專利名稱：基于微棱鏡夏克－哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)。
背景技術：
自適應光學是70年代發(fā)展起來的新興的、綜合性(集光、機、電、自動控制于一體)的高技術學科。它能動態(tài)的克服各種像差對光學系統(tǒng)的影響，使得多種多樣的光學設備具有了自動適應作用對象、傳輸通道和工作環(huán)境變化而總處于最優(yōu)工作狀態(tài)的能力，因而在空間觀察、空間通信、精密跟蹤等許多領域有著廣泛的應用。此外它的基本技術還可用于微弱信號檢測、傳感、監(jiān)控、圖像處理和光電信息處理等方面；隨著元器件的改進，成本的降低，自適應光學還將用于光學的各領域。
一套自適應光學系統(tǒng)一般都是由三部分組成波前傳感器、波前處理機、波前校正器。波前傳感器測量系統(tǒng)的光學像差，波前處理機根據(jù)波前傳感器得到的測量數(shù)據(jù)計算得出波前校正器的控制信號，最后通過波前校正器來校正整個系統(tǒng)的光學像差。整個系統(tǒng)的關鍵器件是波前傳感器和波前校正器。
目前經(jīng)常用到的波前校正器是分塊鏡面變形反射鏡、連續(xù)鏡面變形反射鏡、曲率變形鏡、液晶波前校正器、微機械薄膜變形鏡、表面微機械變形鏡、雙壓電陶瓷變形鏡等波前調制器件。而得到廣泛應用的波前傳感器是微透鏡夏克-哈特曼波前傳感器如圖1所示，它通常采用微透鏡21陣列分割光束孔徑，并通過聚光系統(tǒng)22將入射光聚焦到CCD探測器23的光敏靶面24。這類波前傳感器的微透鏡陣列與CCD探測器的耦合比較復雜，微透鏡陣列各個單元焦距的不一致會導致影響傳感器精度，因此對微透鏡陣列制作技術的要求很高，安裝、調試困難，不適宜大批量制造。
姜文漢等曾提出過一種帶有不同楔角的光楔組來分割鏡分割光束孔徑(“37單元自適應光學系統(tǒng)”，姜文漢，吳旭斌，凌寧，光電工程，22卷1期38-45頁，1995年)，并用物鏡聚焦于CCD光敏靶面的哈特曼傳感器，這樣可以克服孔徑分割元件與CCD探測器耦合的困難。但用單個子棱鏡拼裝成孔徑分割元件的制造技術復雜而昂貴，也不適宜于批量生產。
王海英等在中國專利申請?zhí)枴?1108433.2”“03126431.X”、“03126430.1”、“200310100168.1”等專利中提出用微棱鏡陣列加會聚透鏡分割系統(tǒng)光瞳的解決方案。此方法提出了一種簡單穩(wěn)定的夏克-哈特曼波前傳感器結構，但是王海英等只是把這種波前傳感器運用到了像差的檢測中，而沒有把它運用到具體自適應光學像差閉環(huán)校正系統(tǒng)中。

發(fā)明內容
本發(fā)明的技術解決問題是克服原有傳統(tǒng)自適應光學系統(tǒng)中的波前傳感器的缺點，建立一套基于套基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的，能夠實現(xiàn)實時閉環(huán)像差校正的自適應光學系統(tǒng)。
本發(fā)明的技術解決方案是基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于包括反射鏡2、3、11、12、18，準直透鏡4，信標光源5，透鏡6和7組成擴束系統(tǒng)，波前校正器8，透鏡9和10組成縮束系統(tǒng)，微棱鏡陣列13、緊貼其的傅立葉透鏡14以及位于傅立葉透鏡焦面上光電探測器15組成微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器，波前處理機16，高壓放大器17，聚焦透鏡19，光電探測器20，由信標光源5發(fā)出的光被透鏡4準直，經(jīng)過反射鏡2和3反射后照射到目標物體1，被目標物體1反射信標光5經(jīng)過由透鏡6和7組成的擴束系統(tǒng)后被波前校正器8反射，然后經(jīng)過透鏡9和10組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡12反射進入微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器進行質心偏移量探測；波前處理機16根據(jù)微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器輸出的質心偏移量計算出系統(tǒng)的波像差以及校正此波像差所需要的波前校正器的控制信號，該控制信號經(jīng)過高壓放大器17放大后加到波前校正器8上，波前校正器8根據(jù)波前處理機16得到的控制信號對入射波前進行相位調制，使得入射的帶有波像差的光波，變成理想的沒有像差的平面波，該理想平面波經(jīng)過透鏡9和10組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡11和18反射，再經(jīng)過聚焦透鏡19成像到光電探測器20上。
所述的光電探測器件為CCD、COMS、PSD、PDA等探測器；信標光源采用目標物體發(fā)出的光束，或LED、或SLD光源。
所述的微棱鏡陣列為變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列，變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列為等鋸齒深度的變周期二維鋸齒形相位光柵陣列，即陣列中每個光柵均為同一鋸齒深度，只是x、y方向空間周期各不相同。
所述變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列可以有兩種實現(xiàn)方案單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構和兩面光刻的雙面光柵結構。單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構為在基片上單面光刻，以中心為基點，呈中心對稱圓周狀向外擴展，陣列中各個子孔徑x、y方向空間周期Tx和Ty同時由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變。兩面光刻的雙面光柵結構為在基片一面以x坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿x方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變；在基片另一面以y坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿y方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變。所述變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列可以采用微光學技術或二元光學技術加工。
所述的波前校正器可以是變形反射鏡、液晶波前校正器、微機械變形鏡、雙壓電陶瓷變形鏡等波前調制器件。
所述的信標光源可以直接采用目標物體發(fā)出的光束，也可以采用其他獨立的光源。
本發(fā)明的原理是微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器通過探測被目標物體反射的信標光得到各個子孔徑的質心的偏移量；波前處理機對質心偏移量進行運算得到波前校正器各個驅動單元的驅動信號；在驅動信號的控制下，波前校正器產生相應的的波前相位調節(jié)量用以校正目標物體的波前形狀，從而校正系統(tǒng)的波像差。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比有如下優(yōu)點(1)本發(fā)明所公開的微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器，其光束孔徑分割元件-微棱鏡陣列由變周期二維鋸齒形相位光柵陣列構成，只需與一個傅立葉透鏡組合，便能夠實現(xiàn)光束孔徑分割，所有子波前通過公共的傅立葉透鏡會聚到光電探測器光敏靶面，克服了現(xiàn)有技術中微透鏡陣列的微透鏡單元焦距不一致對哈特曼波前傳感器精度產生的影響。
(2)本發(fā)明所公開的微棱鏡陣列，是采用微光學或二元光學技術直接在同一片基上光刻形成，避免了分別加工單個子棱鏡，然后進行子棱鏡拼裝的復雜、繁瑣、昂貴的工藝。
(3)本發(fā)明所公開的微棱鏡陣列在加工時，只需改變陣列中每一個鋸齒形相位光柵的空間周期而鋸齒深度保持不變，并且鋸齒結構采用微光學或二元光學技術刻蝕形成，其結構簡單，加工工藝易實現(xiàn)，易于實現(xiàn)批量化生產。
(4)將使夏克-哈特曼波前傳感器的安裝調整得以簡化?，F(xiàn)有的微透鏡哈特曼傳感器通常需要一個轉像系統(tǒng)，將微透鏡陣列的焦點耦合到CCD的光敏靶面。如圖1所示，除須完成微透鏡陣列21、轉像系統(tǒng)22以及CCD 23的準直調整外，還必須完成微透鏡陣列21的焦斑陣列和CCD 23的焦平面之間相對于轉像系統(tǒng)22的物像共軛調整，整個裝調的環(huán)節(jié)較多且難度大，不利于批量生產。而本發(fā)明所提出的二維鋸齒形相位光柵陣列41和傅立葉透鏡42組合，直接成像于CCD光敏靶面44，如圖3所示，除必須的準直調整外，只需要將CCD光敏靶面44相對于傅立葉透鏡42進行調焦，簡化了傳感器的裝調工作。
(5)本發(fā)明中提出的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，可以選擇搭配各種波前校正器，例如變形反射鏡、液晶波前校正器、微機械變形鏡、雙壓電陶瓷變形鏡等波前調制器件。


圖1為現(xiàn)有技術中微透鏡哈特曼波前傳感器結構示意圖；圖2為本發(fā)明的原理示意圖；圖3為本發(fā)明的微棱鏡哈特曼波前傳感器的結構示意圖；圖4為本發(fā)明中變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列采用單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構示意圖；圖5為圖4的立體示意圖；圖6是本發(fā)明中變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列采用兩面光刻的雙面光柵結構主視圖；圖7為圖6的左視圖；圖8為圖6的右視圖。
具體實施例方式
如圖2所示，本發(fā)明包括反射鏡2、3、11、12、18，準直透鏡4，信標光源5，透鏡6和7組成擴束系統(tǒng)，波前校正器8，透鏡9和10組成縮束系統(tǒng)，微棱鏡陣列13、緊貼其的傅立葉透鏡14以及位于傅立葉透鏡焦面上光電探測器15組成微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器，波前處理機16，高壓放大器17，聚焦透鏡19，光電探測器20，由信標光源5發(fā)出的光被透鏡4準直，經(jīng)過反射鏡2和3反射后照射到目標物體1，被目標物體1反射信標光5經(jīng)過由透鏡6和7組成的擴束系統(tǒng)后被波前校正器8反射，然后經(jīng)過透鏡9和10組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡12反射進入微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器進行質心偏移量探測；波前處理機16根據(jù)微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器輸出的質心偏移量計算出系統(tǒng)的波像差以及校正此波像差所需要的波前校正器的控制信號，該控制信號經(jīng)過高壓放大器17放大后加到波前校正器8上，波前校正器8根據(jù)波前處理機16得到的控制信號對入射波前進行相位調制，使得入射的帶有波像差的光波，變成理想的沒有像差的平面波，該理想平面波經(jīng)過透鏡9和10組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡11和18反射，再經(jīng)過聚焦透鏡19成像到光電探測器20上。
如圖3所示，本發(fā)明實現(xiàn)波前像差探測的微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器由變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列41、傅立葉透鏡42和光電探測器43組成，傅立葉透鏡42緊貼變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列41，光電探測器43的光敏靶面44位于傅立葉透鏡42焦面上，微棱鏡陣列41為采用微光學或二元光學技術在同一基片上刻蝕產生的二維鋸齒形相位光柵陣列，且為等鋸齒深度的變周期二維鋸齒形相位光柵陣列，即陣列中每個光柵均為同一鋸齒深度，只是x、y方向空間周期各不相同，它可以有兩種實現(xiàn)方案單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構和兩面光刻的雙面光柵結構，分別如5、圖6、圖7和圖8所示。
圖3所示的結構的具體實施為微棱鏡陣列41和傅立葉透鏡42分別采用帶有三維調整功能的機械件固定，其后的光電探測器43需要軸向平移調整。裝調時，分別對微棱鏡陣列41、傅立葉透鏡42和光電探測器43進行準直調整；然后平行光入射，光電探測器43進行軸向調整，使其光敏靶面位于傅立葉透鏡42的焦平面上，整個裝調過程完成。
當基于微棱鏡陣列的哈特曼傳感器在工作時，如圖4所示，入射光束經(jīng)微棱鏡陣列41后，各個子孔徑的光束分別產生了相應的相位變化，通過緊貼其后的傅立葉透鏡42成像，由位于傅立葉透鏡焦面上的光電探測器43探測其光強分布，該光強分布包含著二維鋸齒形相位光柵陣列所產生的相位信息，每個子孔徑所產生的相位變化不同，因而在傅立葉透鏡焦面上形成一個光斑陣列，整個光束孔徑被均勻分割。標準平面波入射產生的光斑陣列將被保存起來作為標定數(shù)據(jù)。
當具有一定像差的波前入射時，各個局部傾斜平面波對其子孔徑內二維鋸齒形相位光柵產生新的附加相位，該相位變化將反映到傅立葉透鏡焦面的光斑位置偏移上。
光電探測器43接收到的光斑信號可通過計算機進行處理，采用質心算法由公式①計算光斑的位置(xi，yi)，探測全孔徑的波面誤差信息
xi=Σm=1MΣn=1NxnmInmΣm=1MΣn=1NInm,yi=Σm=1MΣn=1NynmInmΣm=1MΣn=1NInm]]>①式中，m＝1～M，n＝1～N為子孔徑映射到光電探測器43光敏靶面44上對應的像素區(qū)域，Inm是光電探測器43光敏靶面44上第(n，m)個像素接收到的信號，xnm，ynm分別為第(n，m)個像素的x坐標和y坐標。
再根據(jù)公式②計算入射波前的波前斜率gxi，gyigxi=Δxλf=xi-xoλf,gyi=Δyλf=yi-yoλf]]>②式中，(x0，y0)為標準平面波標定哈特曼傳感器獲得的光斑中心基準位置；哈特曼傳感器探測波前畸變時，光斑中心偏移到(xi，yi)，完成哈特曼波前傳感器對信號的檢測。
如圖4所示，微棱鏡陣列可以有單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構各個光柵的周期和刻線方向形成環(huán)形布局，即在基片上單面光刻，以中心點o為基點，呈中心對稱圓周狀向外擴展，陣列中各個子孔徑x、y方向空間周期Tx和Ty同時由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變。
圖5為圖4所示結構的立體示意圖。
如圖6、圖7和圖8所示，微棱鏡陣列還可以有兩面光刻的雙面光柵結構分兩面分別確定陣列中各個光柵的X和Y方向的光柵周期，在基片一面刻線產生X方向周期，另一面則刻線產生Y方向周期，雙面刻線共同形成光柵陣列的不同周期，即在基片一面以x坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿x方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變；在基片另一面以y坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿y方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3...1/n級數(shù)倍率遞變。
當波前傳感器與波前處理機、波前校正器等一起構成自適應光學實時校正系統(tǒng)的時，需要通過波前處理機的運算，從波前傳感器的子孔徑斜率快速、準確的計算出波前校正器需要的控制電壓。目前波前處理計算的算法有很多種，例如區(qū)域法、澤尼克模式法、直接斜率法等。目前的波前校正器也有很多種，例如變形反射鏡、液晶波前校正器、微機械變形鏡、雙壓電陶瓷變形鏡等。我們以直接斜率法和變形反射鏡為例說明系統(tǒng)的運行方式。
變形反射鏡在工作時可以實時可控的改變鏡面的面型，用以校正波前誤差。面型的變化是通過驅動器的推動來實現(xiàn)的。驅動器一般是由壓電陶瓷堆組成，可以通過改變壓電陶瓷對兩端的電壓的大小來控制驅動器的變形量。波前處理機的作用就是從波前傳感器的子孔徑斜率快速、準確的計算出波前校正器需要的控制電壓，從而控制波前校正器動態(tài)的校正波像差。
以直接斜率法為例，設輸入信號vj是加在變形鏡第j個驅動器上的控制電壓，由此產生的哈特曼傳感器子孔徑的平均波前斜率量為Gx(i)=Σj=1tvj∫si∫∂Rj(x,y)∂xdxdysi=Σj=1tvjRxj(i)]]>Gy(i)=Σj=1tvj∫si∫∂Rj(x,y)∂ydxdysi=Σj=1tvjRyj(i)---i=1,2,3,······m]]>其中Rj(x，y)為變形鏡第j個驅動器的影響函數(shù)，t為驅動器個數(shù)，m為子孔徑個數(shù)，si為子孔徑i的歸一化面積?？刂齐妷涸诤线m的范圍內時，變形鏡的相位校正量與驅動器電壓近似線形，并滿足迭加原理，子孔徑斜率量也與驅動電壓成線性關系，且滿足迭加原理。所以上式可以寫成矩陣表示為G＝RxyV其中Rxy為變形鏡到哈特曼傳感器的斜率響應矩陣，可以通過理論計算求得，但實驗測到的斜率響應矩陣更能正確反映系統(tǒng)的真實情況。
設G是需要校正的波前像差斜率測量值，用廣義逆可使得斜率余量最小且控制能量也最小的控制電壓就可以表示為V=Rxy+G]]>這個電壓信號是不能直接加到變形鏡的各個驅動器上，還必須要通過控制算法計算出實際要添加到變形鏡上的電壓信號，這里以積分-比例-微分(PID)控制算法為例。PID發(fā)的傳遞函數(shù)為C(S)＝kc/S其中Kc表示系數(shù)常量，S為拉普拉斯算子。在實際的運用中所用的控制硬件一般都是數(shù)字處理機，所以我們需要通過Z變化將傳遞函數(shù)離散化為適合在數(shù)字處理機上實現(xiàn)的形式C(Z)C(Z)＝P/(1-Z-1)其中P是系數(shù)常量，該傳遞函數(shù)變化到時間域上就可以表示如下V(t)-V(t-1)＝P×e(t)V(t)為當前時刻需要加到變形鏡上的電壓，V(t-1)為上一時刻已經(jīng)加到變形鏡上電壓，e(t)為補償后的殘余波前電壓控制信號，這樣就可以計算出當前需要加到變形鏡上的驅動電壓。
最后波前處理機通過控制高壓放大器把上面計算出的電壓值加到變形鏡對應的各個驅動器上，這樣就形成了波前傳感器、波前處理機、波前校正器之間的閉環(huán)控制過程。
權利要求
1.基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于包括反射鏡(2、3、11、12、18)，準直透鏡(4)，信標光源(5)，透鏡(6)和(7)組成擴束系統(tǒng)，波前校正器(8)，透鏡(9、10)組成縮束系統(tǒng)，微棱鏡陣列(13)、緊貼其的傅立葉透鏡(14)以及位于傅立葉透鏡焦面上光電探測器(15)組成微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器，波前處理機(16)，高壓放大器(17)，聚焦透鏡(19)，光電探測器(20)，由信標光源(5)發(fā)出的光被透鏡(4)準直，經(jīng)過反射鏡(2、3)反射后照射到目標物體(1)，被目標物體1反射信標光5經(jīng)過由透鏡6和7組成的擴束系統(tǒng)后被波前校正器(8)反射，然后經(jīng)過透鏡(9、10)組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡(12)反射進入微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器進行質心偏移量探測；波前處理機(16)根據(jù)微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器輸出的質心偏移量計算出系統(tǒng)的波像差以及校正此波像差所需要的波前校正器的控制信號，該控制信號經(jīng)過高壓放大器(17)放大后加到波前校正器(8)上，波前校正器(8)根據(jù)波前處理機(16)得到的控制信號對入射波前進行相位調制，使得入射的帶有波像差的光波，變成理想的沒有像差的平面波，該理想平面波經(jīng)過透鏡(9、10)組成的縮束系統(tǒng)，被反射鏡(11、18)反射，再經(jīng)過聚焦透鏡(19)成像到光電探測器(20)上。
2.根據(jù)權利要求1所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的微棱鏡陣列(13)為變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列，變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列為等鋸齒深度的變周期二維鋸齒形相位光柵陣列，即陣列中每個光柵均為同一鋸齒深度，只是x、y方向空間周期各不相同。
3.根據(jù)權利要求2所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列有單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構和兩面光刻的雙面光柵結構。
4.根據(jù)權利要求3所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的單面光刻中心對稱的環(huán)形布局結構為在基片上單面光刻，以中心為基點，呈中心對稱圓周狀向外擴展，陣列中各個子孔徑x、y方向空間周期Tx和Ty同時由中心向外呈1，1/2，1/3…1/n級數(shù)倍率遞變。
5.根據(jù)權利要求3所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的兩面光刻的雙面光柵結構為在基片一面以x坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿x方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3…1/n級數(shù)倍率遞變；在基片另一面以y坐標軸為基準，刻蝕產生平行排列、光柵周期沿y方向的鋸齒形相位光柵，其光柵周期由中心向外呈1，1/2，1/3…1/n級數(shù)倍率遞變。
6.根據(jù)權利要求1所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的波前校正器(8)為分塊鏡面變形反射鏡、或連續(xù)鏡面變形反射鏡、或曲率變形鏡、或液晶波前校正器、或微機械薄膜變形鏡、或表面微機械變形鏡、或雙壓電陶瓷變形鏡波前調制器件。
7.根據(jù)權利要求2和1所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的光電探測器件(15)或光電探測器件(20)為CCD、或COMS、或PSD、或PDA探測器。
8.根據(jù)權利要求1所述的基于微棱鏡夏克-哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，其特征在于所述的自適應光學系統(tǒng)的信標光源(5)采用目標物體發(fā)出的光束，或LED、或SLD光源。
全文摘要
基于微棱鏡夏克－哈特曼波前傳感器的自適應光學系統(tǒng)，主要微棱鏡夏克－哈特曼波前傳感器、波前處理機、波前校正器組成，其特征在于所述的微棱鏡夏克－哈特曼波前傳感器由變周期二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列、與其緊貼著的傅立葉透鏡及光電探測器組成，其中二維鋸齒形相位光柵結構的微棱鏡陣列可有兩種結構，分別是單面光刻中心對稱的環(huán)形結構和兩面光刻的雙面光柵結構，既可采用微光學技術，也可采用二元光學技術加工。本發(fā)明相對于現(xiàn)有的自適應光學系統(tǒng)，能降低了系統(tǒng)成本，而且簡化了波前傳感器的安裝、調節(jié)、易實現(xiàn)批量化生產。
文檔編號G01M11/02GK1831499SQ20061001162
公開日2006年9月13日 申請日期2006年4月10日 優(yōu)先權日2006年4月10日
發(fā)明者史國華, 王海英, 張雨東, 戴云 申請人:中國科學院光電技術研究所