專利名稱：基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)的制作方法
基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于輻射測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于具有輻射記憶功能的輻射光 致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
醫(yī)院核醫(yī)學(xué)科可以通過(guò)分析放射性核素在人體器官內(nèi)的分布圖像，診斷病人心 腦血管疾病、腫瘤等各種器官疾病。用于X射線或者伽瑪射線的射線源分布測(cè)量的輻射 成像測(cè)量系統(tǒng)，通常叫做伽瑪相機(jī)，首先在核醫(yī)學(xué)領(lǐng)域發(fā)展起來(lái)。
目前為止已經(jīng)有很多醫(yī)療器械公司開(kāi)發(fā)出了用于人體X射線或者伽瑪射線分布 測(cè)量的伽瑪相機(jī)系統(tǒng)。這些伽瑪相機(jī)主要由準(zhǔn)直器，閃爍晶體板，以及位置靈敏光探測(cè) 器件組成。
準(zhǔn)直器的材料一般為原子序數(shù)很大，對(duì)X射線或者伽瑪射線阻擋效果非常好的 金屬材料，比如鉛，鎢等。準(zhǔn)直器種類主要有平行孔準(zhǔn)直器，針孔準(zhǔn)直器，發(fā)散型準(zhǔn)直 器，匯聚型準(zhǔn)直器；用于限制進(jìn)入伽瑪相機(jī)視野的入射射線的方向以及范圍。
射線經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直器后到達(dá)閃爍晶體板。閃爍晶體的材料主要為NaI(Tl)晶體，也 可以是CsI或BGO等。射線在閃爍晶體中發(fā)生能量沉積，沉積的能量又以熒光的方式在 能量沉積的位置釋放出來(lái)。
閃爍晶體板后面的位置靈敏光探測(cè)器件，可以測(cè)量出熒光釋放的位置以及強(qiáng) 度，從而達(dá)到成像的目的。位置靈敏光探測(cè)器件可以是單個(gè)的位置靈敏光電倍增管，或 者位置靈敏光電倍增管陣列。位置靈敏光電倍增管的入射窗通過(guò)光導(dǎo)貼近閃爍晶體板， 達(dá)到測(cè)量目的。位置靈敏光探測(cè)器件也可以是電荷耦合器件(CCD)或者CMOS。
目前發(fā)展起來(lái)的這類伽瑪相機(jī)系統(tǒng)，可以用于X射線輻射場(chǎng)或者伽瑪輻射場(chǎng)的 實(shí)時(shí)成像測(cè)量。核醫(yī)學(xué)應(yīng)用中，由于人體內(nèi)的放射性水平通常較高，可以利用這類伽瑪 相機(jī)系統(tǒng)方便的得到核素在體內(nèi)靜態(tài)以及動(dòng)態(tài)連續(xù)的分布圖像。但是，將這類伽瑪相機(jī) 系統(tǒng)用于核工業(yè)領(lǐng)域的放射性分布測(cè)量，比如某個(gè)場(chǎng)所的放射性污染分布圖像測(cè)量時(shí)， 則經(jīng)常會(huì)遇到困難。比如待測(cè)量場(chǎng)所或者對(duì)象的輻射水平很低，低于現(xiàn)有的這類伽瑪 相機(jī)系統(tǒng)的最低探測(cè)下限時(shí)，那么，將測(cè)量不到放射源的分布圖像。在現(xiàn)有的這類系 統(tǒng)下，通過(guò)延長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間的方法，也不會(huì)有明顯的效用，因?yàn)檫@并不能提高測(cè)量的信噪 比。發(fā)明內(nèi)容
(一)發(fā)明目的
本發(fā)明目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中伽馬相機(jī)系統(tǒng)無(wú)法探測(cè)微弱輻射信號(hào)的問(wèn)題。
(二)技術(shù)方案
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案
一種基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)，包括遮光 框體、針孔準(zhǔn)直器、位置靈敏光探測(cè)模塊、控制和圖像處理模塊，所述針孔準(zhǔn)直器位于 遮光框體前端，位置靈敏光探測(cè)模塊置于遮光框體后端并且其光探測(cè)面正對(duì)針孔準(zhǔn)直 器，控制和圖像處理模塊與位置靈敏光探測(cè)模塊相連，其關(guān)鍵在于在所述針孔準(zhǔn)直器 和位置靈敏光探測(cè)模塊之間還置有由輻射光致發(fā)光材料制成的圖像板；在所述遮光框體 的后端置有與所述輻射光致發(fā)光材料相對(duì)應(yīng)的激發(fā)光源；在所述遮光框體后端還置有快 門。
所述針孔準(zhǔn)直器的針孔處還置有遮光片，所述遮光片由易于透過(guò)X射線和伽瑪 射線的材料制成。
所述針孔準(zhǔn)直器和圖像板之間置有加熱絲，所述加熱絲為螺旋狀結(jié)構(gòu)。
制作圖像板所用的輻射光致發(fā)光材料是銀離子活化的磷酸鹽玻璃，或者其它具 有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光材料。
所述圖像板靠近針孔準(zhǔn)直器的一側(cè)覆蓋有一層鋁箔。
所述激發(fā)光源呈圓狀均勻分布在位置靈敏光探測(cè)模塊的周圍。
所述加熱絲和圖像板可以在遮光框體內(nèi)沿著輻射測(cè)量系統(tǒng)中心軸方向前后移 動(dòng)。
所述位置靈敏光探測(cè)模塊包括遮光外壁和置于其中的光電探測(cè)器，面向圖像板 的一端置有能夠過(guò)濾激發(fā)光的濾光片，其靠近控制和圖像處理模塊的一端置有電源接口 和數(shù)據(jù)接口。所述光電探測(cè)器是位置靈敏光電倍增管、CCD或者CMOS。
當(dāng)所述光電探測(cè)器是位置靈敏光電倍增管時(shí)，將圖像板貼近激發(fā)光濾光片，可 以測(cè)量得到輻射光致發(fā)光材料發(fā)出的熒光信號(hào)的位置和強(qiáng)度信息。
當(dāng)所述光電探測(cè)器是CCD或者CMOS時(shí)，在所述濾光片和CCD或者CMOS之 間置有錐形光纖成像束。
當(dāng)所述光電探測(cè)器是CCD或者CMOS時(shí)，在所述濾光片和CCD或者CMOS之間置有成像透鏡組，并且所述CCD或者CMOS的感光芯片位于成像透鏡組的像平面上。
(三)有益效果
由于所述輻射光致發(fā)光材料做成的圖像板可以將入射X射線或者伽瑪射線的沉 積能量存儲(chǔ)為熒光中心進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間的累積，該信號(hào)累積的過(guò)程中，由于位置靈敏光探測(cè) 模塊處于關(guān)閉狀態(tài)，不會(huì)增加電子學(xué)噪聲，是一個(gè)可以顯著提高信噪比的過(guò)程，因此本 發(fā)明所提供的輻射成像系統(tǒng)能夠?qū)?qiáng)度極低的X射線或者伽瑪射線進(jìn)行測(cè)量，可以廣泛 應(yīng)用于低輻射場(chǎng)所的輻射強(qiáng)度與輻射成像測(cè)量。


圖1為基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu) 圖2為圖1中A-A方向的剖面圖3為圖1中位置靈敏光測(cè)量器件的第一具體實(shí)例；
圖4為圖1中位置靈敏光測(cè)量器件的第二具體實(shí)例；
圖5為圖1中位置靈敏光測(cè)量器件的第三具體實(shí)例；4
圖6為位置靈敏光測(cè)量器件進(jìn)行數(shù)據(jù)讀取時(shí)的系統(tǒng)內(nèi)部構(gòu)造圖7為消除信號(hào)加熱絲加熱圖像板時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明。
實(shí)施例一
本實(shí)施例提供的基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系 統(tǒng)，如圖1所示，包括遮光框體5、針孔準(zhǔn)直器1、位置靈敏光探測(cè)模塊2、控制和圖像處 理模塊9等。所述針孔準(zhǔn)直器1位于遮光框體5前端，位置靈敏光探測(cè)模塊2置于遮光 框體5后端并且其光探測(cè)面正對(duì)針孔準(zhǔn)直器1，控制和圖像處理模塊9與位置靈敏光探測(cè) 模塊2相連，關(guān)鍵在于，在所述針孔準(zhǔn)直器1和位置靈敏光探測(cè)模塊2之間還置有由輻射 光致發(fā)光材料做成的圖像板7 ；在所述遮光框體5的后端置有與所述輻射光致發(fā)光材料相 對(duì)應(yīng)的激發(fā)光源3 ；在所述遮光框體5后端還置有快門4。
被測(cè)量的X射線或者伽瑪射線放射源發(fā)出的射線，通過(guò)針孔準(zhǔn)直器1的針孔，進(jìn) 入測(cè)量系統(tǒng)。所述針孔準(zhǔn)直器1具有視野大、成像小的特點(diǎn)，針孔準(zhǔn)直器1采用可以屏 蔽輻射的原子序數(shù)很大的金屬材料制成，如鉛、鎢等。針孔準(zhǔn)直器1的針孔處還置有很 薄的遮光片，所述遮光片由易于透過(guò)X射線和伽瑪射線的材料制成，比如鋁箔等。
從針孔準(zhǔn)直器1的針孔入射的X射線或者伽瑪射線由圖像板7進(jìn)行記錄，圖像板 7由固定架6安裝在遮光框體5內(nèi)。所述圖像板7由能夠把入射X射線或者伽瑪射線轉(zhuǎn) 換成熒光信號(hào)的輻射光致發(fā)光(Radiophotoluminescence，RPL)材料制成，上述材料組分 優(yōu)選為銀離子活化的磷酸鹽玻璃，或者也可以選擇其它具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā) 光材料。上述具有輻射記憶功能的輻射輻射光致發(fā)光材料能在入射點(diǎn)處將入射X射線或 者伽瑪射線的沉積能量轉(zhuǎn)換成熒光中心進(jìn)行累積，沉積能量越大，產(chǎn)生的熒光中心就越 多。在輻射水平很低的場(chǎng)合下，可以增大該輻射成像測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量時(shí)間，使輻射光致 發(fā)光材料中沉積足夠多的能量，存儲(chǔ)足夠多的熒光中心，以準(zhǔn)備之后用位置靈敏光探測(cè) 模塊2讀取。
所述針孔準(zhǔn)直器1和圖像板7之間置有加熱絲11，其作用是在一次測(cè)量完成之 后通過(guò)加熱圖像板7而將其上存儲(chǔ)的熒光信號(hào)完全消除。加熱絲11的結(jié)構(gòu)如圖2所示， 是一盤粗細(xì)均勻的螺旋狀加熱電阻絲，安裝于針孔準(zhǔn)直器1與圖像板7之間。加熱絲11 和圖像板7均可以由步進(jìn)電機(jī)或者伺服電機(jī)控制而在遮光框體5內(nèi)前后移動(dòng)。當(dāng)不需要 消除輻射光致發(fā)光材料中存儲(chǔ)的信號(hào)時(shí)，加熱絲11緊貼在靠近針孔準(zhǔn)直器1的一側(cè)，不 影響針孔成像；當(dāng)輻射成像測(cè)量完成后，如果需要消除輻射光致發(fā)光材料中已存儲(chǔ)的信 號(hào)，準(zhǔn)備進(jìn)行下一次測(cè)量時(shí)，則需要將該加熱絲11沿著輻射測(cè)量系統(tǒng)中心軸方向貼近圖 像板7，加熱圖像板7到400°C左右并持續(xù)一段時(shí)間，達(dá)到消除原來(lái)信號(hào)的目的。
在圖像板7上靠近針孔準(zhǔn)直器1的一側(cè)覆蓋有一層鋁箔。鋁箔首先可以遮光， 因?yàn)樵撦椛涔庵掳l(fā)光材料本身是透明的，而圖像板7后面的位置靈敏光探測(cè)模塊2使用的 位置靈敏光電探測(cè)器需要遮光；其次，鋁箔是熱得良導(dǎo)體，為了消除輻射光致發(fā)光材料 存儲(chǔ)的信號(hào)而對(duì)其進(jìn)行加熱時(shí)，有助于使輻射光致發(fā)光材料做成的圖像板7均勻受熱。
激發(fā)光源3置于遮光框體5的后端，呈圓狀均勻分布在位置靈敏光探測(cè)模塊2的周圍。針對(duì)本實(shí)施例中制作圖像板7所采用的銀離子活化的磷酸鹽玻璃，采用波長(zhǎng)為 370nm左右的發(fā)光二極管陣列作為激發(fā)光源。在圖像板7被電離輻射曝光一定時(shí)間后，開(kāi) 啟該發(fā)光二極管，對(duì)圖像板7上存儲(chǔ)的熒光中心進(jìn)行激發(fā)，使圖像板7產(chǎn)生波長(zhǎng)為600nm 至700nm之間的熒光，被位置靈敏光探測(cè)模塊2讀取。通過(guò)調(diào)整發(fā)光二極管陣列中發(fā)光 二極管發(fā)光的強(qiáng)度分布，以及周圍的反射條件，可以保證照射到圖像板7表面的光是均 勻分布的。
所述位置靈敏光探測(cè)模塊2包括遮光外壁、電源接口 15、數(shù)據(jù)接口 16和光電探 測(cè)器，面向圖像板7的一端置有能夠過(guò)濾激發(fā)光的濾光片8，其靠近控制和圖像處理模塊 9的一端置有電源接口 15和數(shù)據(jù)接口 16。本實(shí)施例中所采用的光電探測(cè)器是位置靈敏光 電倍增管14，如圖3所示，利用位置靈敏光電倍增管14測(cè)量圖像板7上的退激熒光信號(hào) 時(shí)，將圖像板7盡量貼近激發(fā)光濾光片8進(jìn)行測(cè)量。用于過(guò)濾激發(fā)光的濾光片8位于圖 像板7與位置靈敏光電倍增管14之間并緊貼位置靈敏光電倍增管14的探測(cè)面。針對(duì)波 長(zhǎng)為370nm左右的激發(fā)光源3和熒光波長(zhǎng)范圍在600nm至700nm的圖像板7，本實(shí)施例 中所采用的濾光片8是截止波長(zhǎng)為450nm的長(zhǎng)波通濾光片，只允許輻射光致發(fā)光材料退 激時(shí)發(fā)出的熒光透過(guò)，而使激發(fā)光源3發(fā)出的激發(fā)光無(wú)法到達(dá)位置靈敏光電倍增管14。
位置靈敏光探測(cè)模塊2與遮光框體5的接口處、電源接口 15和數(shù)據(jù)接口 16處均 進(jìn)行密閉遮光處理。針孔準(zhǔn)直器1、遮光框體5和圖像板7上覆蓋的鋁箔一起實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè) 測(cè)量系統(tǒng)的避光。
控制模塊主要用于對(duì)輻射成像測(cè)量系統(tǒng)內(nèi)部一些機(jī)械機(jī)構(gòu)，以及開(kāi)關(guān)電路的控 制。控制模塊負(fù)責(zé)對(duì)激發(fā)光源開(kāi)關(guān)的控制。控制模塊還控制輻射光致發(fā)光材料圖像板沿 輻射成像測(cè)量系統(tǒng)軸方向的位移，達(dá)到控制測(cè)量視野，以及將圖像板盡量貼近位置靈敏 光測(cè)量器件的目的?？刂颇K同時(shí)需要控制消除信號(hào)加熱絲沿著中心軸的移動(dòng)。控制模 塊還需要控制安裝在圖像板和激發(fā)光濾光片之間的遮光快門，在位置靈敏光測(cè)量器件沒(méi) 有進(jìn)行讀數(shù)測(cè)量時(shí)，需要始終將這個(gè)遮光快門關(guān)閉，以實(shí)現(xiàn)對(duì)位置靈敏光測(cè)量器件的遮 光狀態(tài)。圖像處理模塊用于分析從位置靈敏光探測(cè)單元得到的數(shù)據(jù)，實(shí)現(xiàn)最終的對(duì)放射 源分布的成像測(cè)量功能。圖像處理模塊通常要和控制模塊聯(lián)合配合運(yùn)行，以達(dá)到最佳成 像效果。
在利用上述輻射成像系統(tǒng)進(jìn)行X射線或者伽瑪輻射場(chǎng)的輻射成像測(cè)量時(shí)，首先 根據(jù)需要測(cè)量視野的大小，通過(guò)控制模塊調(diào)整好固定架6離針孔準(zhǔn)直器1的距離，激發(fā)光 源3和快門4均處于關(guān)閉狀態(tài)，消除信號(hào)加熱絲11緊貼針孔準(zhǔn)直器1的一側(cè)。經(jīng)過(guò)一定 的時(shí)間照射后，圖像板7通過(guò)X射線或者伽瑪射線的沉積能量，存儲(chǔ)了輻射源強(qiáng)度分布的 圖像信息。然后通過(guò)控制模塊打開(kāi)避光門4，并將固定架6向右移動(dòng)至貼近位置靈敏光探 測(cè)模塊2，如圖6所示。此時(shí)打開(kāi)激發(fā)光源3，圖像板7上存儲(chǔ)的熒光中心受激發(fā)射出的 熒光信號(hào)被位置靈敏光探測(cè)模塊2測(cè)量，并通過(guò)后面的圖像處理模塊，得到放射源分布 的圖像。輻射成像測(cè)量完成后，通過(guò)控制模塊關(guān)閉激發(fā)光源3和快門4。如果需要進(jìn)行 下次測(cè)量，則通過(guò)控制模塊先將加熱絲11移至貼近圖像板7外側(cè)覆蓋的鋁箔，如圖7所 示，使用加熱絲11加熱一段時(shí)間后，關(guān)閉，之后即可進(jìn)行下一次測(cè)量。
本實(shí)施例提供的的輻射成像測(cè)量系統(tǒng)，可以根據(jù)輻射場(chǎng)的強(qiáng)弱，調(diào)節(jié)單次讀取 輻射光致發(fā)光材料上存儲(chǔ)的分布圖像信號(hào)的時(shí)間間隔，從而在保證成像質(zhì)量的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)連續(xù)的成像測(cè)量。同時(shí)，因?yàn)檩椛涔庵掳l(fā)光材料是一種可以重復(fù)讀取的材料，也就是 說(shuō)在沒(méi)有開(kāi)啟消除信號(hào)加熱絲消除圖像板中存儲(chǔ)的信號(hào)之前，可以對(duì)圖像板反復(fù)讀測(cè)， 具有可重復(fù)再現(xiàn)輻射場(chǎng)分布圖像的能力。
實(shí)施例二
其他技術(shù)方案不變，與實(shí)施例一的區(qū)別在于
本實(shí)施例中所采用的光電探測(cè)器是電荷耦合器件(CCD)或者CMOS 12，并且在 所述濾光片8和CCD/CMOS 12之間置有錐形光纖成像束10，如圖4所示。圖像板7受 激發(fā)出的熒光信號(hào)通過(guò)錐形光纖成像束10耦合到CCD/CMOS 12的表面并被測(cè)量，同時(shí) 保留了位置信息以及強(qiáng)度信息。
實(shí)施例三
其他技術(shù)方案不變，與實(shí)施例一的區(qū)別在于
本實(shí)施例中所采用的光電探測(cè)器是電荷耦合器件(CCD)或者CMOS 12，在所述 濾光片8和CCD/CMOS 12之間置有成像透鏡組13，所述CCD/CMOS 12的感光芯片位 于成像透鏡組13的像平面上，如圖5所示。圖像板7受激發(fā)出的熒光信號(hào)通過(guò)錐形成像 透鏡組13成像到CCD/CMOS 12的表面并被測(cè)量，同時(shí)保留了位置信息以及強(qiáng)度信息。
以上內(nèi)容是結(jié)合優(yōu)選的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明所做的具體說(shuō)明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具 體實(shí)施方式僅限于這些說(shuō)明。對(duì)本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本 發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演和變換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范 圍。
權(quán)利要求
1.一種基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)，包括遮光框 體(5)、針孔準(zhǔn)直器(1)、位置靈敏光探測(cè)模塊O)、控制和圖像處理模塊(9)，所述針孔 準(zhǔn)直器(1)位于遮光框體( 前端，位置靈敏光探測(cè)模塊( 置于遮光框體( 后端并且 其光探測(cè)面正對(duì)針孔準(zhǔn)直器(1)，控制和圖像處理模塊(9)與位置靈敏光探測(cè)模塊(2)相 連，其特征在于在所述針孔準(zhǔn)直器(1)和位置靈敏光探測(cè)模塊( 之間還置有由具有輻 射記憶功能的輻射光致發(fā)光材料制成的圖像板(7)；在所述遮光框體( 的后端置有與所 述輻射光致發(fā)光材料相對(duì)應(yīng)的激發(fā)光源(3)；在所述遮光框體( 后端還置有快門G)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述針孔準(zhǔn)直器(1)的針孔處 還置有遮光片，所述遮光片由易于透過(guò)X射線和伽瑪射線的材料制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述針孔準(zhǔn)直器(1)和圖像板 (7)之間置有加熱絲(11)，所述加熱絲(11)為螺旋狀結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于制作圖像板(7)所用的具有輻 射記憶功能的輻射光致發(fā)光材料是銀離子活化的磷酸鹽玻璃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述圖像板(7)靠近針孔準(zhǔn)直 器(1)的一側(cè)覆蓋有一層鋁箔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述激發(fā)光源C3)呈圓狀均勻 分布在位置靈敏光探測(cè)模塊O)的周圍。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述加熱絲(11)和圖像板(7) 可以在遮光框體(5)內(nèi)沿著輻射測(cè)量系統(tǒng)中心軸方向前后移動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述位置靈敏光探測(cè)模 塊(2)包括遮光外壁和置于其中的光電探測(cè)器，面向圖像板(7)的一端置有能夠過(guò)濾激發(fā) 光的濾光片(8)，其靠近控制和圖像處理模塊(9)的一端置有電源接口(1 和數(shù)據(jù)接口 (16)；所述光電探測(cè)器是位置靈敏光電倍增管(14)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 7所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述位置靈敏光探測(cè)模 塊( 包括遮光外壁和置于其中的光電探測(cè)器，面向圖像板(7)的一端置有能夠過(guò)濾激 發(fā)光的濾光片(8)，其靠近控制和圖像處理模塊(9)的一端置有電源接口(1 和數(shù)據(jù)接 口(16)；所述光電探測(cè)器是CCD或者CMOS (12)，并且在所述濾光片⑶和CCD或者 CMOS (12)之間置有錐形光纖成像束(10)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 7所述的輻射成像系統(tǒng)，其特征在于所述位置靈敏光探測(cè)模 塊( 包括遮光外壁和置于其中的光電探測(cè)器，面向圖像板(7)的一端置有能夠過(guò)濾激 發(fā)光的濾光片(8)，其靠近控制和圖像處理模塊(9)的一端置有電源接口(1 和數(shù)據(jù)接 口(16)；所述光電探測(cè)器是CCD或者CMOS (12)，并且在所述濾光片⑶和CCD或者 CMOS (12)之間置有成像透鏡組(13)，所述CCD或者CMOS (12)的感光芯片位于成像透 鏡組(1 的像平面上。
全文摘要
本發(fā)明屬于輻射測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于具有輻射記憶功能的輻射光致發(fā)光圖像板的輻射成像系統(tǒng)，包括遮光框體、針孔準(zhǔn)直器、位置靈敏光探測(cè)模塊、控制和圖像處理模塊，所述針孔準(zhǔn)直器位于遮光框體前端，位置靈敏光探測(cè)模塊置于遮光框體后端并且其光探測(cè)面正對(duì)針孔準(zhǔn)直器，控制和圖像處理模塊與位置靈敏光探測(cè)模塊相連。在所述針孔準(zhǔn)直器和位置靈敏光探測(cè)模塊之間還置有由輻射光致發(fā)光材料制成的圖像板；在所述遮光框體的后端置有與所述輻射光致發(fā)光材料相對(duì)應(yīng)的激發(fā)光源；在所述遮光框體后端還置有快門。本發(fā)明所提供的輻射成像系統(tǒng)能夠?qū)?qiáng)度極低的X射線或者伽瑪射線進(jìn)行測(cè)量，可以廣泛應(yīng)用于低輻射場(chǎng)所的輻射強(qiáng)度與輻射成像測(cè)量。
文檔編號(hào)G01T1/29GK102023308SQ201010281939
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月14日
發(fā)明者王瑩, 馬吉增, 駱志平 申請(qǐng)人:中國(guó)原子能科學(xué)研究院