本實(shí)用新型涉及一種試驗(yàn)器具，具體涉及一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)。

背景技術(shù)：

離子減薄是制備透射電鏡樣品的主要方法之一，一般的離子減薄樣品臺(tái)只能用于加工較小尺寸的透射樣品，而對(duì)于需要透射電鏡觀察的原位拉伸試樣無(wú)法進(jìn)行離子減薄。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型為解決現(xiàn)有離子減薄樣品臺(tái)無(wú)法加工原位拉伸試樣的問(wèn)題，進(jìn)而提供一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)。

本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問(wèn)題采取的技術(shù)方案是：

一種原位拉伸試樣離子減薄樣品臺(tái)由定位柱（1）、支撐臺(tái)（2）、基臺(tái)支架（3）、基臺(tái)支柱（4）和基臺(tái)底座（5）；基臺(tái)底座（5）為圓錐形，中心處設(shè)有圓形通孔，其上端與基臺(tái)支柱（4）下端相連，基臺(tái)支柱（4）為圓柱形，中心處設(shè)有圓形通孔，其上端左右兩側(cè)分別設(shè)有基臺(tái)支架（3），基臺(tái)支架（3）為L(zhǎng)型支架，每個(gè)基臺(tái)支架（3）上端分別設(shè)有支撐臺(tái)（2），支撐臺(tái)（2）為長(zhǎng)方體，每個(gè)支撐臺(tái)（2）前后兩端分別設(shè)有兩個(gè)定位柱（1），定位柱（1）為正方體。

本實(shí)用新型具有以下有益效果：

一、利用本實(shí)用新型能夠準(zhǔn)確的對(duì)原位拉伸試樣（6）的中心進(jìn)行減??；

二、本裝置定位性較好，可重復(fù)性高，可重復(fù)對(duì)不同原位拉伸試樣（6）的同一位置進(jìn)行剪薄。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的的主視圖；圖2是本實(shí)用新型的左視圖；圖3是本實(shí)用新型的俯視圖；圖4是本實(shí)用新型加工原位拉伸試樣時(shí)的工作圖。

具體實(shí)施方式

具體實(shí)施方式一：結(jié)合圖1～圖3說(shuō)明本實(shí)施方式，本實(shí)施方式實(shí)用新型由定位柱（1）、支撐臺(tái)（2）、基臺(tái)支架（3）、基臺(tái)支柱（4）和基臺(tái)底座（5）；基臺(tái)底座（5）為圓錐形，中心處設(shè)有圓形通孔，其上端與基臺(tái)支柱（4）下端相連，基臺(tái)支柱（4）為圓柱形，中心處設(shè)有圓形通孔，其上端左右兩側(cè)分別設(shè)有基臺(tái)支架（3），基臺(tái)支架（3）為L(zhǎng)型支架，每個(gè)基臺(tái)支架（3）上端分別設(shè)有支撐臺(tái)（2），支撐臺(tái)（2）為長(zhǎng)方體，每個(gè)支撐臺(tái)（2）前后兩端分別設(shè)有兩個(gè)定位柱（1），定位柱（1）為正方體。

具體實(shí)施方式二：基臺(tái)底座（5）上端直徑與基臺(tái)支柱（4）直徑相同。其它與具體實(shí)施方式一相同。

具體實(shí)施方式三：基臺(tái)底座（5）和基臺(tái)支柱（4）上的圓形通孔直徑相同，并且同心。其它與具體實(shí)施方式一和二相同。

工作原理

圖1～圖4說(shuō)明本實(shí)用新型工作原理，將待加工的原位拉伸試樣（6）兩端分別放置在本實(shí)用新型兩側(cè)的定位柱（1）之間，通過(guò)定位柱（1）將原位拉伸試樣（6）固定，然后將本實(shí)用新型放在離子減薄機(jī)器上，即可減薄。