專利名稱：用于熱處理金屬的方法和設備的制作方法
用于熱處理金屬的方法和設備相關申請的交叉引用本申請要求2011年I月10日提交的美國申請61/431，179號的權益。申請61/431，179號所公開的內容通過引用結合到本文中。
背景技術：
本文描述了ー種在含碳氣氛中熱處理和加工金屬(比如但不限于鋼)的方法和設備。更具體地，本文描述了ー種方法和設備，所述方法和設備用于可在例如I大氣壓分批或連續(xù)爐中進行的滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲、受控碳電位退火、軟化、銅焊和燒結。常規(guī)的含碳氣氛在吸熱(有時，放熱)發(fā)生器中產生，所述發(fā)生器遠離熱處理爐或在熱處理爐外部。常常通過與ー種或多種烴氣體(HC)比如甲烷(CH4)、丙烷(C3H8)、丙烯 (C3H6),こ炔(C2H2),氨(NH3)和/或氮(N2)混合，來調節(jié)含碳氣氛以匹配加工要求。由于最經常與空氣重整的吸熱氣體形成氫(H2)、N2和一氧化碳(CO)，和少量的水蒸汽(H2O)和ニ氧化碳(CO2),常規(guī)的氣氛具有氧化存在于鋼中的摻雜添加劑例如鉻(Cr)、錳(Mn)、硅(Si)或釩(V)的電位，同時使主要鋼組分(即，鐵(Fe))滲碳。相同的氧化-滲碳效應發(fā)生在其他氣氛中，比如離解的醇氣氛，例如N2-甲醇和N2-こ醇。氧化-滲碳效應是不期望的。在許多情況下，位于金屬晶界的氧化物弱化表面并在隨后的運行中加速疲勞裂縫或腐蝕。充分認識到，應對措施昂貴、時間、能源和資本設備密集，和/或當薄壁鋼組件或網狀表面滲碳時不可用。對于滲碳處理，這些應對措施可包括延長在爐中的滲碳循環(huán)時間，以便在金屬表面中產生過厚的富碳層，并在后續(xù)機械加工操作中機械去除該層最外部受氧化物影響的部分。在其他處理中，通過形成氧化物膜的斑點，氧化-滲碳效應可劣化退火的金屬的表面外觀。此外，這些氣氛的氧化電位可抑制或完全防止高度合金化的鋼(比如不銹鋼和不同類型的工具鋼和超合金)的滲碳和相關的擴散表面處理。為了避免這種氧化-滲碳效應，金屬行業(yè)可使用不含氧的氣氛，在加工爐的氣體入口，該氣氛可含有技術上純的N2、H2、NH3、HC和它們的組合和混合物，和任選的氬或氦添カロ，但是不含空氣、C0、C02, H2O或醇和它們的蒸氣。眾所周知，從爐氣氛中消除含氧(O2)氣體，包括空氣、CO、CO2, H2O或醇和它們的蒸氣，是所列出的問題的有效解決方案?？扇缦聦崿F(xiàn)這一點在低壓滲碳處理期間，在真空爐中使用HC、HC-N2或HC-H2氣體流，其中所有的空氣和水分已在前面的操作中從爐體積中泵出。不含O2的N2-HC和N2-H2-HC氣氛處理也已在大氣(例如，環(huán)境，I-大氣壓)爐中以不同的成功程度使用。此處，主要的復雜因素是難以排除環(huán)境空氣泄漏至爐中。雖然非常流行和相對便宜，但是I-大氣壓爐不能提供在真空爐中可見的氣氛控制水平。遇到的另外的因素可包括從爐的陶瓷耐火材料釋放水分和燃燒火焰從輻射加熱管較少泄漏到爐的處理空間。在含氧的常規(guī)吸熱氣氛和離解的醇氣氛中，滲碳エ藝控制基于鐵表面上的滲碳-脫碳反應的平衡。使用氧化鋯探針(通常稱為氧或碳探針)可測量氣氛的還原電位，它與其滲碳電位有夫。由于不存在平衡，該エ藝控制方法不能與上述不含O2的氣氛一起使用；金屬滲碳與暴露時間、溫度和帶有碳的物類從氣氛到表面的通量或轉移成比例。此處，在通常的熱處理條件下，最終的滲碳極限為通過氣氛的HC-組分將實質上或全部金屬體積轉變?yōu)樘蓟铮@是不期望的結果。解決真空爐中エ藝控制挑戰(zhàn)的最流行的方法包括基于試錯法開發(fā)調節(jié)HC氣體的質量通量的滲碳方法。關鍵的變量包括所用的HC氣體的類型、其流速、溫度、壓力、在金屬部件的表面下產生期望的碳濃度分布所需的碳增強(boost)和擴散時間、經處理的部件的組成和總表面積。由于這些變 量可精確控制，開發(fā)具體的方法所需的試驗數(shù)量小?；谀切┓椒ǎS后的生產運行可自動化并受到流行的計算機-計算的擴散模型的支持，該模型實時預測金屬中的碳濃度分布的發(fā)展。如上所述，在I-大氣壓爐的情況下，エ藝控制挑戰(zhàn)更加困難，I-大氣壓爐不如真空爐精確并且包括許多另外的(有時不受控的)加工變量(比如空氣和可燃氣體泄漏或水分解吸)。方法的開發(fā)可需要比在真空爐的情況下更多的試驗，并且包括碳增強和擴散的滲碳循環(huán)可能必須使用一些類型的反饋回路對加工參數(shù)進行實時的動態(tài)矯正。在數(shù)年間已開發(fā)了不同碳通量探針、微量天平儀器和方案來解決在非平衡以及平衡氣氛中エ藝控制的挑戰(zhàn)。說明性實例包括在以下參考文獻中所公開的那些美國專利4，035，203 ;4，591，132 ;5，064，620 ;5，139，584 ;和 7，068，054 號；歐洲專利 0353517A2 號；和美國公布2008/0149225A1號。美國專利7，068, 054號描述了ー種用于在升高的加工溫度下，在傳導性材料組分中直接測量溶質濃度分布的傳感器探針、測量系統(tǒng)和測量方法。美國公布2008/0149225號提供了ー種在大氣壓カ爐中使用不含氧的受控氣體處理金屬部件的方法。然而，在I-大氣壓爐中它們對非平衡氣氛滲碳的適用性是有限的，以及在エ業(yè)的不停產的生產環(huán)境中碳-通量探針的可靠性和使用期限是有限的。因此，本領域需要提供一種當沒有合適的碳通量探針可用吋，和/或當在所用的非平衡氣氛中連續(xù)使用探針具有可靠性問題時，允許或改進エ藝方法的開發(fā)和隨后的動態(tài)控制的方法和/或設備。發(fā)明概述本文描述了ー種可用于在以下エ藝的至少ー種中熱處理金屬的方法和設備滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲、受控碳電位退火、軟化、銅焊和燒結，所述エ藝可例如在I大氣壓分批或連續(xù)爐中和在不含氧并且包含氮和至少ー種烴的氣氛中進行。在一方面，提供了一種用于控制爐中氣氛的方法，其中爐的壓力包括I大氣壓并且其中不加入氧或含氧氣體，所述方法包括以下步驟在I大氣壓爐中和在包含烴氣體的氣氛中處理金屬部件，其中使用改性金屬試樣方法確定從所述氣氛進入金屬部件的碳通量，并對金屬部件表面和表面下的碳濃度分布得到擴散計算。在該方法中，使用由金屬試樣探針得到的平均測量進行碳通量測量。在另一方面，提供了一種用于控制爐中氣氛的方法，其中爐的壓力包括I大氣壓并且其中不加入氧或含氧氣體，所述方法包括在I大氣壓爐中和在包含烴氣體的氣氛中處理金屬部件，其中使用碳通量測量開發(fā)滲碳方法，并使它們與至少ー種測量關聯(lián)，所述測量包含在爐的流出物中的H2的量，并任選包含來自氧化鋯探針的電壓讀數(shù)，以及在隨后的加工步驟期間控制所述氣氛中烴氣體的量。在ー個具體的實施方案中，所述方法還包括在不特意加入氧或含氧氣體的氣氛中操作包含氧化鋯電池的氧化鋯探針。在該方法中，使用得到的實際測量進行碳通量測量。
在任何上述方面，處理步驟為至少ー種選自以下的エ藝滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲、受控碳電位退火、軟化、銅焊和燒結。在任何上述方面，所述方法可對選自以下的金屬部件進行常見的普通低合金鋼、高合金鋼、工具鋼、不銹鋼和超合金。在任何上述方面，可使用處理氣氛的電等離子體放電活化方法進行處理步驟。
在另一方面，提供了ー種用于控制金屬部件的處理的設備，所述設備包含改性金屬試樣設備，其包括用于確定從氣氛進入金屬的碳通量的厚的金屬探針，允許在金屬熱處理氣氛エ藝中，在涉及含有烴氣體(沒有特意添加氧或含氧氣體)的非平衡氣氛的I-大氣壓爐中，對金屬表面和表面下的碳濃度分布的隨后的擴散計算。附圖
簡述圖I提供了在平衡(圖Ib)和非平衡(圖Ia)氣氛滲碳エ藝中碳分布進展的比較。在圖Ia和Ib中，‘T’為溫度，‘t’為滲碳時間，‘C’為碳濃度，‘W’為寬度，‘X’為深度，‘J’為碳通量，‘D’為在‘T’或溫度下的碳擴散性。圖2提供了適用于ー側(圖2a)和兩側(圖2b)暴露于滲碳氣氛的改性金屬試樣探針的兩種結構的實例。在圖2a和2b中，‘L’為長度，‘C’為碳濃度，‘W’為寬度，‘X’為間隙距離，‘J’為碳通量，‘t’為滲碳時間，‘2W’為厚度，‘D’為外徑。圖3a至圖3c提供了使用改性金屬試樣探針對平均碳通量的估計。圖4提供了在包括以下氣氛的滲碳測試期間，在流出物氣體和外部氧化鋯探針讀數(shù)之間的不同關聯(lián)N2-0. 9% C3H8, N2-I % C3H8,N2-2% C3H8氣氛(在930°C使用常規(guī)的，僅熱活化)，和N2-2% C3H8氣氛(在930°C使用等離子體活化)。圖5提供了一種用于滲碳的示例性方法，除了別的以外，所述方法包括碳通量探針和自動化擴散控制器。圖6提供了一種用于滲碳的示例性方法，除了別的以外，所述方法包括改性金屬試樣探針和離線擴散計算器。圖7提供了在與在圖5和圖6中指定的エ藝步驟相關的生產中，采用某些エ藝條件的實施方案。發(fā)明詳述本文描述的方法可用于在非平衡氣氛中的滲碳操作期間估計進入鋼的碳通量，例如在I大氣壓壓カ下，不含氧的N2-HC氣體滲碳，或者，在供選的實施方案中，在HC或H2-HC氣體共混物下滲碳。相同的方法可用于滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲、受控碳電位退火、軟化、銅焊和燒結，其可在例如I大氣壓分批或連續(xù)爐中進行。本文描述的方法的至少ー個目標是，當合適的實時碳通量探針或爐內微量天平和擴散控制器不可用時，促進新的滲碳エ藝方法的開發(fā)。本文使用的術語“不含氧”描述了其中不特意向爐氣氛中加入氧或含氧氣體的氣氛；然而，由爐的入口或出口，或由于存在于爐內的金屬氧化物和耐火材料陶瓷的還原，和/或從爐壁脫附的氧和水分，可偶然存在少量的氧(例如，I %體積或以下)。特意加入到爐氣氛的含O2的氣體的實例包括空氣、co、co2、h2o或醇和它們的蒸氣。最流行的含O2的氣氛為含有約20%體積(vol% )C0、40%體積H2、痕量的CO2和H2O以及余量的N2的吸熱氣氛。除非本文中另外說明，否則所有％體積的總和等于100%體積。當為了使鋼滲碳的目的通過加入HC而富集時，這些氣氛通常可包括小于總％體積的10%體積HC，小于I %體積CO2,和小于2%體積H20。特意加入到爐氣氛的不含O2的氣體的實例包括HC、H2,N2,NH3和它們的共混物，比如HC-N2、HC-H2和N2-H2-HC。典型地，這些氣氛含有小于15%體積HC(HC分壓低于0. 15大氣壓)，以及余量的N2和/或H2。特意形成的非平衡爐氣氛的實例包括HC、HC-N2、HC-H2和N2-H2-HC以及它們與NH3和稀有氣體氬(Ar)和氦(He)的組合。這些氣氛與上述不含O2的氣氛相同。特意形成的平衡爐氣氛的實例包括co、co-co2、co-h2、co-co2-h2、CO-CO2-H2-H2O,以及還含有N2、Ar、He、醇、NH3以及空氣或O2的它們的衍生物或組合。這些氣氛是與上述吸熱氣氛基本上相同的氣氛。應理解的是，這些氣氛可通過甲烷、丙烷、丁烷、離解甲醇、こ醇的外部或爐內重整，并將產物與其他所列的氣體混合而產生N2、H2、NH3、HC、Ar和/或He。還應理解的是，I (一)大氣壓爐為用于在非常低或非常高的壓カ下操作的沒有特殊設備的爐，比如眾所周知的用于熱處理金 屬和陶瓷的高氣壓淬滅的真空爐。I大氣壓爐在與爐周圍的環(huán)境空氣的壓力大致相同或稍高的壓カ下操作。這些輕微的壓カ變化可為以下ー種或多種的函數(shù)天氣、地理位置、在爐中使用的封條或屏蔽的系統(tǒng)、爐溫、爐氣氛氣體組成和/或與爐體積相關的總入口氣體流速、爐排氣和不受控的泄漏開ロ。在任何情況下，這些壓力變化可共計小于0. 2大氣壓(或0. 2巴或20. 2kPa或2. 94psig或152托)。在某些實施方案中，本文描述的方法可用于監(jiān)測滲碳エ藝，該エ藝包括在使用氣體控制面板來控制特定的氣體混合物的流動和混合并將該特定的氣體遞送至I大氣壓爐的系統(tǒng)中，用于滲碳控制的非平衡氣氛。在典型的滲碳エ藝的ー個具體的實施方案中，作為時間和溫度及其他エ藝參數(shù)的函數(shù)，將包含規(guī)定濃度的氮氣和烴氣體的特定的氣體遞送至I大氣壓爐。爐內的氣體氣氛可基本上不含氧，由于泄漏、雜質等而含有非常少量的氧。用戶輸入可包括在爐的校準和操作期間，來自爐的測試樣品的結果或分析。優(yōu)選地，這種結果或分析可包括在某些氣氛和/或其他條件下在爐中實現(xiàn)的實際的碳攝取。除了前述以外，其他檢測或測量的加工參數(shù)，包括使用溫度傳感器或熱電偶測量的爐溫、爐流出物氣體中的H2濃度和使用氧(氧化鋯)探針測量的爐還原電位，也可由終端用戶監(jiān)測和控制。由終端用戶通過控制面板、CPU或其他手段控制的滲碳模型可用于計算作為時間的函數(shù)的加工輸入。在某些實施方案中，滲碳模型使用提供所選的輸入(包括用戶的輸入、爐溫、爐氣氛還原電位、以及已知的參數(shù)(比如合金組成)、爐類型等)的軟件程序來計算或確定期望的入口氣體濃度和流速，作為熱處理時間的函數(shù)。在實際的滲碳エ藝期間，將待滲碳的ー個或金屬部件負載于大氣壓爐中，并與規(guī)定的氣體混合物接觸某一段時間。一旦經過熱處理，將經處理的金屬部件從爐中移除并放置在冷卻或淬滅室中。冷卻或淬滅室還可包含不含O2的氣氛，以進一歩使得氧化最小化。或者，經處理的金屬部件可在爐內部冷卻。在所公開的方法的范圍內，用于I-大氣壓處理的加工條件的范圍可以變化，因此下面所列的以下實例可僅舉例說明少數(shù)應用。因此，可在700°C -1150°C的溫度范圍內，使用N2-H2-HC-NH3氣氛使不銹鋼金屬部件高溫滲碳和碳氮共滲。此處，組分氣體的體積濃度可在以下范圍內變化H2從0%到99. 75%體積，N2從0%到99. 75%體積，HC從0. 25%到10%體積，NH3從0 %到99. 75 %體積。處理時間可從I小時到48小時變化。使用相同的組合物，不銹鋼金屬部件也可低溫滲碳、碳氮共滲或氮碳共滲。此處，溫度可在約350°C -約580°C范圍內，并且典型的處理時間可短至30分鐘或長達72小吋。軟鋼、合金鋼和工具鋼部件可在840°C -1000°C滲碳；根據(jù)所用的金屬負載和期望的碳分布，處理時間可在15分鐘到12天范圍內。這些鋼部件的氮碳共滲和碳氮共滲可在450°C _750°C進行，并且氣氛組成可與以上對于不銹鋼所列的那些相同。許多燒結氣氛可包括0% -98%體積N2,0% -99. 75%體積H2JPO. 25% -5%體積HC，并且連續(xù)燒結爐的溫度可在18°C -典型的1250°C范圍內。在供選的實施方案中，更寬的處理時間、溫度和/或氣體組成范圍也可用于該エ藝。圖I舉例說明在非平衡的不含氧的N2-HC氣體滲碳與在包含CO、H2, N2和烴富集氣體的吸熱型平衡氣氛中的常規(guī)滲碳之間的主要差別。在圖Ia中，代表非平衡氣氛，表面碳濃度和滲碳深度二者同時隨著滲碳時間而提高。在圖Ib中，表面碳濃度固定在所謂的平衡碳電位(Cp)的水平，因此提高滲碳時間僅提高滲碳深度。然而，在圖Ia和Ib 二者中，在非平衡和平衡氣氛二者中，從表面進入鋼核的碳擴散基于相同的機理，即菲克定律(Fick’slaw) ,J = -D dC/dX，其中D為受溫度、鋼組成和局部碳濃度控制的碳擴散性，C為碳濃度，X為表面下面的深度。這意味著，對于寬度為‘W’的測試試樣，擴散碳通量‘J’可用表面碳濃度以及從氣氛的碳轉移速率來矯正，只要試樣的相對側未被滲碳即可。用于確定Cp的金屬試樣、金屬箔或墊料(shim stock)方法為已知的，并用于常規(guī)的平衡氣氛滲碳操作。由于表面碳濃度不能超過Cp，典型的方法包括非常薄的鋼箔和相對長的暴露時間，以便使金屬整個飽和并實現(xiàn)橫跨寬度的恒定碳濃度分布。因此，箔的重量增加的測量直接指示氣氛Cp。然而，在使用非平衡的不含氧的N2-烴氣體氣氛時，將該程序用于確定Cp將導致金屬完全轉變?yōu)樘蓟铮?，沒有關于控制エ藝所需的時間依賴性碳通量的有用信息。關于這一點，在一方面，本文描述的方法提供了其中僅ー側暴露于滲碳氣氛的金屬試樣程序。試樣厚度或寬度‘W’和滲碳時間‘t’的選擇方式使得未暴露的試樣ー側還未被從已暴露的ー側流動的碳原子的通量滲碳。當與常規(guī)的金屬箔程序相比吋，試樣寬度或厚度更大，并且暴露時間通?？杀然蚋?。我們認為，相對厚的試樣的重量増加與從氣氛至經處理的表面金屬部件的碳轉移速率和從表面至核的碳通量直接相關，所述碳通量不受在相対的未暴露一側提高碳濃度的抑制。圖2a舉例說明可使用的金屬試樣的許多可能的結構之一在固體棒上折斷的鋼管或防止內徑表面滲碳的支撐管。對于典型的滲碳條件，可使用以下尺寸L= 100mm, OD=10mm, W = O. 5mm。暴露的表面為約31. 4cm2，起始重量為約11. 7g，并且預期的碳重量增加可在2-80mg范圍內，使得使用常規(guī)的(離線)微量天平容易進行重量測量。供選的試樣幾何形狀(圖2b)可包括兩側滲碳，但是那些試樣的厚度必須加倍，以防止在滲碳暴露結束時在試樣中間的碳富集。對于兩側金屬試樣作為碳質量通量探針的精確操作，重要的是選擇其厚度2W，選擇方式使得從兩側延伸的滲碳區(qū)之間的間隙X(圖2b)大于零。由于滲碳區(qū)的延伸速率為溫度、氣氛組成和混合以及所用的金屬試樣的組成的函數(shù)，并且探針可用于更短或更長的持續(xù)測量，如果滲碳條件和/或爐與在エ業(yè)熱處理操作中遇到的最常用的滲碳條件顯著不同，可需要ー些另外的測試和試錯來選擇2W的最佳 值。所提出的碳通量測量可使用在所有運行滲碳操作的爐中發(fā)現(xiàn)的常規(guī)墊料探針孔來實現(xiàn)。該程序需要將幾塊金屬試樣在爐中粘附幾種不同的精確測量的時間段，并測量作為暴露時間的函數(shù)的重量増加。因此，可將具有一個試樣的一個探針插入爐中5分鐘，將具有另ー個試樣的另ー個探針插入爐中10分鐘，將再一個探針插入爐中20分鐘?？捎涗浢總€試樣的重量増加，作為所用的暴露時間的平均碳通量。圖3a顯示暴露于滲碳氣氛中5、10和20分鐘的3種金屬試樣或鋼箔記錄的典型的重量増加。在圖3a中，溫度、氣氛和混合保持恒定。連接測量的重量增加數(shù)據(jù)點的線反映在試樣表面處鑒于碳濃度提高的速率降低。在5分鐘暴露期間得到的Am值，即Am(0-5分鐘)，為與暴露時間的中間(即tl’=t*l/2=5分鐘/2 = 2. 5分鐘)相關而測量的平均増加，以g計?？芍貜拖嗤牟僮饔糜诟L的暴露時間，但是，應注意到，暴露時間越長，則由所用的一半暴露時間相關的平均増加引起的誤差越大。然而，通過觀察到在10分鐘暴露后的重量增加減去在5分鐘暴露后的重量增加可歸因于等于7. 5分鐘的時間，由進行的3次測量可提取另外的更精確的數(shù)據(jù)。另外，在時間點10分鐘和20分鐘之間的凈增加，即，在20分鐘暴露后的增加Am(0-20分鐘)減去在10分鐘暴露后的增加，Am(10-20分鐘)，可與15分鐘的時間點相關。由于由這3次測量可用的組合的數(shù)目為6，通過實驗得到的數(shù)據(jù)點的數(shù)目加倍。碳質量通量J通過將重量增加Am除以暴露于氣氛的試樣表面積A再除以暴露時間間隔t計算(J = Am/A/t)，這意味著測量的數(shù)據(jù)點可快速轉化為碳通量值。圖3b顯示使用上述提取另外的數(shù)據(jù)的程序，由三次初始測量得到的重量増加(示于圖3a)重新計算的碳通量。與圖3b—祥，溫度、氣氛組成和混合保持恒定。由三次重量增加測量計算通量的通式列于表I，其中tl、t2和t3為暴露時間，Ami、Am2和Am3為在每個暴露時間結束時的增加，t’時間為對特定的重量増加指定的時間，J為與t’時間相關的平均通量值。應理解的是，所述方法可包括比此處詳述的三次測量更少或更多的測量。表I :平均碳通量對于暴露時間的計算
權利要求
1.一種用于控制爐中氣氛的方法，其中爐的壓力包括I大氣壓并且其中不加入氧或含氧氣體，所述方法包括以下步驟 在I大氣壓爐中和在包含烴氣體的氣氛中處理金屬部件，其中使用金屬試樣確定從所述氣氛進入金屬部件的碳通量，并對金屬部件表面和表面下的碳濃度分布得到平均擴散計笪
2.一種用于控制爐中氣氛的方法，其中爐的壓力包括I大氣壓并且其中不加入氧或含氧氣體，所述方法包括以下步驟 在I大氣壓爐中和在包含烴氣體的氣氛中處理金屬部件，其中使用至少一種碳通量測量處理所述金屬部件，并使所述至少一種碳通量測量與至少一種測量關聯(lián)，其中所述至少一種測量為包含在爐的流出物內的氫的量并任選為來自包含氧化鋯電池的氧化鋯探針的電壓讀數(shù)，和 控制所述氣氛中烴氣體的量。
3.權利要求2的方法，其中將氧化鋯電池的溫度降低至低于爐氣氛的溫度。
4.權利要求I或2的方法，其中所述處理步驟為至少一種選自以下的工藝滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲、受控碳電位退火、軟化、銅焊和燒結。
5.權利要求I或2的方法，其中所述金屬部件選自常見的普通低合金鋼、高合金鋼、工具鋼、不銹鋼和超合金。
6.權利要求I或2的方法，其中所述處理步驟包括處理氣氛的電等離子體放電活化方法。
全文摘要
本文描述了一種可用于在以下工藝的至少一種中熱處理金屬的方法滲碳、碳氮共滲、氮碳共滲和中性碳電位退火操作，所述工藝在1大氣壓爐中和在不含氧并且包含氮和至少一種烴的氣氛中使用。
文檔編號G01N27/04GK102618816SQ20121002034
公開日2012年8月1日 申請日期2012年1月10日 優(yōu)先權日2011年1月10日
發(fā)明者A·K·維爾-奧克蘭, G·普利奇特, J·L·格林, Z·蘇雷基, 王曉嵐 申請人:氣體產品與化學公司