專(zhuān)利名稱(chēng)：檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于 一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置及方法。
背景技術(shù)：
在照相機(jī)、攝像機(jī)和具有照相功能的手機(jī)中具有鏡頭模組，該鏡頭模組 中含有玻璃或塑膠的鏡片，玻璃或塑膠的鍍膜濾光片。這些光學(xué)鏡片在鍍膜 前和鍍膜后都需要經(jīng)過(guò)清洗，達(dá)到一定清潔度的要求，然后再將這些光學(xué)鏡 片和其它元件進(jìn)行組裝，才不至于因?yàn)槟骋还鈱W(xué)鏡片的不干凈而影響到整個(gè) 鏡頭模組的品質(zhì)。清洗的目的是為了去除附著于光學(xué)鏡片表面的灰塵、油漬、 顆粒等，而這些光學(xué)鏡片在清洗過(guò)程中，會(huì)利用化學(xué)藥劑來(lái)達(dá)到去除上述臟 污。而清洗后的光學(xué)鏡片需要進(jìn)行表面清潔度的檢驗(yàn)，來(lái)判斷是否達(dá)到規(guī)格 要求， 一般檢驗(yàn)是采用強(qiáng)光燈照射光學(xué)鏡片，操作員目檢判斷，而以強(qiáng)光燈 的判別方式容易判斷出光學(xué)鏡片表面的臟污、劃痕、破損等普通缺陷，但不 易判斷出光學(xué)鏡片表面是否殘留化學(xué)藥劑，若在光學(xué)鏡片表面部分殘留有化 學(xué)薄膜，則會(huì)因?yàn)榛瘜W(xué)薄膜折射率與光學(xué)鏡片材料折射率的差異，造成不連 續(xù)的界面，而影響光學(xué)元件的光學(xué)性質(zhì)。因此對(duì)光學(xué)鏡片表面是否殘留有化 學(xué)藥劑進(jìn)行檢驗(yàn)是很重要的。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置及方法。 一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，包括光源和水蒸發(fā)裝置，該水蒸發(fā)裝 置具有一蒸發(fā)口 ，該蒸發(fā)口蒸發(fā)出的水蒸氣用于在光學(xué)鏡片的表面形成水膜。
一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的方法，包括以下步驟將待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片放置 于一個(gè)水蒸發(fā)裝置的蒸發(fā)口處，使水蒸發(fā)裝置的水蒸氣蒸發(fā)到光學(xué)鏡片的表 面，在光學(xué)鏡片的表面形成水膜；打開(kāi)一個(gè)光源，使光源照射至表面形成有
水膜的光學(xué)鏡片，檢測(cè)該光學(xué)鏡片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說(shuō)明光 學(xué)鏡片表面無(wú)化學(xué)物質(zhì)，如果不均勻則說(shuō)明光學(xué)鏡片表面殘留有化學(xué)物質(zhì)。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，所述檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置因?yàn)榘ㄋ舭l(fā)裝置， 所以用該裝置檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度時(shí)，使水蒸發(fā)裝置的水蒸氣蒸發(fā)到光學(xué)鏡
片的表面，在光學(xué)鏡片的表面形成水膜；檢測(cè)形成在光學(xué)鏡片表面的水膜是 否均勻，如果光學(xué)鏡片表面的水膜均勻則說(shuō)明該光學(xué)鏡片表面無(wú)殘留化學(xué)物 質(zhì)，如果光學(xué)鏡片表面的水膜不均勻則說(shuō)明該光學(xué)鏡片表面殘留有化學(xué)物質(zhì)。 即，使用該方法可以檢驗(yàn)到光學(xué)鏡片的表面是否殘留有化學(xué)物質(zhì)，可以避免 因光學(xué)鏡片的不干凈而影響到整個(gè)鏡頭模組的品質(zhì)。


圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例中檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置的示意圖。 圖2是本發(fā)明第二實(shí)施例中檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置的示意圖。 圖3是使用本發(fā)明第 一 實(shí)施例中的裝置來(lái)檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度方法的示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖l,本發(fā)明第一實(shí)施例中的檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置10，包 括光源11和水蒸發(fā)裝置13、該水蒸發(fā)裝置13具有一蒸發(fā)口 14。
水蒸發(fā)裝置13的蒸發(fā)口 14正對(duì)著光源11發(fā)出光線(xiàn)的方向。在檢驗(yàn)光學(xué) 鏡片清潔度時(shí)，將光學(xué)鏡片放置于光源11和水蒸發(fā)裝置13的蒸發(fā)口 14之間， 由蒸發(fā)口 14蒸發(fā)出的水蒸氣在光學(xué)鏡片的表面形成水膜，光源ll發(fā)出的光 線(xiàn)剛好照射在該水膜上。
請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明第二實(shí)施例中的檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置20,包 括光源21和水蒸發(fā)裝置23,該水蒸發(fā)裝置23具有一蒸發(fā)口 24。
水蒸發(fā)裝置23的蒸發(fā)口 24位于與光源21發(fā)出光線(xiàn)的方向相垂直的方向 上。將待檢驗(yàn)的光學(xué)鏡片放置于光源21發(fā)出光線(xiàn)的方向與蒸發(fā)口 24的軸線(xiàn) 相交之處。由蒸發(fā)口 24蒸發(fā)出的水蒸氣在光學(xué)鏡片的表面形成水膜，光源
21發(fā)出的光線(xiàn)剛好照射在該水膜上。
請(qǐng)一并參閱圖1及圖2，在上述兩個(gè)實(shí)施例中，水蒸發(fā)裝置13、 23的放 置位置只要使由蒸發(fā)口 14、 24蒸發(fā)出的水蒸氣14、 24分別可噴射到待檢驗(yàn) 光學(xué)鏡片即可。水蒸發(fā)裝置13、 23的蒸發(fā)口 14、 24的大小最好是大于或等 于分別對(duì)應(yīng)的待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片的大小。且該光源11、 21的功率最好在50瓦 以上，提供足夠的亮度以便檢測(cè)光學(xué)鏡片表面的清潔度。
另外，本發(fā)明提供一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的方法，該方法可以使用本 發(fā)明第一實(shí)施例中的裝置也可使用本發(fā)明第二實(shí)施例中的裝置以及類(lèi)似的裝 置。在此以使用本發(fā)明第 一 實(shí)施例中的裝置為例來(lái)說(shuō)明檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度 的方法。
請(qǐng)參閱圖3，是檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度方法的示意圖。首先提供一光源11 及水蒸發(fā)裝置13,該水蒸發(fā)裝置13具有一蒸發(fā)口 14。將光源11與水蒸發(fā)裝 置13的蒸發(fā)口 14正對(duì)放置，將待檢驗(yàn)的光學(xué)鏡片12放置于光源11與水蒸 發(fā)裝置13的蒸發(fā)口 14之間，待檢驗(yàn)的光學(xué)鏡片12正對(duì)蒸發(fā)口 14，且光學(xué) 鏡片12的表面平行于水蒸發(fā)裝置13的蒸發(fā)口 14。將水蒸發(fā)裝置13打開(kāi)， 由蒸發(fā)口 14蒸發(fā)出的水蒸氣15將在光學(xué)鏡片12的表面形成水膜，打開(kāi)光源 11，在光源11的照射下，目視或者使用薄膜均勻性檢測(cè)裝置來(lái)檢測(cè)形成在光 學(xué)鏡片12表面的水膜，若該水膜分布均勻，則表明該光學(xué)鏡片表面無(wú)殘留的 化學(xué)物質(zhì)，光學(xué)鏡片12清洗干凈；若該水膜分布不均勻，則表明該光學(xué)鏡片 12表面殘留有化學(xué)物質(zhì)，光學(xué)鏡片12沒(méi)有清洗干凈。因?yàn)槿艄鈱W(xué)鏡片12表 面殘留有化學(xué)物質(zhì)，那么光學(xué)鏡片12和殘留的化學(xué)物質(zhì)表面張力不同，所以 水分子無(wú)法均勻地在光學(xué)鏡片12的表面形成水膜。光學(xué)鏡片12其中的一個(gè) 表面檢驗(yàn)完畢后，將光學(xué)鏡片12翻轉(zhuǎn)使其另外一個(gè)表面平行且正對(duì)水蒸發(fā)裝 置13的蒸發(fā)口 14，用與上述相同的方法進(jìn)行檢驗(yàn)該表面。
當(dāng)使用本發(fā)明第二實(shí)施例中的裝置來(lái)檢驗(yàn)光學(xué)鏡片表面的清潔度時(shí)，將 待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片放置于垂直光源放出光線(xiàn)的方向，這樣由水蒸發(fā)裝置的蒸發(fā) 口蒸發(fā)出的水蒸氣在待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片的兩個(gè)表面同時(shí)形成水膜。也可使用與 本發(fā)明第一實(shí)施例和第二實(shí)施例中的裝置相類(lèi)似的裝置來(lái)檢驗(yàn)光學(xué)鏡片表面 的清潔度。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，所述檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置10因?yàn)榘ㄋ舭l(fā)裝 置13，所以用該裝置10檢驗(yàn)光學(xué)鏡片12清潔度時(shí)，將由水蒸發(fā)13蒸發(fā)出 的水蒸氣15蒸發(fā)到光學(xué)鏡片12的表面，在光學(xué)鏡片12的表面形成水膜；檢 測(cè)形成在光學(xué)鏡片12表面的水膜是否均勻，如果光學(xué)鏡片12表面的水膜均 勻，則說(shuō)明該光學(xué)鏡片12表面無(wú)殘留化學(xué)物質(zhì)，如果光學(xué)鏡片12表面的水 膜不均勻，則說(shuō)明該光學(xué)鏡片12表面殘留有化學(xué)物質(zhì)。即，使用該方法可以 檢驗(yàn)到光學(xué)鏡片12的表面是否殘留有化學(xué)物質(zhì)，可以避免因光學(xué)鏡片12的 不干凈而影響到整個(gè)鏡頭模組的品質(zhì)。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些 依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，包括光源，其特征在于，進(jìn)一步包括水蒸發(fā)裝置，該水蒸發(fā)裝置具有一蒸發(fā)口，該蒸發(fā)口蒸發(fā)出的水蒸氣用于在光學(xué)鏡片的表面形成水膜。
2. 如權(quán)利要求1所述的檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該蒸發(fā)口 位于光源發(fā)出光線(xiàn)的方向上。
3. 如權(quán)利要求1所述的檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該蒸發(fā)口 位于與光源發(fā)出光線(xiàn)的方向相垂直的方向上。
4. 如權(quán)利要求1所述的檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該光源的 功率為50瓦以上。
5. —種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的方法，包括以下步驟 將待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片放置于一個(gè)水蒸發(fā)裝置的蒸發(fā)口處，使水蒸發(fā)裝置的水 蒸氣蒸發(fā)到光學(xué)鏡片的表面，在光學(xué)鏡片的表面形成水膜； 打開(kāi)一個(gè)光源，使光源照射至表面形成有水膜的光學(xué)鏡片，檢測(cè)該光學(xué)鏡 片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說(shuō)明光學(xué)鏡片表面無(wú)化學(xué)物質(zhì)，如果 不均勻則說(shuō)明光學(xué)鏡片表面殘留有化學(xué)物質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置，該檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的裝置包括光源和水蒸發(fā)裝置，該水蒸發(fā)裝置具有一蒸發(fā)口，該蒸發(fā)口蒸發(fā)出的水蒸氣用于在光學(xué)鏡片的表面形成水膜。本發(fā)明還提供一種檢驗(yàn)光學(xué)鏡片清潔度的方法，其包括以下步驟將待檢驗(yàn)光學(xué)鏡片放置于一個(gè)水蒸發(fā)裝置的蒸發(fā)口處，使水蒸發(fā)裝置的水蒸氣蒸發(fā)到光學(xué)鏡片的表面，在光學(xué)鏡片的表面形成水膜；打開(kāi)一個(gè)光源，使光源照射至表面形成有水膜的光學(xué)鏡片，檢測(cè)該光學(xué)鏡片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說(shuō)明光學(xué)鏡片表面無(wú)化學(xué)物質(zhì)，如果不均勻則說(shuō)明光學(xué)鏡片表面殘留有化學(xué)物質(zhì)。這樣可以避免因光學(xué)鏡片的不干凈而影響到整個(gè)鏡頭模組的品質(zhì)。
文檔編號(hào)G01N21/94GK101191775SQ20061015706
公開(kāi)日2008年6月4日 申請(qǐng)日期2006年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月24日
發(fā)明者董才士 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司