膜厚測(cè)定裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】基板Al檢測(cè)單元(33a)從測(cè)定頭(23)對(duì)成膜前的基板(11)照射原始X射線(xiàn)，利用測(cè)定頭(23)檢測(cè)由該基板(11)產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)該基板(11)所含的鋁成分。Al膜校正單元(33b)在基板(11)上形成了Al膜時(shí)，基于基板Al檢測(cè)單元(33a)的檢測(cè)結(jié)果校正利用測(cè)定頭(23)從Al膜檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度，求出Al膜的厚度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】膜厚測(cè)定裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及測(cè)定基板上的膜厚的膜厚測(cè)定裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]以往，作為膜厚測(cè)定裝置，有日本特開(kāi)平3 — 94444號(hào)公報(bào)(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)所記載的裝置。在該膜厚測(cè)定裝置中，對(duì)基板上的膜照射原始X射線(xiàn)，檢測(cè)由該膜產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，由該熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出膜厚。
[0003]但是，如圖8所示，在基板101上層疊有包含鋁的Al膜102，該基板101是例如Al2O3的玻璃基板，在含鋁成分的情況下，當(dāng)對(duì)Al膜102照射原始X射線(xiàn)150時(shí)，除了檢測(cè)出由Al膜102的Al產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)152之外，還檢測(cè)出由基板101的Al產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)151。
[0004]這樣，因?yàn)樯鲜龌?01所含的鋁成分的影響，有不能準(zhǔn)確地求出上述Al膜102的厚度的問(wèn)題。特別是基板101所含的鋁成分，有時(shí)按各基板101而變動(dòng)，不能統(tǒng)一地校正。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0007]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平3 - 94444號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0009]因此，本發(fā)明的課題在于提供能排除產(chǎn)品基板的基板所含的Al的影響、能準(zhǔn)確地求出Al膜的厚度的膜厚測(cè)定裝置。
[0010]用于解決問(wèn)題的方案
[0011]為了解決上述課題，本發(fā)明的膜厚測(cè)定裝置具備:
[0012]基座；
[0013]基板工作臺(tái)，其設(shè)于上述基座，并且載置成膜后的產(chǎn)品基板；
[0014]龍門(mén)架，其以相對(duì)于上述基板工作臺(tái)向第I方向延伸，并且相對(duì)于上述基板工作臺(tái)能向第2方向移動(dòng)的方式安裝于上述基座；
[0015]滑動(dòng)件，其能向上述第I方向移動(dòng)地安裝于上述龍門(mén)架；
[0016]測(cè)定頭，其固定于上述滑動(dòng)件，并且對(duì)載置于上述基板工作臺(tái)的上述產(chǎn)品基板的膜照射原始X射線(xiàn)，檢測(cè)由該膜產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)；以及
[0017]解析單元，其由利用上述測(cè)定頭檢測(cè)出的上述熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出上述膜的厚度，
[0018]上述解析單元具有:
[0019]基板Al檢測(cè)單元，其從上述測(cè)定頭對(duì)上述產(chǎn)品基板的成膜前的基板照射原始X射線(xiàn)，利用上述測(cè)定頭檢測(cè)由該基板產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)該基板所含的鋁成分；以及
[0020]Al膜校正單元，在上述產(chǎn)品基板的上述膜中有包含鋁的Al膜時(shí)，基于上述基板Al檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)利用上述測(cè)定頭從上述Al膜檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度進(jìn)行校正，求出上述Al膜的厚度。
[0021]在此，上述產(chǎn)品基板具有基板和形成于該基板上的一層以上的膜。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的膜厚測(cè)定裝置，上述基板Al檢測(cè)單元從上述測(cè)定頭對(duì)上述產(chǎn)品基板的成膜前的基板照射原始X射線(xiàn)，利用上述測(cè)定頭檢測(cè)由該基板產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)該基板所含的鋁成分。上述Al膜校正單元在上述產(chǎn)品基板的上述膜中有包含鋁的Al膜時(shí)，基于上述基板Al檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果校正利用上述測(cè)定頭從上述Al膜檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度，求出上述Al膜的厚度。
[0023]由此，在由利用上述測(cè)定頭所檢測(cè)的Al膜的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出Al膜的厚度時(shí)，能排除產(chǎn)品基板的基板所含的Al的影響，能準(zhǔn)確地求出Al膜的厚度。
[0024]另外，在一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置中，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板都檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。
[0025]根據(jù)該實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板都檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。由此，能對(duì)全部產(chǎn)品基板進(jìn)一步精度高地求出Al膜的厚度。
[0026]另外，在一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置中，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板按每批檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。
[0027]根據(jù)該實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板按每批檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。由此，會(huì)基于全部產(chǎn)品基板的每批的成膜前的基板的鋁成分求出Al膜的厚度，能迅速且精度高地求出Al膜的厚度。
[0028]另外，在一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置中，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板中的至少一個(gè)產(chǎn)品基板檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。
[0029]根據(jù)該實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置，上述基板Al檢測(cè)單元對(duì)全部上述產(chǎn)品基板中的至少一個(gè)產(chǎn)品基板檢測(cè)成膜前的上述基板的鋁成分。由此，會(huì)基于至少一個(gè)產(chǎn)品基板的成膜前的基板的鋁成分求出Al膜的厚度，能迅速求出Al膜的厚度。
[0030]另外，在一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置中，
[0031]在上述基板Al檢測(cè)單元檢測(cè)上述基板的鋁成分時(shí)，
[0032]上述測(cè)定頭所測(cè)定的上述基板的測(cè)定位置與設(shè)于上述基板工作臺(tái)的空間區(qū)域重疊。
[0033]根據(jù)該實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置，上述測(cè)定頭所測(cè)定的上述基板的測(cè)定位置與設(shè)于上述基板工作臺(tái)的空間區(qū)域重疊。由此，在從測(cè)定頭對(duì)基板照射原始X射線(xiàn)而從基板檢測(cè)熒光X射線(xiàn)時(shí)，即使大量原始X射線(xiàn)透射過(guò)基板，該透射的原始X射線(xiàn)也會(huì)通過(guò)基板工作臺(tái)的空間區(qū)域。
[0034]因此，能避免透射過(guò)該基板的原始X射線(xiàn)照射基板工作臺(tái)，能防止測(cè)定頭檢測(cè)出由構(gòu)成該基板工作臺(tái)的物質(zhì)產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)。因此，能精度高地檢測(cè)基板的鋁成分。
[0035]另外，在一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置中，設(shè)于上述基板工作臺(tái)的空間區(qū)域是用于吸入空氣或者吹出空氣的空氣孔。
[0036]根據(jù)該實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置，設(shè)于上述基板工作臺(tái)的空間區(qū)域是空氣孔。由此，在利用測(cè)定頭測(cè)定基板時(shí)，從空氣孔吸入空氣，能使基板緊貼基板工作臺(tái)。因此，能在使基板的測(cè)定位置的高度穩(wěn)定的狀態(tài)下測(cè)定基板的測(cè)定位置。
_] 發(fā)明效果
[0038]根據(jù)本發(fā)明的膜厚測(cè)定裝置，因?yàn)榫哂猩鲜龌錋l檢測(cè)單元和上述Al膜校正單元，所以能排除產(chǎn)品基板的基板所含的Al的影響，能準(zhǔn)確地求出Al膜的厚度。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0039]圖1是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置的俯視圖。
[0040]圖2是從圖1的箭頭U方向觀看的膜厚測(cè)定裝置的側(cè)視圖。
[0041]圖3是說(shuō)明位移傳感器的動(dòng)作的說(shuō)明圖。
[0042]圖4是說(shuō)明測(cè)定頭的動(dòng)作的說(shuō)明圖。
[0043]圖5是說(shuō)明利用原始X射線(xiàn)的照射而產(chǎn)生熒光X射線(xiàn)的狀態(tài)的說(shuō)明圖。
[0044]圖6A是示出鈦膜和鑰膜中的X射線(xiàn)強(qiáng)度和膜厚的關(guān)系的表。
[0045]圖6B是繪制圖6A的數(shù)據(jù)的坐標(biāo)圖。
[0046]圖7是說(shuō)明利用測(cè)定頭測(cè)定產(chǎn)品基板的成膜前的基板的狀態(tài)的說(shuō)明圖。
[0047]圖8是說(shuō)明以往的膜厚測(cè)定的說(shuō)明圖。

【具體實(shí)施方式】
[0048]以下利用圖示的實(shí)施方式詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0049]圖1是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的膜厚測(cè)定裝置的俯視圖。圖2是從圖1的箭頭U方向觀看的側(cè)視圖。如圖1和圖2所示，該膜厚測(cè)定裝置具有基座1、基板工作臺(tái)2、校正工作臺(tái)3、龍門(mén)架4、滑動(dòng)件5、多個(gè)測(cè)定設(shè)備21、22、23、以及控制單元30。
[0050]上述基板工作臺(tái)2設(shè)于上述基座1，包括分割為多個(gè)的工作臺(tái)。在基板工作臺(tái)2上載置成膜后的產(chǎn)品基板10。
[0051]上述基板工作臺(tái)2設(shè)有多個(gè)空氣孔2a，從該空氣孔2a吸入空氣，由此能使產(chǎn)品基板10緊貼基板工作臺(tái)2，另一方面，從空氣孔2a吹出空氣，由此使產(chǎn)品基板10從基板工作臺(tái)2浮起。
[0052]上述廣品基板10例如是用于液晶顯不器的液晶TFT。該廣品基板10具有基板和形成于該基板上的一層以上的膜。上述膜例如利用濺射法、蒸鍍法、電鍍法在上述基板上成膜。上述基板例如是玻璃基板，上述膜例如是鋁、鈦、鎢、鑰等的金屬膜。
[0053]上述校正工作臺(tái)3設(shè)于上述基座1，與上述基板工作臺(tái)2分開(kāi)設(shè)置。該校正工作臺(tái)3設(shè)有多個(gè)凹部3a，在該凹部3a嵌入各種校正試樣60、70，使用該校正試樣60、70進(jìn)行上述測(cè)定設(shè)備21、22、23的校正。
[0054]上述龍門(mén)架4相對(duì)于上述基板工作臺(tái)2和上述校正工作臺(tái)3在第I方向延伸。龍門(mén)架4以相對(duì)于基板工作臺(tái)2和校正工作臺(tái)3能向第2方向移動(dòng)的方式安裝于基座I。所謂第I方向是指箭頭A方向，所謂第2方向是指箭頭B方向。第I方向和第2方向相互正交。
[0055]即，上述基座I設(shè)有向第2方向(箭頭B方向)延伸的2個(gè)軌部6、6。這2個(gè)軌部6、6以?shī)A著基板工作臺(tái)2和校正工作臺(tái)3的方式配置。上述龍門(mén)架4架設(shè)于這2個(gè)軌部6、6,能沿著該軌部6、6向第2方向移動(dòng)。
[0056]上述滑動(dòng)件5能向第I方向(箭頭A方向)移動(dòng)地安裝于上述龍門(mén)架4。在該滑動(dòng)件5上固定有作為上述測(cè)定設(shè)備的照相機(jī)21、位移傳感器22以及測(cè)定頭23。
[0057]并且，上述測(cè)定設(shè)備21、22、23能利用龍門(mén)架4的可動(dòng)范圍Zl覆蓋基板工作臺(tái)2和校正工作臺(tái)3的第2方向(箭頭B方向)的全部范圍。另外，上述測(cè)定設(shè)備21、22、23能利用滑動(dòng)件5的可動(dòng)范圍Z2覆蓋基板工作臺(tái)2和校正工作臺(tái)3的第I方向(箭頭A方向)的全部范圍。
[0058]上述控制單元30具有基板位置校正單元31、頭位置調(diào)整單元32、解析單元33以及測(cè)定設(shè)備校正單元34。
[0059]上述照相機(jī)21對(duì)載置于基板工作臺(tái)2的產(chǎn)品基板10的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)。該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是能由照相機(jī)21判斷的標(biāo)記，例如設(shè)于產(chǎn)品基板10的四角。
[0060]上述基板位置校正單元31基于上述照相機(jī)21的檢測(cè)結(jié)果對(duì)載置于基板工作臺(tái)2的產(chǎn)品基板10的平面方向(第1、第2方向)的位置信息進(jìn)行校正。具體地說(shuō)，在上述基座I上以按壓產(chǎn)品基板10的周?chē)母鬟叺姆绞皆O(shè)有多個(gè)夾子7。在利用夾子7將產(chǎn)品基板10固定于規(guī)定的位置后，用照相機(jī)21檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，基于該檢測(cè)結(jié)果，利用基板位置校正單元31校正產(chǎn)品基板10的位置信息。
[0061]如圖3所示，上述位移傳感器22測(cè)定與載置于基板工作臺(tái)2的產(chǎn)品基板10的高度方向的距離。位移傳感器22利用例如紅外線(xiàn)等光線(xiàn)測(cè)定與產(chǎn)品基板10的預(yù)定的測(cè)定點(diǎn)P的距離。
[0062]上述頭位置調(diào)整單元32基于上述位移傳感器22的測(cè)定值調(diào)整測(cè)定頭23的高度方向的位置，以使得載置于基板工作臺(tái)的產(chǎn)品基板10與測(cè)定頭23之間的距離成為預(yù)定的設(shè)定值。具體地說(shuō)，產(chǎn)品基板10的測(cè)定點(diǎn)P與測(cè)定頭23的受光發(fā)光部23a之間的高度方向的距離被調(diào)整為2mm±30ym。
[0063]另外，上述頭位置調(diào)整單元32在調(diào)整測(cè)定頭23的高度方向的位置后，將測(cè)定頭23移動(dòng)到測(cè)定頭23能測(cè)定產(chǎn)品基板10的測(cè)定點(diǎn)P的位置。
[0064]如圖4所示，上述測(cè)定頭23具有X射線(xiàn)照射部231和熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232。
[0065]上述X射線(xiàn)照射部231從受光發(fā)光部23a向產(chǎn)品基板10的測(cè)定點(diǎn)P照射原始X射線(xiàn)51。原始X射線(xiàn)51例如是銠、鑰、鎢等。于是如圖5所示，產(chǎn)品基板10的基板11上的膜12由于原始X射線(xiàn)51的照射而產(chǎn)生熒光X射線(xiàn)52。
[0066]上述熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232從受光發(fā)光部23a檢測(cè)出由上述膜12產(chǎn)生的上述熒光X射線(xiàn)52。熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232例如是硅漂移檢測(cè)器。
[0067]上述解析單元33由利用上述測(cè)定頭23檢測(cè)出的上述熒光X射線(xiàn)52的強(qiáng)度求出上述膜12的厚度。具體地說(shuō)，解析單元33具有前置放大器331和多道分析器(以下稱(chēng)為MCA)332。
[0068]上述前置放大器331將從熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232輸出的電信號(hào)放大。上述MCA332對(duì)由前置放大器331放大的電信號(hào)進(jìn)行解析。在MCA332中，篩選從熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232輸出的能量，測(cè)量脈沖，由此求出構(gòu)成膜12的元素的X射線(xiàn)強(qiáng)度。并且，基于該X射線(xiàn)強(qiáng)度，由已知的數(shù)據(jù)求出膜12的厚度。此外，因?yàn)槭褂肕CA332，所以能檢測(cè)出混入膜12的異物、雜質(zhì)。
[0069]例如，在上述膜12是鈦膜或者鑰膜的情況下，X射線(xiàn)強(qiáng)度和膜厚的關(guān)系為圖6A和圖6B所不的關(guān)系。
[0070]此外，在上述中說(shuō)明了單層膜(圖5)的厚度測(cè)定，但是也能測(cè)定多層膜的厚度。在該情況下，利用測(cè)定頭23檢測(cè)由各膜產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，利用解析單元33求出構(gòu)成各膜的各元素的X射線(xiàn)強(qiáng)度，基于該X射線(xiàn)強(qiáng)度求出各膜的厚度。而且，由該各元素的X射線(xiàn)強(qiáng)度也能求出各元素的組分比。
[0071]再如圖1所示，上述解析單元33具有基板Al檢測(cè)單元33a和Al膜校正單元33b。
[0072]上述基板Al檢測(cè)單元33a從測(cè)定頭23對(duì)產(chǎn)品基板10的成膜前的基板11照射原始X射線(xiàn)，利用測(cè)定頭23檢測(cè)從該基板11產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)出該基板11所含的鋁成分。
[0073]上述Al膜校正單元33b在產(chǎn)品基板10的膜12中有包含鋁的Al膜時(shí)，基于上述基板Al檢測(cè)單元33a的檢測(cè)結(jié)果校正利用測(cè)定頭23從Al膜檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度，求出Al膜的厚度。
[0074]具體地說(shuō)，如圖7所示，在上述產(chǎn)品基板10的成膜前的基板11是例如A1203的玻璃基板、包含鋁成分的情況下，將基板11載置于基板工作臺(tái)2。并且，在利用位移傳感器22調(diào)整測(cè)定頭23的高度后，利用測(cè)定頭23測(cè)定基板11的測(cè)定位置L的熒光X射線(xiàn)?；錋l檢測(cè)單元33a基于該測(cè)定值檢測(cè)基板11的鋁成分。
[0075]然后，在上述基板11上形成了 Al膜的情況下，如圖3所示，利用測(cè)定頭23測(cè)定產(chǎn)品基板10的測(cè)定點(diǎn)P的熒光X射線(xiàn)，而Al膜校正單元33b基于基板Al檢測(cè)單元33a的檢測(cè)結(jié)果校正該熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度，求出Al膜的厚度。
[0076]由此，在由利用上述測(cè)定頭23檢測(cè)出的Al膜的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出Al膜的厚度時(shí)，能排除產(chǎn)品基板10的基板11所含的Al的影響，能準(zhǔn)確地求出Al膜的厚度。
[0077]利用上述測(cè)定頭23所測(cè)定的上述基板11的測(cè)定位置L在俯視時(shí)與設(shè)于上述基板工作臺(tái)2的空氣孔2a重疊。由此，在從測(cè)定頭23對(duì)基板11照射原始X射線(xiàn)而從基板11檢測(cè)出熒光X射線(xiàn)時(shí)，即使大量的原始X射線(xiàn)透射過(guò)基板11，該透射的原始X射線(xiàn)也能通過(guò)基板工作臺(tái)2的空間區(qū)域。
[0078]因此，能避免透射過(guò)該基板11的原始X射線(xiàn)照射基板工作臺(tái)2，能防止測(cè)定頭23檢測(cè)出由構(gòu)成該基板工作臺(tái)2的物質(zhì)產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)。因此，能精度高地檢測(cè)基板11的鋁成分。
[0079]另外，在利用上述測(cè)定頭23測(cè)定基板11時(shí)，從空氣孔2a吸入空氣，能使基板11緊貼基板工作臺(tái)2。因此，能在使基板11的測(cè)定位置L的高度穩(wěn)定的狀態(tài)下測(cè)定基板11的測(cè)定位置L。
[0080]優(yōu)選上述測(cè)定位置L (參照?qǐng)D7)和上述測(cè)定點(diǎn)P (參照?qǐng)D3)在俯視時(shí)重疊，能進(jìn)一步準(zhǔn)確地求出Al膜的厚度。此外，測(cè)定位置L和測(cè)定點(diǎn)P也可以不重疊。
[0081]上述基板Al檢測(cè)單元33a可以對(duì)全部產(chǎn)品基板10都檢測(cè)成膜前的基板11的鋁成分。由此，能對(duì)全部產(chǎn)品基板10進(jìn)一步精度高地求出Al膜的厚度。
[0082]或者，上述基板Al檢測(cè)單元33a可以對(duì)全部產(chǎn)品基板10按每批檢測(cè)成膜前的基板11的鋁成分。由此，基于全部產(chǎn)品基板10的每批的成膜前的基板11的鋁成分求出Al膜的厚度，由此能迅速且精度高地求出Al膜的厚度。
[0083]或者，上述基板Al檢測(cè)單元33a可以對(duì)全部產(chǎn)品基板10中的至少一個(gè)產(chǎn)品基板10檢測(cè)成膜前的基板11的鋁成分。由此，基于至少一個(gè)產(chǎn)品基板10的成膜前的基板11的鋁成分求出Al膜的厚度，能迅速求出Al膜的厚度。
[0084]如圖1所示，上述測(cè)定設(shè)備校正單元34將上述測(cè)定設(shè)備21、22、23移動(dòng)到校正工作臺(tái)3，進(jìn)行測(cè)定設(shè)備21、22、23的校正。測(cè)定設(shè)備21、22、23的校正以規(guī)定間隔進(jìn)行。所謂該規(guī)定間隔例如是每天進(jìn)行I次校正這樣的規(guī)定時(shí)間間隔，或者是在測(cè)定規(guī)定片數(shù)的產(chǎn)品基板10的膜厚后進(jìn)行校正這樣的規(guī)定處理數(shù)量間隔。
[0085]在上述校正工作臺(tái)3上設(shè)置第I校正試樣60和第2校正試樣70。第I校正試樣60例如是用于調(diào)整測(cè)定頭23的熒光X射線(xiàn)檢測(cè)部232的增益的試樣。第2校正試樣70例如是用于各測(cè)定設(shè)備21、22、23的偏移量的試樣。
[0086]接著說(shuō)明上述構(gòu)成的膜厚測(cè)定裝置的動(dòng)作。
[0087]如圖1所示，首先，上述產(chǎn)品基板10從膜厚測(cè)定裝置的右方(箭頭R方向)被搬運(yùn)到基板工作臺(tái)2上。被搬運(yùn)到基板工作臺(tái)2上的產(chǎn)品基板10利用夾子7固定于規(guī)定的位置。然后，用照相機(jī)21檢測(cè)出對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，基于該檢測(cè)結(jié)果，利用基板位置校正單元31校正產(chǎn)品基板10的位置信息。
[0088]然后，在上述產(chǎn)品基板10的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)中的第I測(cè)定點(diǎn)處，利用位移傳感器22測(cè)定第I測(cè)定點(diǎn)與位移傳感器22之間的高度方向的距離。并且，上述頭位置調(diào)整單元32基于該測(cè)定值調(diào)整測(cè)定頭23的高度方向的位置，以使得第I測(cè)定點(diǎn)與測(cè)定頭23之間的距離成為設(shè)定值。
[0089]然后，上述測(cè)定頭23利用頭位置調(diào)整單元32移動(dòng)到第I測(cè)定點(diǎn)的正上方，對(duì)產(chǎn)品基板10的膜照射原始X射線(xiàn)，檢測(cè)由該膜產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)。并且，上述解析單元33由該檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出膜的厚度。
[0090]然后，對(duì)上述產(chǎn)品基板10的其它測(cè)定點(diǎn)也同樣地在調(diào)整測(cè)定頭23的高度后利用測(cè)定頭23測(cè)定其它測(cè)定點(diǎn)的膜厚。
[0091]這樣，測(cè)定上述產(chǎn)品基板10的全部測(cè)定點(diǎn)的膜厚，基于該測(cè)定結(jié)果判斷產(chǎn)品基板10是不是不合格品。
[0092]在此，在上述基板11含鋁成分而該基板11上層疊有Al膜的情況下，基板Al檢測(cè)單元33a從測(cè)定頭23對(duì)成膜前的基板11照射原始X射線(xiàn)，利用測(cè)定頭23檢測(cè)由該基板11產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)該基板11所含的鋁成分。并且，Al膜校正單元33b基于基板Al檢測(cè)單元的檢測(cè)結(jié)果校正利用測(cè)定頭23從形成Al膜后的基板11檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度，求出Al膜的厚度。
[0093]然后，上述測(cè)定設(shè)備校正單元34以規(guī)定間隔將上述測(cè)定設(shè)備21、22、23移動(dòng)到校正工作臺(tái)3，進(jìn)行測(cè)定設(shè)備21、22、23的校正。
[0094]此外，本發(fā)明不限于上述的實(shí)施方式。例如，也可以在產(chǎn)品基板10上層疊多個(gè)膜，在該情況下，至少一個(gè)膜可以為Al膜。
[0095]另外，利用測(cè)定頭23所測(cè)定的基板11的測(cè)定位置L也可以不與基板工作臺(tái)2的空氣孔2a重疊，而與設(shè)于基板工作臺(tái)2的空間區(qū)域重疊。
[0096]另外，也可以省略照相機(jī)21、位移傳感器22而僅設(shè)置測(cè)定頭23。另外，也可以省略校正工作臺(tái)3而僅設(shè)置基板工作臺(tái)2。
[0097]另外，作為龍門(mén)架4的延伸方向的第I方向和作為龍門(mén)架4的移動(dòng)方向的第2方向也可以不相互正交地交叉。
[0098]另外，照相機(jī)21、位移傳感器22以及測(cè)定頭23的數(shù)量不限于一個(gè)，也可以是多個(gè)。
[0099]另外，也可以用本發(fā)明的膜厚測(cè)定裝置測(cè)定大型、小型的產(chǎn)品基板的膜厚，另外，除了液晶TFT以外，也可以測(cè)定有機(jī)EL等半導(dǎo)體基板的膜厚。
[0100]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0101]I 基座
[0102]2基板工作臺(tái)
[0103]2a空氣孔
[0104]3校正工作臺(tái)
[0105]4龍門(mén)架
[0106]5滑動(dòng)件
[0107]6 軌部
[0108]7 夾子
[0109]10廣品基板
[0110]11 基板
[0111]12 膜
[0112]21照相機(jī)
[0113]22位移傳感器
[0114]23測(cè)定頭
[0115]30控制單元
[0116]31基板位置校正單元
[0117]32頭位置調(diào)整單元
[0118]33解析單元
[0119]33a基板Al檢測(cè)單元
[0120]33b Al膜校正單元
[0121]34測(cè)定設(shè)備校正單元
[0122]60第I校正試樣
[0123]70第2校正試樣
[0124]A第I方向
[0125]B第2方向
【權(quán)利要求】
1.一種膜厚測(cè)定裝置，其特征在于，具備: 基座⑴; 基板工作臺(tái)(2)，其設(shè)于上述基座(I)，并且載置成膜后的產(chǎn)品基板(10)； 龍門(mén)架(4)，其以相對(duì)于上述基板工作臺(tái)(2)向第I方向(A)延伸，并且相對(duì)于上述基板工作臺(tái)⑵能向第2方向⑶移動(dòng)的方式安裝于上述基座(I)； 滑動(dòng)件(5)，其能向上述第I方向(A)移動(dòng)地安裝于上述龍門(mén)架(4)； 測(cè)定頭(23)，其固定于上述滑動(dòng)件(5)，并且對(duì)載置于上述基板工作臺(tái)(2)的上述產(chǎn)品基板(10)的膜(12)照射原始X射線(xiàn)，檢測(cè)由該膜(12)產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)；以及 解析單元(33)，其由利用上述測(cè)定頭(23)檢測(cè)出的上述熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度求出上述膜(12)的厚度， 上述解析單元(33)具有: 基板Al檢測(cè)單元(33a)，其從上述測(cè)定頭(23)對(duì)上述產(chǎn)品基板(10)的成膜前的基板(11)照射原始X射線(xiàn)，利用上述測(cè)定頭(23)檢測(cè)由該基板(11)產(chǎn)生的熒光X射線(xiàn)，檢測(cè)該基板(11)所含的鋁成分；以及 Al膜校正單元(33b)，在上述產(chǎn)品基板(10)的上述膜(12)中有包含鋁的Al膜時(shí)，基于上述基板Al檢測(cè)單元(33a)的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)利用上述測(cè)定頭(23)從上述Al膜檢測(cè)出的熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度進(jìn)行校正，求出上述Al膜的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚測(cè)定裝置，其特征在于， 上述基板Al檢測(cè)單元(33a)對(duì)全部上述產(chǎn)品基板(10)都檢測(cè)成膜前的上述基板(11)的鋁成分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚測(cè)定裝置，其特征在于， 上述基板Al檢測(cè)單元(33a)對(duì)全部上述產(chǎn)品基板(10)按每批檢測(cè)成膜前的上述基板(11)的鋁成分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚測(cè)定裝置，其特征在于， 上述基板Al檢測(cè)單元(33a)對(duì)全部上述產(chǎn)品基板(10)中的至少一個(gè)產(chǎn)品基板(10)檢測(cè)成膜前的上述基板(11)的鋁成分。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的膜厚測(cè)定裝置，其特征在于， 在上述基板Al檢測(cè)單元(33a)檢測(cè)上述基板(11)的鋁成分時(shí)， 上述測(cè)定頭(23)所測(cè)定的上述基板(11)的測(cè)定位置與設(shè)于上述基板工作臺(tái)(2)的空間區(qū)域重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的膜厚測(cè)定裝置，其特征在于， 設(shè)于上述基板工作臺(tái)(2)的空間區(qū)域是用于吸入空氣或者吹出空氣的空氣孔(2a)。
【文檔編號(hào)】G01B15/02GK104412061SQ201380035851
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2013年8月23日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月7日
【發(fā)明者】方志教和, 坂上英和, 原田德實(shí), 山脅千明 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社