所區(qū)分的各區(qū)域確定Z軸補正值，對于存在在區(qū)域內(nèi)的分析點，利用該區(qū)域內(nèi)所定的Z軸補正值進行Z軸方向的位置控制。
Z軸坐標值的等值線通過測定分析范圍內(nèi)對應于X、Y坐標值的Z坐標值，利用該測定坐標值連接在Z軸方向相等的Z軸坐標值求出。Z軸坐標值的等值線所區(qū)分的范圍所形成的區(qū)域的Z軸坐標值在給定的幅度范圍內(nèi)。進行該區(qū)域內(nèi)某個分析點的分析時，以該區(qū)域設定的值作為Z軸補正值進行試料Z軸方向的位置控制。
Z軸補正值的第1種形式為在等值線區(qū)分的區(qū)域內(nèi)設定1個值，第2種形式為沿著X、Y坐標值的移動方向設定連續(xù)變化的Z軸補正函數(shù)。在線分析以及面分析中，即可以依據(jù)第1的Z軸補正值，也可以依據(jù)第2的Z軸補正函數(shù)進行位置控制。
依據(jù)上述第1種發(fā)明，由于在分析范圍的整個面上具有滿足試料面的分析條件的高度調(diào)整的Z軸補正值，可以防止控制的發(fā)散。又，由于可以根據(jù)試料表面的起伏變化的粗密增減Z軸坐標值的獲取次數(shù)，選擇與試料表面形狀吻合的Z軸坐標值的獲取位置以及獲取點數(shù)，在坐標值少的獲取次數(shù)的情況下就可以進行高精度的位置控制。
本發(fā)明的第2種發(fā)明的構(gòu)成為，在利用通過電子束照射從試料放射出的特性X線進行試料表面的元素分析的電子探針微分析儀中，具有求出經(jīng)過試料高度分布的中心位置的直線上的高度補正值，利用該高度補正值求出以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心的三維補正值的運算功能，根據(jù)從上述三維補正值中得到的Z軸補正值，讓試料表面滿足分析條件的高度來進行試料Z軸方向的位置控制。
上述第2種發(fā)明是針對試料的高度分布具有根據(jù)從某一點開始的距離高度發(fā)生變化的形狀的特征的試料進行分析，利用以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心的三維Z軸補正值。三維Z軸補正值可以通過先求出穿過試料高度分布中心位置的直線上的高度補正值，然后讓該高度補正值繞以高度分布的中心位置旋轉(zhuǎn)所獲得。對應于分析點的X、Y坐標值的Z坐標值利用三維補正值進行補正，進行Z軸方向的位置控制。
由于試料具有其高度分布根據(jù)從某一點開始的距離高度發(fā)生變化的形狀，通過求出穿過試料高度分布中心位置的直線上的高度補正值，獲得分析范圍內(nèi)整個面上的Z軸補正值。分析范圍內(nèi)整個面上的三維Z軸補正值，可以通過讓高度補正值以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心進行旋轉(zhuǎn)求出。利用三維補正值，進行分析范圍內(nèi)的某分析點的分析，根據(jù)三維補正值，求出對應于分析點的X、Y坐標值的Z軸補正值，用所求出的Z軸補正值進行試料Z軸方向的位置控制。
穿過試料高度分布中心位置的直線上的高度補正值，即可以在高度方向為給定間隔的階梯確定的形式，也可以連續(xù)值所確定的形式。
三維補正值在采用階梯形高度補正值時，為高度方向成Z軸補正值的圓筒狀體而在徑方向為重疊的形狀，在采用連續(xù)高度補正值時，為沿徑方向高度方向變化的圓筒狀體。為了從三維補正值求出Z軸補正值，在點分析時，求出對應于三維補正值內(nèi)的分析點的X、Y坐標值的Z坐標值，以該Z軸坐標值作為Z軸補正值，又，在線分析以及面分析時，求出三維補正值內(nèi)對應于沿X、Y坐標值的移動方向的Z坐標值，以該Z軸坐標值作為Z軸補正值。
又，為求出高度補正值的直線即可以是1條也可以是多條。采用多條直線時，可以在直線的近旁在圓周方向分割三維補正值進行設定。
在上述第2種發(fā)明中，可以讓三維補正值按照分析范圍的傾斜進行傾斜，利用該傾斜后的三維補正值求出Z軸補正值，進行試料Z軸方向的位置控制。分析范圍的斜率可以通過分析范圍內(nèi)的試料面上的高度求得。
依據(jù)上述第2種發(fā)明，由于在分析范圍的整個面上具有滿足試料面的分析條件的高度調(diào)整的Z軸補正值，可以防止控制的發(fā)散。又，由于可以通過測定穿過試料高度分布得中心位置得直線上得高度求出分析范圍整個面的Z軸補正值，在坐標值少的獲取次數(shù)的情況下就可以進行高精度的位置控制。
下面對附圖進行簡要說明。


圖1為表示本發(fā)明的電子探針微分析儀的構(gòu)成例的概略框圖。
圖2為表示說明本發(fā)明的第一例的功能的功能框圖。
圖3為表示說明本發(fā)明的第一例的功能和動作的流程圖。
圖4為表示說明本發(fā)明的第一例的功能的表示Z軸坐標值以及等值線的圖。
圖5為表示說明本發(fā)明的第一例的功能的表示Z軸補正值的圖。
圖6為表示說明本發(fā)明的第二例的功能的功能框圖。
圖7為表示說明本發(fā)明的第二例的功能和動作的流程圖。
圖8為表示說明本發(fā)明的第二例的功能的表示三維補正值的圖。
圖9為表示說明本發(fā)明的第二例的功能的表示三維補正值的圖。
圖10為表示說明本發(fā)明的第二例的功能的表示三維補正值的圖。
圖中，1-電子探針微分析儀、2-計算機、3-平臺控制器、4-驅(qū)動器、5-攝像裝置、6-自動對焦控制器、7-監(jiān)視器、11-鎢絲、12-電子束、13-聚光鏡、14-物鏡、15-分光元件、16-檢測器、17-試料平臺、2A、2a-分析范圍、2B、2b-X、Y、Z坐標值、2C、2c-Z軸補正值、2D、2d-Z軸補正函數(shù)值、2E、2e-Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)運算功能塊、2F-等值線圖、2f-中心位置、2G-等值線運算功能塊、2g-高度補正的Z軸坐標值、2h-三維函數(shù)、2i-斜率、2j-直線、測定點設定功能塊、2k-中心位置計算功能塊、2m-高度補正功能塊、2n-近似函數(shù)功能塊、2p-三維函數(shù)功能塊、2q-斜率功能塊、20A、20a-數(shù)據(jù)保存塊、S-試料。
以下參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施例圖1為表示本發(fā)明的電子探針微分析儀的構(gòu)成例的概略框圖。在圖1所示的電子探針微分析儀1中從鎢絲11所發(fā)射的電子束12通過聚光鏡13、物鏡14照射放置在試料平臺17上的試料S。從試料S發(fā)射出來的X線由包含根據(jù)波長分光的分光元件15和檢測所分光出來的特性X線的檢測器16的X線分光器進行分析。
試料平臺17通過接受來自平臺控制器3的控制脈沖的驅(qū)動器4可以在X、Y、Z軸方向上移動。平臺控制器3由來自計算機2的控制命令完成X、Y軸方向上的位置確定和Z軸方向的高度調(diào)整。試料S的觀察通過用CCD攝象機等攝像裝置5拍攝由反射鏡18反射的像，并經(jīng)過自動對焦控制器6顯示在監(jiān)視器7上來實現(xiàn)。自動對焦控制器6將Z軸方向的數(shù)據(jù)反饋給平臺控制器3通過反饋控制試料平臺17，在對準焦距的同時獲取試料S的高度數(shù)據(jù)。通常，將依據(jù)自動對焦控制器6的攝像裝置5的試料S上的焦點位置和依據(jù)X分光器的滿足試料S上的集光條件的分析位置設定成一致，可以通過由自動對焦控制器6對準光學像的焦點來滿足X線分光器的集光條件。在現(xiàn)有的電子探針微分析儀中，觀察每個分析點的光學像，調(diào)整試料平臺17的Z軸方向的位置使其對準焦點。
本發(fā)明中通過計算機2所具有的功能，不需要觀察每個點的光學像即可進行試料平臺17的Z軸方向的位置調(diào)整。以下，對于計算機所具有的功能及其動作通過圖2～圖5說明第一例，通過圖6～圖10說明第二例。
首先說明第一例。圖2為表示說明本發(fā)明的第一例的功能的功能框圖。圖3為表示說明本發(fā)明第一例的功能和動作的流程圖。圖4、5分別表示說明本發(fā)明的第一例的功能的表示Z軸坐標值以及等值線、表示Z軸補正值的圖。
在第一例中，從分析范圍內(nèi)的測定坐標值形成Z軸坐標值的等值線、求出由等值線區(qū)分的Z軸補正值的區(qū)域，根據(jù)Z軸補正值進行試料Z軸方向上的位置控制使得試料表面滿足分析條件的高度。
在圖2中，由點虛線所圍的各塊表示計算機2所具有的功能塊，包括保存各數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)保存塊20A、計算等值線的運算功能塊2G和計算Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值的運算功能塊2E。
數(shù)據(jù)保存塊20A保存分析范圍2A、X、Y、Z坐標值2B、等值線圖2F、Z軸補正值2C、Z軸補正函數(shù)值2D等的各數(shù)據(jù)。分析范圍2A表示要在試料S上進行分析的范圍，通過一邊觀察由監(jiān)視器7顯示的光學像等一邊由圖中未畫出的輸入裝置進行設定。X、Y、Z坐標值2B表示分析范圍內(nèi)的試料表面的坐標值，X、Y坐標值通過平臺控制器3輸入試料平臺17的當前位置，Z坐標值由自動對焦控制器6等高度檢測裝置輸入所求出的試料表面的高度信息。
等值線運算2G利用分析范圍內(nèi)的X、Y、Z坐標值的坐標數(shù)據(jù)通過連接相同Z坐標值進行運算。等值線之間的間隔可以任意設定。由等值線運算2G所求出的等值線保存在等值線圖2F中。等值線圖由監(jiān)視器7確認，根據(jù)需要，可以反復進行X、Y、Z坐標值的獲取以及等值線運算。等值線圖表示試料表面的凹凸，表示從試料平臺的基準位置開始的Z軸方向上的偏差。
Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值的運算功能塊2E計算為了讓試料面滿足分析條件所要求的高度調(diào)整量，所求出的Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值保存在Z軸補正值2C和Z軸補正函數(shù)值2D中，在進行分析時輸送給平臺控制器3進行高度控制，調(diào)整X線分光器的焦點位置。
此外，形成圖示的構(gòu)成例中所示的試料S的凹凸的高度檢測裝置是由自動對焦控制器6形成的例，可以通過對準由圖中虛線所示的反饋系統(tǒng)所得到的光學的焦點求出。
以下，用圖3的流程圖以及圖4、5說明第一例的動作。用監(jiān)視器7觀察試料S的光學像和SEM像等設定分析范圍，保存到分析范圍20A中(第S1步)。為了計算試料S的表面形狀，在分析范圍內(nèi)，由試料平臺17設定X、Y坐標同時由自動對焦控制器6計算Z坐標值，保存到X、Y、Z坐標值2B中。圖4(a)表示分析范圍和分析范圍內(nèi)的坐標值，數(shù)值表示Z坐標值。所求坐標值的測定點可以是任意的，例如，形狀變化急劇的部分可以密集測定，形狀變化緩慢的部分可以稀疏測定(第S2步)。
等值線運算2G利用所測定的X、Y、Z坐標值計算等值線，顯示在監(jiān)視器7中。圖4(b)表示等值線圖的一例。圖中雖然表示的是Z方向的間隔為1的等間隔的等值線，但等值線的間隔可以任意設定，也可以是不等間隔。所求出的等值線保存在等值線圖2F中(第S3步)。所求出的等值線圖用監(jiān)視器觀察，如有必要可以反復重復第S2、3步，可以提高等值線圖的精度(第S4步)。
在等值線所區(qū)分的區(qū)域中設定Z軸補正值。圖5(a)表示Z軸補正值的設定例，作為Z軸補正值在各區(qū)域設定1～8的值。Z軸補正值在各區(qū)域內(nèi)可以設定1個值，又，在線分析和面分析中也可以沿分析方向設定成連續(xù)的Z軸補正函數(shù)。
在區(qū)域內(nèi)設定為1個值時，可以采用Z軸坐標值的范圍內(nèi)的任意的值。圖5(a)中表示采用設定區(qū)域最小值的情況(第S5步)。
在進行點分析時(第S6步)，確定分析范圍內(nèi)中分析點的X、Y坐標值。對于所確定分析點的X、Y坐標值，從Z軸補正值2C中求出所對應的Z軸補正值。例如在圖5(a)中，如果分析點確定為點A(xa，ya)，作為對應的Z軸補正值可以得到3(第S7a步)。根據(jù)該Z軸補正值通過平臺控制器3向步進電機驅(qū)動器輸送控制信號，進行試料平臺17的Z軸的高度控制。這樣，可以調(diào)整分析點的高度(第S8a步)。
又，在進行線分析和面分析時(第S6步)，確定分析范圍內(nèi)中分析線或者分析范圍。對于所確定分析線或者分析范圍的X、Y坐標值，從Z軸補正值2C中求出所對應的Z軸補正值。例如在圖5(a)中，如果確定作為分析線的y坐標值y0為x軸的測定線，從圖5(a)的等值線圖中可以得到圖5(b)或者圖5(c)所示的Z軸補正值或Z軸補正函數(shù)(第S7b步)。根據(jù)該Z軸補正值或該Z軸補正函數(shù)通過平臺控制器3向步進電機驅(qū)動器輸送控制信號，進行試料平臺17的Z軸的高度控制。這樣，可以調(diào)整分析點的高度(第S8b步)。
以下說明第二例。圖6為表示說明第二例功能的功能框圖，圖7為表示說明第二例功能和動作的流程圖，圖8～10為表示說明第二例功能的表示三維補正值的圖。
第二例是對具有試料的高度分布為根據(jù)從某一點開始的距離、其高度變化的形狀的特征的試料進行分析，采用以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心的三維Z軸補正值。三維Z軸補正值是通過先求出通過試料高度分布的中心位置的直線上的高度補正值，然后讓該高度補正值以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)后得到。對應于分析點的X、Y坐標值的Z坐標值采用三維Z軸補正值補正，進行Z軸方向的位置控制。
在圖6中，由點虛線所圍的各塊表示計算機2所具有的功能塊，包括保存各數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)保存塊20a、設定直線、測定點的功能塊2j、計算中心位置的功能塊2k、進行高度補正運算的運算功能塊2m、計算高度補正值的近似函數(shù)的近似函數(shù)功能塊2n、從近似函數(shù)計算三維函數(shù)的功能塊2p、計算試料面和三維函數(shù)之間的斜率的功能塊2q、計算Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值的運算功能塊2e。
數(shù)據(jù)保存塊20a保存分析范圍2a、中心位置2f、X、Y、Z坐標值2b、高度補正值的Z坐標值2g、三維函數(shù)2h、斜率2i、Z軸補正值2c、Z軸補正函數(shù)值2d等的各數(shù)據(jù)。
分析范圍2a表示要在試料S上進行分析的范圍，通過一邊觀察由監(jiān)視器7顯示的光學像等一邊由圖中未畫出的輸入裝置進行設定。X、Y、Z坐標值2b表示分析范圍內(nèi)的試料表面的坐標值，X、Y坐標值通過平臺控制器3輸入試料平臺17的當前位置，Z坐標值由自動對焦控制器6等高度檢測裝置輸入所求出的試料表面的高度信息。
分析對象的試料具有其高度分布為根據(jù)從某一點開始的距離、高度變化的特征，中心位置運算塊2k用X、Y、Z坐標值計算出中心位置，保存在中心位置2f中。
直線、測定點設定功能塊2j，確定從中心位置向徑方向的直線，在直線上設定測定點。高度補正值運算塊2m根據(jù)測定點的Z軸坐標值計算出高度補正的Z軸坐標值并保存到2g中。近似函數(shù)的塊2n采用高度補正的Z軸坐標值計算出有關(guān)徑方向的高度補正函數(shù)，三維函數(shù)的塊2p計算出讓近似函數(shù)以中心位置為旋轉(zhuǎn)中心進行旋轉(zhuǎn)以求出三維函數(shù)，并保存到塊2h中。又，斜率運算的塊2q，計算試料表面的斜率，將所求出的斜率函數(shù)保存到2i中。
Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值運算塊2e，采用三維函數(shù)2h或者與三維函數(shù)傾斜2i的數(shù)據(jù)，計算為了讓試料面滿足分析條件所要求的高度調(diào)整量。所求出的Z軸補正值、Z軸補正函數(shù)值保存在Z軸補正值2c和Z軸補正函數(shù)值2d中，在進行分析時輸送給平臺控制器3進行高度控制，調(diào)整X線分光器的焦點位置。
以下，用圖7的流程圖以及圖8～10說明第二例的動作。用監(jiān)視器7觀察試料S的光學像和SEM像等，設定分析范圍，保存到分析范圍20a中。圖8中的虛線所圍的矩形表示分析范圍的一例(第S11步)。
由于試料S具有其高度分布根據(jù)從某一點開始的距離、高度發(fā)生變化的形狀的特征，只需要測定試料表面形狀的從中心位置向徑方向的高度變化就可以求出試料整體的形狀。為此，由平臺控制器以及自動對焦控制器求出試料面的坐標值，由中心位置塊2k計算出中心位置，并保存到存儲塊2f中(第S12步)。
進一步，設定穿過所求出的中心位置的徑方向的直線(圖8中的點實線)(第S13步)，獲得直線上的坐標值。坐標值的獲取可以通過由試料平臺17設定X、Y坐標同時由自動對焦控制器6計算Z坐標值的方式進行，保存到X、Y、Z坐標值2b中。所求坐標值的測定點在直線上可以是任意的，例如，形狀變化急劇的部分可以密集測定，形狀變化緩慢的部分可以稀疏測定(第S14步)。
根據(jù)所求出的坐標值，求出高度補正值的Z軸坐標值(第S15步)，進一步，求出試料半徑方向的高度補正近似函數(shù)。圖8表示高度補正近似函數(shù)的一例(第S16步)。讓高度補正近似函數(shù)以中心位置為旋轉(zhuǎn)中心進行旋轉(zhuǎn)，獲得三維函數(shù)。該三維函數(shù)表示試料表面的形狀，利用該坐標值可以進行Z軸方向的補正。圖8表示截取一部分后的三維函數(shù)(第S17步)。
第S17步所求出的三維函數(shù)是在假設試料S沒有傾斜的情況下進行的，實際上存在試料S相對于試料平臺有傾斜的情況。第18、19步針對這種情況，求出考慮了試料傾斜的Z軸補正值。在此，在對試料S的分析范圍上的數(shù)點求出坐標值后(第18步)，讓三維函數(shù)通過所求坐標值的盡量近旁處來求出三維函數(shù)的斜率系數(shù)。通過利用該斜率系數(shù)和三維函數(shù)進行Z軸的補正，就可以進行考慮了試料面的傾斜的高度補正。圖9表示試料面的斜率和三維函數(shù)的關(guān)系，對于圖9中斜線表示的分析范圍的傾斜，如圖10所示，讓三維函數(shù)在X軸方向傾斜θx，Y軸方向傾斜θy即可(第19步)。
之后，通過第20～22步，進行和上述第6～8步相同的高度方向上的補正，進行分析。第20～22步的處理，可以只用第17步所求出的三維函數(shù)進行，也可以用第17步所求出的三維函數(shù)和第19步所求出的斜率系數(shù)進行。以下對采用三維函數(shù)和斜率系數(shù)的情況進行說明。
在進行點分析時(第S20步)，確定分析范圍內(nèi)中分析點的X、Y坐標值。對于所確定分析點的X、Y坐標值，從三維函數(shù)和斜率系數(shù)求出所對應的Z軸補正值(第S21a步)。根據(jù)該Z軸補正值通過平臺控制器3向步進電機驅(qū)動器輸送控制信號，進行試料平臺17的Z軸的高度控制。這樣，可以調(diào)整分析點的高度(第S22a步)。
又，在進行線分析和面分析時(第S20步)，確定分析范圍內(nèi)分析線或者分析范圍。對于所確定分析線或者分析范圍的X、Y坐標值，從三維函數(shù)和斜率系數(shù)求出所對應的Z軸補正函數(shù)(第S21b步)。根據(jù)該Z軸補正函數(shù)所定的Z軸補正值通過平臺控制器3向步進電機驅(qū)動器輸送控制信號，進行試料平臺17的Z軸的高度控制。這樣，可以調(diào)整分析點的高度(第S22b步)。
此外，在上述例中，雖然只示出了采用一個近似函數(shù)求出三維函數(shù)的情況，根據(jù)試料表面的周方向的形狀特性，也可以通過從中心位置引出反射狀的多條直線，求出多個近似函數(shù)，讓近似函數(shù)在圓周方向按照給定的角度旋轉(zhuǎn)，求出多個三維函數(shù)，將這些多個三維函數(shù)排列在圓周方向，由此，進行試料表面的Z軸補正。
根據(jù)以上的說明，依據(jù)本發(fā)明，在電子探針微分析儀中可以在坐標值少的獲取次數(shù)的情況下進行高精度的分析，又，即使是在高度方向變化程度大的情況下，控制也不會發(fā)散，而可以進行高精度的分析。
權(quán)利要求
1.一種電子探針微分析儀，利用通過電子束照射從試料放射出的特性X線進行試料表面的元素分析，其特征是具有根據(jù)分析范圍內(nèi)的測定坐標值形成Z軸坐標值的等值線，求出由等值線區(qū)分的Z軸補正值的區(qū)域的運算功能，根據(jù)所述Z軸補正值讓試料表面滿足分析條件的高度來進行試料Z軸方向的位置控制。
2.一種電子探針微分析儀，利用通過電子束照射從試料放射出的特性X線進行試料表面的元素分析，其特征是具有求出經(jīng)過試料高度分布的中心位置的直線上的高度補正值，利用該高度補正值求出以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心的三維補正值的運算功能，根據(jù)從所述三維補正值中得到的Z軸補正值，讓試料表面滿足分析條件的高度來進行試料Z軸方向的位置控制。
全文摘要
一種電子探針微分析儀,其特征是具有根據(jù)分析范圍內(nèi)的測定坐標值形成Z軸坐標值的等值線求出由等值線區(qū)分的Z軸補正值的區(qū)域的運算功能,根據(jù)所述Z軸補正值或者求出經(jīng)過試料高度分布的中心位置的直線上的高度補正值利用該高度補正值求出以高度分布的中心位置為旋轉(zhuǎn)中心的三維補正值的運算功能,根據(jù)從所述三維補正值中得到的Z軸補正值,讓試料表面滿足分析條件的高度來進行試料Z軸方向的位置控制。
文檔編號G01N23/22GK1253291SQ9911944
公開日2000年5月17日 申請日期1999年9月24日 優(yōu)先權(quán)日1998年11月10日
發(fā)明者坂前浩 申請人:株式會社島津制作所