本實(shí)用新型涉及一種試驗(yàn)器具,具體涉及一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)。
背景技術(shù):
離子減薄是制備透射電鏡樣品的主要方法之一,一般的離子減薄樣品臺(tái)只能用于加工較小尺寸的透射樣品,而對(duì)于需要透射電鏡觀察的原位拉伸試樣無(wú)法進(jìn)行離子減薄。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型為解決現(xiàn)有離子減薄樣品臺(tái)無(wú)法加工原位拉伸試樣的問(wèn)題,進(jìn)而提供一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)。
本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問(wèn)題采取的技術(shù)方案是:
一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)由定位柱(1)、支撐臺(tái)(2)、基臺(tái)支架(3)、基臺(tái)支柱(4)和基臺(tái)底座(5);基臺(tái)底座(5)為圓錐形,中心處設(shè)有圓形通孔,其上端與基臺(tái)支柱(4)下端相連,基臺(tái)支柱(4)為圓柱形,中心處設(shè)有圓形通孔,其上端左右兩側(cè)分別設(shè)有基臺(tái)支架(3),基臺(tái)支架(3)為L(zhǎng)型支架,每個(gè)基臺(tái)支架(3)上端分別設(shè)有支撐臺(tái)(2),支撐臺(tái)(2)為長(zhǎng)方體,每個(gè)支撐臺(tái)(2)前后兩端分別設(shè)有兩個(gè)定位柱(1),定位柱(1)為正方體。
本實(shí)用新型具有以下有益效果:
一、利用本實(shí)用新型能夠準(zhǔn)確的對(duì)原位拉伸試樣(6)的中心進(jìn)行減??;
二、本裝置定位性較好,可重復(fù)性高,可重復(fù)對(duì)不同原位拉伸試樣(6)的同一位置進(jìn)行剪薄。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型的的主視圖;圖2是本實(shí)用新型的左視圖;圖3是本實(shí)用新型的俯視圖;圖4是本實(shí)用新型加工原位拉伸試樣時(shí)的工作圖。
具體實(shí)施方式
具體實(shí)施方式一:結(jié)合圖1~圖3說(shuō)明本實(shí)施方式,本實(shí)施方式實(shí)用新型由定位柱(1)、支撐臺(tái)(2)、基臺(tái)支架(3)、基臺(tái)支柱(4)和基臺(tái)底座(5);基臺(tái)底座(5)為圓錐形,中心處設(shè)有圓形通孔,其上端與基臺(tái)支柱(4)下端相連,基臺(tái)支柱(4)為圓柱形,中心處設(shè)有圓形通孔,其上端左右兩側(cè)分別設(shè)有基臺(tái)支架(3),基臺(tái)支架(3)為L(zhǎng)型支架,每個(gè)基臺(tái)支架(3)上端分別設(shè)有支撐臺(tái)(2),支撐臺(tái)(2)為長(zhǎng)方體,每個(gè)支撐臺(tái)(2)前后兩端分別設(shè)有兩個(gè)定位柱(1),定位柱(1)為正方體。
具體實(shí)施方式二:基臺(tái)底座(5)上端直徑與基臺(tái)支柱(4)直徑相同。其它與具體實(shí)施方式一相同。
具體實(shí)施方式三:基臺(tái)底座(5)和基臺(tái)支柱(4)上的圓形通孔直徑相同,并且同心。其它與具體實(shí)施方式一和二相同。
工作原理
圖1~圖4說(shuō)明本實(shí)用新型工作原理,將待加工的原位拉伸試樣(6)兩端分別放置在本實(shí)用新型兩側(cè)的定位柱(1)之間,通過(guò)定位柱(1)將原位拉伸試樣(6)固定,然后將本實(shí)用新型放在離子減薄機(jī)器上,即可減薄。