專(zhuān)利名稱(chēng)：使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種定位方法，特別是涉及一種使彈頭表面痕跡的測(cè)量 姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有彈頭表面痕跡的三維測(cè)量，往往因?yàn)闇y(cè)量姿態(tài)的差異給測(cè)量結(jié) 果造成極大的誤差，這一誤差超過(guò)一定的范圍，將使同一槍發(fā)射的彈頭 痕跡無(wú)法進(jìn)行個(gè)體識(shí)別，嚴(yán)重時(shí)甚至?xí)斐赏话l(fā)彈頭兩次測(cè)量的結(jié)果 也不盡相同。
要縮小上述測(cè)量誤差，就涉及到測(cè)量姿態(tài)是否調(diào)整一致的標(biāo)準(zhǔn)和范 圍問(wèn)題。這一問(wèn)題在有膛線(xiàn)彈頭痕跡測(cè)量中始終存在，不解決測(cè)量姿態(tài) 統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的問(wèn)題，就無(wú)法實(shí)現(xiàn)測(cè)量數(shù)據(jù)的一致性和可重復(fù)性，更難實(shí)現(xiàn) 規(guī)范化的數(shù)據(jù)庫(kù)建設(shè)，會(huì)嚴(yán)重影響計(jì)算機(jī)進(jìn)行個(gè)體識(shí)別與比對(duì)。
另，有膛線(xiàn)彈頭表面痕跡主要由陽(yáng)膛線(xiàn)痕跡組成，包括主棱線(xiàn)、次 棱線(xiàn)、主棱線(xiàn)末端痕跡、次棱線(xiàn)末端痕跡、膛線(xiàn)末端痕跡、膛線(xiàn)痕跡、 小線(xiàn)紋等。
常見(jiàn)各種國(guó)產(chǎn)手槍的纏角角度分別為五四式手槍為5度42分，五 九式手槍為6度24分，公安式手槍為6度5分，六四式手槍和七七式手 槍均為5度40分(纏角是指膛線(xiàn)上的任意一點(diǎn)的切線(xiàn)與槍管軸線(xiàn)的夾 角)； 一般地，槍管中的陽(yáng)膛線(xiàn)均為四條，陽(yáng)膛線(xiàn)的寬度在1點(diǎn)9毫米至 2毫米之間，槍管的口徑在7點(diǎn)62毫米至9毫米之間。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種使彈頭表面痕跡的 測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，該方法使用設(shè)備少，簡(jiǎn)便易行。
本發(fā)明提供了一種使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位
方法，它包括以下工藝步驟
1) 根據(jù)彈頭上的主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)及兩棱線(xiàn)纏角的數(shù)值，用計(jì)算機(jī)上 的常規(guī)繪圖軟件繪出作為測(cè)量基礎(chǔ)的定位線(xiàn)并將定位線(xiàn)表達(dá)在顯示器的 屏幕上，定位線(xiàn)與水平面之間的角度與彈頭的纏角相同；
2) 利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，將得到的彈 頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它 們用常規(guī)的相關(guān)軟件表達(dá)在顯示器的屏幕上，所述放大圖像的長(zhǎng)度方向
4表達(dá)在顯示器屏幕的水平方向上，代表了彈頭的彈軸方向，設(shè)定為x方
向，所述放大圖像的寬度方向表達(dá)在顯示器屏幕的豎直方向上，代表了
彈頭在水平面內(nèi)與彈軸方向相垂直的方向，設(shè)定為Y方向，彈頭中垂直 于X、 Y方向所在水平面的方向，為彈頭表面痕跡的圓弧高度方向，設(shè) 定為Z方向；
3) 在顯示器的屏幕上對(duì)彈頭主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大 圖像進(jìn)行觀察，觀察時(shí)，要移動(dòng)彈頭，讓彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)與定 位線(xiàn)重疊，并使彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)或陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡 點(diǎn)與顯示器屏幕上的Y軸平齊，以確保彈頭的表面痕跡在Y、 X方向上 得到預(yù)定位；
4) 利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，對(duì)彈頭相應(yīng) 區(qū)域的表面痕跡進(jìn)行預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡的放大 圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們用常規(guī)的相關(guān)軟件表達(dá)在顯 示器的屏幕上；
5) 根據(jù)彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差 差值，決定是否對(duì)彈頭的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平作相應(yīng)調(diào)整，以 使彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值控制在 20微米之內(nèi)；
6) 再用常規(guī)的相關(guān)軟件過(guò)放大圖像的中心點(diǎn)沿Y方向作一切線(xiàn)， 該切線(xiàn)為曲線(xiàn)，設(shè)定放大圖像的中心點(diǎn)、切線(xiàn)與相應(yīng)棱線(xiàn)的交點(diǎn)分別為 A點(diǎn)、B點(diǎn)，得到彈頭Z方向A、 B兩點(diǎn)之間的高差值h;
7) 當(dāng)高差值h在10 90微米的范圍內(nèi)時(shí)，無(wú)需以彈頭的彈軸為軸 線(xiàn)旋轉(zhuǎn)彈頭，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)；
當(dāng)高差值h超出10 卯微米的范圍時(shí)，要以彈頭的彈軸為軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn) 彈頭，對(duì)彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡再進(jìn)行一次預(yù)測(cè)量，且旋轉(zhuǎn)彈頭及隨 后的預(yù)測(cè)量可多次進(jìn)行，且每次預(yù)測(cè)量時(shí)，要確保彈頭表面痕跡放大圖 像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值控制在20微米之內(nèi)，直至高 差值h控制在10 90微米的范圍之內(nèi)，且讓彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)再 次與定位線(xiàn)重疊，并使彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)或陽(yáng)膛線(xiàn)末 端痕跡點(diǎn)再次與顯示器屏幕上的Y軸平齊，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài) 保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。
所述的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式中包括負(fù)責(zé)光柵投影的投影 儀、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī)、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像分析和處理的計(jì)算機(jī)。
為能簡(jiǎn)潔說(shuō)明問(wèn)題起見(jiàn)，以下對(duì)本發(fā)明使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài) 保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法均簡(jiǎn)稱(chēng)為本方法。
采用本方法后，利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式， 首先對(duì)彈頭表面痕跡進(jìn)行預(yù)定位、預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭相應(yīng)區(qū)域的表 面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，將預(yù)測(cè)量結(jié)果與規(guī)定的 數(shù)值范圍對(duì)比，判定測(cè)量誤差是否超出規(guī)定的數(shù)值范圍，當(dāng)超出時(shí)，要 調(diào)整彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)，并對(duì)彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡再進(jìn)行一 次預(yù)測(cè)量，且調(diào)整彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)及隨后的預(yù)測(cè)量可多次進(jìn)行， 直到測(cè)量誤差控制在規(guī)定的相應(yīng)數(shù)值范圍之內(nèi)，使彈頭表面痕跡的測(cè)量 姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)，確定統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)，這樣，在統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)下 再進(jìn)行正式測(cè)量，可獲得符合標(biāo)準(zhǔn)的彈頭表面痕跡的三維測(cè)量數(shù)據(jù)。
這就為同種槍支發(fā)射的同種彈頭表面痕跡的測(cè)量提供了統(tǒng)一的測(cè)量 姿態(tài)標(biāo)準(zhǔn)，解決了測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)不一、測(cè)量不定位而導(dǎo)致的盲目性問(wèn)題，最 大限度地縮小了測(cè)量時(shí)的誤差，為計(jì)算機(jī)更好地管理和識(shí)別彈頭表面痕 跡的特征信息提供了可靠的依據(jù)，提高了識(shí)別的準(zhǔn)確率，使測(cè)量獲得的 三維數(shù)據(jù)更加統(tǒng)一、規(guī)范、標(biāo)準(zhǔn)，信息數(shù)據(jù)更加可靠，具有一致性和可 重復(fù)性，并可以在計(jì)算機(jī)及網(wǎng)絡(luò)的支持下完成現(xiàn)場(chǎng)痕跡信息數(shù)據(jù)庫(kù)、樣 本痕跡數(shù)據(jù)庫(kù)的建設(shè)和痕跡間的自動(dòng)識(shí)別與比對(duì)工作，為偵査破案服務(wù)。
本方法的7)工藝步驟中， 一般地，常見(jiàn)各種國(guó)產(chǎn)手槍彈頭Z方向 A、 B兩點(diǎn)之間高差值h的控制范圍分別為七七式手槍的彈頭控制在 10 35微米，最好控制在20 25微米；六四式手槍的彈頭控制在15 20微米；五四式手槍的彈頭控制在30 35微米。
所述定位線(xiàn)位于屏幕豎直方向的上部。
所述負(fù)責(zé)光柵投影的投影儀的光軸與彈頭的彈軸延長(zhǎng)線(xiàn)之間的夾角 不小于45度，負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī)的分辨率控制 在2 4微米。
本方法適用于有膛線(xiàn)的任何一種槍彈彈頭表面痕跡的測(cè)量。


圖1是本發(fā)明兩實(shí)施例中相應(yīng)棱線(xiàn)與定位線(xiàn)相重疊、陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕 跡點(diǎn)與Y軸平齊的示意圖2是圖1中切線(xiàn)沿Z方向的示意圖。
圖中A、彈頭表面痕跡放大圖像的中心點(diǎn)，1、定位線(xiàn)，2、彈頭的主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)，3、陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)，4、過(guò)A點(diǎn)、沿Y方向的切 線(xiàn)，B、切線(xiàn)4與彈頭的主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)2的交點(diǎn)，h、彈頭Z方向A、 B兩點(diǎn)之間的高差值。
具體實(shí)施例方式
以下通過(guò)下面給出的實(shí)施例可以進(jìn)一步清楚地了解本發(fā)明。但它們 不是對(duì)本發(fā)明的限定。 實(shí)施例1
參見(jiàn)圖1、圖2，本發(fā)明提供了一種使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持 統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，它包括以下工藝步驟
1) 根據(jù)彈頭上的主棱線(xiàn)及該棱線(xiàn)纏角的數(shù)值，用計(jì)算機(jī)上的Matlab 軟件繪出作為測(cè)量基礎(chǔ)的定位線(xiàn)1并將定位線(xiàn)1表達(dá)在顯示器的屏幕上， 彈頭為六四式手槍的彈頭，定位線(xiàn)1與水平面之間的角度與彈頭的纏角 相同，為5度40分，定位線(xiàn)1位于屏幕豎直方向的上部；
2) 利用一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，將得到的彈頭主 棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們 用Matlab軟件表達(dá)在顯示器的屏幕上，所述放大圖像的長(zhǎng)度方向表達(dá)在 顯示器屏幕的水平方向上，代表了彈頭的彈軸方向，設(shè)定為X方向，所 述放大圖像的寬度方向表達(dá)在顯示器屏幕的豎直方向上，代表了彈頭在 水平面內(nèi)與彈軸方向相垂直的方向，設(shè)定為Y方向，彈頭中垂直于X、 Y方向所在水平面的方向，為彈頭表面痕跡的圓弧高度方向，設(shè)定為Z 方向，所述的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式中包括負(fù)責(zé)光柵投影的投 影儀、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī)、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡 圖像分析和處理的計(jì)算機(jī)，負(fù)責(zé)光柵投影的投影儀的光軸與彈頭的彈軸 延長(zhǎng)線(xiàn)之間的夾角為60度，負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī) 的分辨率控制在2.75微米；
3) 在顯示器的屏幕上對(duì)彈頭主棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像進(jìn)行 觀察，觀察時(shí)，要移動(dòng)彈頭，讓彈頭放大圖像的主棱線(xiàn)2與定位線(xiàn)1重 疊，并使彈頭放大圖像的陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)3與顯示器屏幕上的Y軸平 齊，以確保彈頭的表面痕跡在Y、 X方向上得到預(yù)定位；
4) 利用一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，對(duì)彈頭主棱線(xiàn)區(qū) 域的表面痕跡進(jìn)行預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭主棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大 圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們用Matlab軟件表達(dá)在顯示器 的屏幕上；5) 彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值 為67微米，差值在20微米的范圍之外，此時(shí)，將彈頭一側(cè)向下調(diào)整50 微米，對(duì)彈頭的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平作相應(yīng)調(diào)整，再次得到的 水平差差值為17微米，使差值控制在20微米之內(nèi)；
6) 再用常規(guī)的Matlab軟件過(guò)放大圖像的中心點(diǎn)沿Y方向作一切線(xiàn) 4，切線(xiàn)4為曲線(xiàn)，設(shè)定放大圖像的中心點(diǎn)、切線(xiàn)4與主棱線(xiàn)2的交點(diǎn)分 別為A點(diǎn)、B點(diǎn)，得到彈頭Z方向A、 B兩點(diǎn)之間的高差值h;
7) 高差值h為110微米，超出10 90微米的范圍，要以彈頭的彈 軸為軸線(xiàn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)彈頭，對(duì)彈頭主棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡再進(jìn)行一次預(yù) 測(cè)量，且旋轉(zhuǎn)彈頭及隨后的預(yù)測(cè)量可進(jìn)行三次，且每次預(yù)測(cè)量時(shí)，要確 保彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值控制在 20微米之內(nèi)，直至高差值h為25微米(即高差值h下降85微米)，控 制在10 90微米的范圍之內(nèi)，且讓彈頭放大圖像的主棱線(xiàn)2再次與定位 線(xiàn)1重疊，并使彈頭放大圖像的陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)3再次與顯示器屏幕 上的Y軸平齊，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。
采用本方法將彈頭調(diào)整到統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)后，再正式測(cè)量和采集數(shù) 據(jù)，這樣的測(cè)量數(shù)據(jù)符合標(biāo)準(zhǔn)，是規(guī)范的、可靠的且具有實(shí)用價(jià)值的數(shù) 據(jù)。
實(shí)施例2
參見(jiàn)圖1、圖2，本發(fā)明提供了一種使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持 統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，它包括以下工藝步驟
1) 根據(jù)彈頭上的次棱線(xiàn)及該棱線(xiàn)纏角的數(shù)值，用計(jì)算機(jī)上的Matlab 軟件繪出作為測(cè)量基礎(chǔ)的定位線(xiàn)1并將定位線(xiàn)1表達(dá)在顯示器的屏幕上， 彈頭為七七式手槍的彈頭，定位線(xiàn)1與水平面之間的角度與彈頭的纏角 相同，為5度40分，定位線(xiàn)l位于屏幕豎直方向的上部；
2) 利用一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，將得到的彈頭次 棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們 用Matlab軟件表達(dá)在顯示器的屏幕上，所述放大圖像的長(zhǎng)度方向表達(dá)在 顯示器屏幕的水平方向上，代表了彈頭的彈軸方向，設(shè)定為X方向，所 述放大圖像的寬度方向表達(dá)在顯示器屏幕的豎直方向上，代表了彈頭在 水平面內(nèi)與彈軸方向相垂直的方向，設(shè)定為Y方向，彈頭中垂直于X、 Y方向所在水平面的方向，為彈頭表面痕跡的圓弧高度方向，設(shè)定為Z 方向，所述的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式中包括負(fù)責(zé)光柵投影的投
8影儀、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī)、負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡 圖像分析和處理的計(jì)算機(jī)，負(fù)責(zé)光柵投影的投影儀的光軸與彈頭的彈軸
延長(zhǎng)線(xiàn)之間的夾角為60度，負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和輸送的攝像機(jī) 的分辨率控制在2.75微米；
3) 在顯示器的屏幕上對(duì)彈頭次棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像進(jìn)行 觀察，觀察時(shí)，要移動(dòng)彈頭，讓彈頭放大圖像的次棱線(xiàn)2與定位線(xiàn)1重 疊，并使彈頭放大圖像的陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)3與顯示器屏幕上的Y軸平 齊，以確保彈頭的表面痕跡在Y、 X方向上得到預(yù)定位；
4) 利用一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，對(duì)彈頭次棱線(xiàn)區(qū) 域的表面痕跡進(jìn)行預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭次棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大 圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們用Matlab軟件表達(dá)在顯示器 的屏幕上；
5) 彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值 為18微米，差值在20微米的范圍之內(nèi)，此時(shí)，不再對(duì)彈頭的長(zhǎng)度方向 兩端在X方向的水平作相應(yīng)調(diào)整；
6) 再用常規(guī)的Matlab軟件過(guò)放大圖像的中心點(diǎn)沿Y方向作一切線(xiàn) 4，切線(xiàn)4為曲線(xiàn)，設(shè)定放大圖像的中心點(diǎn)、切線(xiàn)4與次棱線(xiàn)2的交點(diǎn)分 別為A點(diǎn)、B點(diǎn)，得到彈頭Z方向A、 B兩點(diǎn)之間的高差值h;
7) 高差值h為21微米，高差值h在10 90微米的范圍之內(nèi)，無(wú)需 以彈頭的彈軸為軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)彈頭，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo) 準(zhǔn)。
采用本方法將彈頭調(diào)整到統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)后，再正式測(cè)量和采集數(shù) 據(jù)，這樣的測(cè)量數(shù)據(jù)符合標(biāo)準(zhǔn)，是規(guī)范的、可靠的且具有實(shí)用價(jià)值的數(shù) 據(jù)。
以上所述的僅是本發(fā)明的兩種實(shí)施方式。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本領(lǐng)域的 普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以作出若干變 型和改進(jìn)，這些也應(yīng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。比如本方法的3) 工藝步驟中，還可使彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)(主棱線(xiàn)末端 痕跡點(diǎn)或次棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn))與顯示器屏幕上的Y軸平齊，以確保彈頭 的表面痕跡在X方向上得到預(yù)定位。
權(quán)利要求
1、使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，它包括以下工藝步驟1)根據(jù)彈頭上的主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)及兩棱線(xiàn)纏角的數(shù)值，用計(jì)算機(jī)上的常規(guī)繪圖軟件繪出作為測(cè)量基礎(chǔ)的定位線(xiàn)并將定位線(xiàn)表達(dá)在顯示器的屏幕上，定位線(xiàn)與水平面之間的角度與彈頭的纏角相同；2)利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，將得到的彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們用常規(guī)的相關(guān)軟件表達(dá)在顯示器的屏幕上，所述放大圖像的長(zhǎng)度方向表達(dá)在顯示器屏幕的水平方向上，代表了彈頭的彈軸方向，設(shè)定為X方向，所述放大圖像的寬度方向表達(dá)在顯示器屏幕的豎直方向上，代表了彈頭在水平面內(nèi)與彈軸方向相垂直的方向，設(shè)定為Y方向，彈頭中垂直于X、Y方向所在水平面的方向，為彈頭表面痕跡的圓弧高度方向，設(shè)定為Z方向；3)在顯示器的屏幕上對(duì)彈頭主棱線(xiàn)或次棱線(xiàn)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像進(jìn)行觀察，觀察時(shí)，要移動(dòng)彈頭，讓彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)與定位線(xiàn)重疊，并使彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)或陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)與顯示器屏幕上的Y軸平齊，以確保彈頭的表面痕跡在Y、X方向上得到預(yù)定位；4)利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，對(duì)彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡進(jìn)行預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，并將它們用常規(guī)的相關(guān)軟件表達(dá)在顯示器的屏幕上；5)根據(jù)彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值，決定是否對(duì)彈頭的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平作相應(yīng)調(diào)整，以使彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值控制在20微米之內(nèi)；6)再用常規(guī)的相關(guān)軟件過(guò)放大圖像的中心點(diǎn)沿Y方向作一切線(xiàn)，該切線(xiàn)為曲線(xiàn)，設(shè)定放大圖像的中心點(diǎn)、切線(xiàn)與相應(yīng)棱線(xiàn)的交點(diǎn)分別為A點(diǎn)、B點(diǎn)，得到彈頭Z方向A、B兩點(diǎn)之間的高差值h；7)當(dāng)高差值h在10～90微米的范圍內(nèi)時(shí)，無(wú)需以彈頭的彈軸為軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)彈頭，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)；當(dāng)高差值h超出10～90微米的范圍時(shí)，要以彈頭的彈軸為軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)彈頭，對(duì)彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡再進(jìn)行一次預(yù)測(cè)量，且旋轉(zhuǎn)彈頭及隨后的預(yù)測(cè)量可多次進(jìn)行，且每次預(yù)測(cè)量時(shí)，要確保彈頭表面痕跡放大圖像的長(zhǎng)度方向兩端在X方向的水平差差值控制在20微米之內(nèi)，直至高差值h控制在10～90微米的范圍之內(nèi)，且讓彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)再次與定位線(xiàn)重疊，并使彈頭放大圖像的相應(yīng)棱線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)或陽(yáng)膛線(xiàn)末端痕跡點(diǎn)再次與顯示器屏幕上的Y軸平齊，使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn) 的定位方法，其特征在于所述定位線(xiàn)位于屏幕豎直方向的上部。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一 標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，其特征在于所述負(fù)責(zé)光柵投影的投影儀的光軸與彈 頭的彈軸延長(zhǎng)線(xiàn)之間的夾角不小于45度，負(fù)責(zé)彈頭表面痕跡圖像采集和 輸送的攝像機(jī)的分辨率控制在2 4微米。
全文摘要
使彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)保持統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)的定位方法，它是利用任意一種常規(guī)的光柵投影非接觸三維測(cè)量方式，首先對(duì)彈頭表面痕跡進(jìn)行預(yù)定位、預(yù)測(cè)量，將得到的彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡的放大圖像及相應(yīng)測(cè)量參數(shù)輸入計(jì)算機(jī)，將預(yù)測(cè)量結(jié)果與規(guī)定的數(shù)值范圍對(duì)比，判定測(cè)量誤差是否超出規(guī)定的數(shù)值范圍，當(dāng)超出時(shí)，要調(diào)整彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)，并對(duì)彈頭相應(yīng)區(qū)域的表面痕跡再進(jìn)行一次預(yù)測(cè)量，且調(diào)整彈頭表面痕跡的測(cè)量姿態(tài)及隨后的預(yù)測(cè)量可多次進(jìn)行，直到測(cè)量誤差控制在規(guī)定的相應(yīng)數(shù)值范圍之內(nèi)，確定統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)。這樣，在統(tǒng)一的測(cè)量姿態(tài)下再進(jìn)行正式測(cè)量，可獲得符合標(biāo)準(zhǔn)的彈頭表面痕跡的三維測(cè)量數(shù)據(jù)。
文檔編號(hào)G01B11/30GK101539389SQ20091011654
公開(kāi)日2009年9月23日 申請(qǐng)日期2009年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月13日
發(fā)明者馬建春 申請(qǐng)人:馬建春