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真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):5988343閱讀:511來源:國知局
專利名稱:真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種工藝過程的自動(dòng)檢測系統(tǒng),尤其涉及一種真空鍍膜技術(shù)中工藝過程的自動(dòng)檢測系統(tǒng),具體為光學(xué)鍍膜工藝過程的自動(dòng)檢測系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在線檢測、控制膜層生長的厚度和質(zhì)量(如光潔度等指標(biāo))是鍍膜生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)之一。真空鍍膜技術(shù)中,光學(xué)鍍膜用得越來越廣、越來越普遍。真空光學(xué)鍍膜生產(chǎn)過程中,膜厚在線檢測系統(tǒng)尤為重要,它關(guān)系到整個(gè)光控系統(tǒng)的各波長范圍內(nèi)的信號(hào)強(qiáng)度及穩(wěn)定性。測量真空光學(xué)鍍膜過程中的光路部分目前通常是采用透射式方法,也就是依靠凸透鏡使光束準(zhǔn)直和匯聚的方法。但檢測信號(hào)較弱,檢測精度較低。CN101825437A公開了一種光學(xué)鍍膜測量系統(tǒng)反射式光路裝置,包括置于真空鍍膜室內(nèi)光束交叉點(diǎn)上的比較片,位于真空鍍膜室外的裝在真空鍍膜室頂部的發(fā)射端光路耦合器、第一接收端光路耦合器,位于真空鍍膜室外的裝于真空鍍膜室底部的第二接收端光路耦合器,光束從光源由入射光纖引入發(fā)射端光路耦合器被準(zhǔn)直后進(jìn)入真空鍍膜室射到比較片上,一部分光透射過比較片后進(jìn)入第二接收端光路耦合器而另一部分光被比較片反射后進(jìn)入第一接收端光路耦合器,第一、第二接收端光路耦合器再分別將光束偶合進(jìn)入光纖、送入檢測系統(tǒng)。然而,該光學(xué)鍍膜測量系統(tǒng)反射式光路裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜,造價(jià)高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為克服以上不足,提供一種檢測信號(hào)較強(qiáng),檢測方便及時(shí),結(jié)構(gòu)相對簡單的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)。為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型的目的是這樣來實(shí)現(xiàn)的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),具有位于真空鍍膜室第一端外的光源;位于真空鍍膜室第一端的凸透鏡;位于所述光源與所述凸透鏡之間的光束準(zhǔn)直器;位于真空鍍膜室第二端的光電倍增管;與所述光電倍增管電連接的光膜測厚儀;所述光源、光束準(zhǔn)直器、凸透鏡、光電倍增管的中心位于同一直線上,所述真空鍍膜室第一端和所述真空鍍膜室第二端相對布置,所述凸透鏡將光源聚焦到光電倍增管的光信號(hào)接收端,光電倍增管將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)并放大后輸入光膜測厚儀。所述光束準(zhǔn)直器為提供平行光的裝置。進(jìn)一步地,所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的凸透鏡到所述光電倍增管的距離與凸透鏡的焦距相等。進(jìn)一步地,所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的光束準(zhǔn)直器具有定位槽。用于固定光束準(zhǔn)直器,使之不發(fā)生偏移。進(jìn)一步地,所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的光束準(zhǔn)直器與所述凸透鏡之間還具有平行玻璃片。在不沖突的情況下上述改進(jìn)方案可單獨(dú)或組合實(shí)施。[0011]在玻璃表面鍍膜成膜的過程中,光源發(fā)出的光通過光束準(zhǔn)直器和平行光玻璃片,經(jīng)凸透鏡聚光后透過在鍍玻璃及其鍍膜層,照射到光電倍增管上,光電倍增管將光信號(hào)的變化轉(zhuǎn)化成電信號(hào)的強(qiáng)弱,反饋到光膜測厚儀上,鍍層越厚,其反射損失的光能俞多,光膜測厚儀的讀數(shù)越低,可根據(jù)光膜測厚儀上的指示,來完成鍍膜的加工。本實(shí)用新型帶來的有益效果本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案,在玻璃表面鍍膜成膜的過程中,可在線監(jiān)控鍍膜的情況,檢測信號(hào)較強(qiáng),檢測方便及時(shí)。

附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請的一部分,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中圖I為實(shí)施例真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),光源I位于真空鍍膜室6的第一端外面,凸透鏡5位于真空鍍膜室6的第一端;光束準(zhǔn)直器3、平行玻璃片4位于所述光源I與所述凸透鏡5之間,平行玻璃片4位于近凸透鏡5 —端,光束準(zhǔn)直器3具有定位槽2,定位槽限定光束準(zhǔn)直器3的位置,從而保障平行光的方向;光電倍增管8位于真空鍍膜室6的第二端;光膜測厚儀9與光電倍增管8電連接;光源I、光束準(zhǔn)直器3、平行玻璃片4、凸透鏡5、光電倍增管8的中心位于同一直線上,所述真空鍍膜室第一端和所述真空鍍膜室第二端相對布置,所述凸透鏡5將光源聚焦到光電倍增管8的光信號(hào)接收端,光電倍增管8將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)并放大后輸入光膜測厚儀9,凸透鏡5到所述光電倍增管8的距離與凸透鏡5的焦距相等,使光電倍增管8接收到的光信號(hào)最強(qiáng),從而提高檢測系統(tǒng)的精度。在玻璃表面鍍膜成膜的過程中,光源發(fā)出的光通過光束準(zhǔn)直器和平行光玻璃片,經(jīng)凸透鏡聚光后透過在鍍玻璃7及其鍍膜層,照射到光電倍增管上,鍍層越厚,其反射損失的光能俞多,光信號(hào)越低,光電倍增管將光信號(hào)的變化轉(zhuǎn)化成電信號(hào)的強(qiáng)弱,反饋到光膜測厚儀上,根據(jù)光膜測厚儀上的指示,來完成鍍膜的加工。顯然,本實(shí)用新型不限于以上優(yōu)選實(shí)施方式,還可在本實(shí)用新型權(quán)利要求和說明書限定的精神內(nèi),進(jìn)行多種形式的變換和改進(jìn),能解決同樣的技術(shù)問題,并取得預(yù)期的技術(shù)效果,故不重述。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能從本實(shí)用新型公開的內(nèi)容直接或聯(lián)想到的所有方案,只要在權(quán)利要求限定的精神之內(nèi),也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),其特征在于具有位于真空鍍膜室(6)第一端外的光源(I);位于真空鍍膜室(6)第一端的凸透鏡(5);位于所述光源(I)與所述凸透鏡(5)之間的光束準(zhǔn)直器(3);位于真空鍍膜室(6)第二端的光電倍增管(8);與所述光電倍增管(8)電連接的光膜測厚儀(9);所述光源(I)、光束準(zhǔn)直器(3)、凸透鏡(5)、光電倍增管(8)的中心位于同一直線上,所述真空鍍膜室第一端和所述真空鍍膜室第二端相對布置,所述凸透鏡(5)將光源聚焦到光電倍增管(8)的光信號(hào)接收端,光電倍增管(8)將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)并放大后輸入光膜測厚儀(9)。
2.如權(quán)利要求I所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),其特征在于所述凸透鏡(5)到所述光電倍增管(8)的距離與凸透鏡(5)的焦距相等。
3.如權(quán)利要求I所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),其特征在于所述光束準(zhǔn)直器(3)具有定位槽(2)。
4.如權(quán)利要求I所述的真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),其特征在于在所述光束準(zhǔn)直器(3)與所述凸透鏡(5 )之間還具有平行玻璃片(4 )。
專利摘要真空光學(xué)鍍膜檢測系統(tǒng),具有位于真空鍍膜室(6)第一端外的光源(1);位于真空鍍膜室(6)第一端的凸透鏡(5);位于所述光源(1)與所述凸透鏡(5)之間的光束準(zhǔn)直器(3);位于真空鍍膜室(6)第二端的光電倍增管(8);與所述光電倍增管(8)電連接的光膜測厚儀(9);所述光源(1)、光束準(zhǔn)直器(3)、凸透鏡(5)、光電倍增管(8)的中心位于同一直線上,所述真空鍍膜室(6)第一端和第二端相對布置,所述凸透鏡(5)將光源聚焦到光電倍增管(8)的光信號(hào)接收端,光電倍增管(8)將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)并放大后輸入光膜測厚儀(9)。在玻璃表面鍍膜成膜的過程中,可在線監(jiān)控鍍膜的情況,檢測信號(hào)較強(qiáng),檢測方便及時(shí)。
文檔編號(hào)G01B11/06GK202692947SQ20122035968
公開日2013年1月23日 申請日期2012年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月24日
發(fā)明者劉益民 申請人:長沙韶光鉻版有限公司
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