專(zhuān)利名稱(chēng)：一種雙漫反射器的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光譜儀器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種應(yīng)用于空間光譜儀器光路移入機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)。
技術(shù)背景漫反射器是光譜儀器輻射定標(biāo)中重要的光學(xué)元件，在眾多光譜儀器中，只采用一塊漫反射器機(jī)構(gòu)，主要包括漫反射器、減速齒輪組、步進(jìn)電機(jī)等。通過(guò)步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)減速齒輪組，經(jīng)減速齒輪組改變漫反射器的轉(zhuǎn)角。由于漫反射器的反射率受環(huán)境影響較大，因此不但要保持其表面潔凈，而且還要對(duì)漫反射器的反射率變化進(jìn)行監(jiān)測(cè)，從而保證光譜儀器的整機(jī)性能指標(biāo)。
對(duì)應(yīng)用于地面的光譜儀器，漫反射器反射率的變化可以采用更換漫反射器來(lái)監(jiān)測(cè)，這樣可以監(jiān)測(cè)到由于漫反射器表面潔凈度和受真空環(huán)境影響所帶來(lái)的反射率變化。但是對(duì)應(yīng)用于空間光譜儀器的漫反射器，受實(shí)際環(huán)境約束不能更換，因此對(duì)漫反射器的反射率變化無(wú)法監(jiān)測(cè)，從而影響整機(jī)性能指標(biāo)。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決背景技術(shù)應(yīng)用于空間光譜儀器中漫反射器反射率變化容易受表面潔凈度和真空環(huán)境影響，使漫反射器的反射率變化無(wú)法監(jiān)測(cè)的問(wèn)題，本實(shí)用新型目的是提供一種對(duì)空間漫反射器反射率變化能進(jìn)行監(jiān)測(cè)的雙漫反射器結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型利用在光譜儀器的光路移入機(jī)構(gòu)安裝兩塊漫反射器。兩塊漫反射器重疊安裝但不互相接觸，一塊偶爾使用，一塊經(jīng)常使用，這樣可以用兩塊漫反射器對(duì)比用來(lái)監(jiān)測(cè)空間漫反射器反射率的變化。本實(shí)用新型機(jī)構(gòu)包括下漫反射器、上漫反射器、軸、限位座、圓錐銷(xiāo)、小齒輪、限位螺釘、大齒輪、電機(jī)和控制系統(tǒng)。
上漫反射器的一端置于下漫反射器的凹槽里，并由軸將下漫反射器和上漫反射器連接在一起，限位座與軸和下漫反射器固定連接，圓錐銷(xiāo)與軸和小齒輪固定連接，限位螺釘置于小齒輪上，限位螺釘?shù)亩瞬颗c限位座的U形槽接觸，大齒輪與小齒輪嚙合，電機(jī)與大齒輪固定連接，控制系統(tǒng)與電機(jī)連接。
本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)由電機(jī)通過(guò)小齒輪和大齒輪帶動(dòng)軸，從而帶動(dòng)上漫反射器轉(zhuǎn)動(dòng)至設(shè)計(jì)位置，而當(dāng)使用下漫反射器時(shí)，通過(guò)限位螺釘連接小齒輪，限位螺釘旋入限位座的U形槽內(nèi)，限位槽與下漫反射器相連接，由此使得下漫反射器的轉(zhuǎn)動(dòng)受到限位座上U形槽的約束，當(dāng)上漫反射器運(yùn)動(dòng)到指定位置的時(shí)候，電機(jī)繼續(xù)驅(qū)動(dòng)，這樣當(dāng)小齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)到限位螺釘處時(shí)，限位螺釘就帶動(dòng)下漫反射器轉(zhuǎn)動(dòng)，而上漫反射器也繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，直到下漫反射器轉(zhuǎn)動(dòng)到指定位置，由控制系統(tǒng)使兩塊漫反射器一塊偶爾使用，一塊經(jīng)常使用，這樣就實(shí)現(xiàn)了雙漫反射器的轉(zhuǎn)動(dòng)功能。
本實(shí)用新型的特點(diǎn)采用雙漫反射器以適應(yīng)空間環(huán)境下漫反射器反射率受表面潔凈度和真空環(huán)境的影響因素，可以對(duì)漫反射器的反射率變化進(jìn)行監(jiān)測(cè)。通過(guò)兩塊漫反射器的重疊式設(shè)計(jì)，使得上漫反射器的漫反射表面被漫反射器的背面保護(hù)起來(lái)，同時(shí)通過(guò)限位座上的U形槽和限位螺釘帶動(dòng)下漫反射器轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)入工作狀態(tài)移入光路，而使上漫反射器移出光路，兩塊漫反射器一塊偶爾使用，一塊經(jīng)常使用，進(jìn)而可以對(duì)比兩塊漫反射器的反射率變化，在數(shù)據(jù)傳送到地面后對(duì)漫反射器的反射率進(jìn)行修正，從而提高空間光譜儀器的性能指標(biāo)。本實(shí)用新型可以用于航天航空技術(shù)領(lǐng)域及一些特殊環(huán)境條件。


圖1是本實(shí)用新型限位座的結(jié)構(gòu)示意圖圖2是本實(shí)用新型的主剖視圖圖3是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)外觀(guān)示意圖具體實(shí)施方式
如圖1、圖2和圖3所示本實(shí)用新型機(jī)構(gòu)主要包括下漫反射器1、上漫反射器2、軸3、限位座4、圓錐銷(xiāo)5、小齒輪6、限位螺釘7、大齒輪8、電機(jī)9和控制系統(tǒng)10組成。
在下漫反射器1本體的一端上制備有凹槽，在凹槽的兩端制備有兩個(gè)通孔；上漫反射器2的一端制作一個(gè)通孔；軸3、限位座4和圓錐銷(xiāo)5由超硬鋁做成，在限位座4上的U形槽11可采用4mm寬或根據(jù)需要選擇尺寸；小齒輪6和大齒輪8采用銅制成；限位螺釘7采用不銹鋼材料制成；限位螺釘7連接小齒輪6后，旋入限位座4的限位槽，電機(jī)9采用步進(jìn)電機(jī)?？刂葡到y(tǒng)10采用單片機(jī)及控制電路組成。
利用上漫反射器2將太陽(yáng)和大氣散射光移入光路，由控制系統(tǒng)10控制下漫反射器1轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)入工作狀態(tài)移入光路，而使上漫反射器2移出光路，或?qū)⑸下瓷淦饕迫牍饴愤M(jìn)入工作狀態(tài)，使下漫反射器1移出光路，得到下漫反射器1和上漫反射器2反射率變化的數(shù)據(jù)。
上漫反射器2轉(zhuǎn)動(dòng)的角度范圍為0°-270°，下漫反射器1轉(zhuǎn)動(dòng)的角度范圍為0°-135°。當(dāng)上漫反射器2轉(zhuǎn)動(dòng)位置為0°時(shí)，下漫反射器1轉(zhuǎn)動(dòng)是0°，兩塊漫反射器重合在一起，并且都不在工作狀態(tài)；當(dāng)上漫反射器2經(jīng)控制系統(tǒng)10控制在0°-135°內(nèi)任意轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，下漫反射器1轉(zhuǎn)動(dòng)是0°，這時(shí)根據(jù)光路設(shè)計(jì)可以控制上漫反射器2停留在設(shè)計(jì)的位置進(jìn)行工作；當(dāng)上漫反射器2在135°-270°范圍內(nèi)任意轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，下漫反射器1則在0°-135°范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，這時(shí)上漫反射器2不再進(jìn)入工作狀態(tài)，而下漫反射器1則根據(jù)光學(xué)設(shè)計(jì)可以停留在設(shè)計(jì)的位置進(jìn)行工作。上漫反射器2轉(zhuǎn)動(dòng)的角度和下漫反射器1轉(zhuǎn)動(dòng)的角度可以根據(jù)工作狀態(tài)需要進(jìn)行設(shè)計(jì)。
權(quán)利要求1.一種雙漫反射器的結(jié)構(gòu)，包括上漫反射器(2)，其特征在于還包括有下漫反射器(1)、上漫反射器(2)、軸(3)、限位座(4)、圓錐銷(xiāo)(5)、小齒輪(6)、限位螺釘(7)、大齒輪(8)、電機(jī)(9)和控制系統(tǒng)(10)，上漫反射器(2)的一端置于下漫反射器(1)的凹槽里，并由軸(3)將下漫反射器(1)和上漫反射器(2)連接在一起，限位座(4)與軸(3)和下漫反射器(1)固定連接，圓錐銷(xiāo)(5)與軸(3)和小齒輪(6)固定連接，限位螺釘(7)置于小齒輪(6)上，限位螺釘(7)的端部與限位座(4)接觸，大齒輪(8)與小齒輪(6)嚙合，電機(jī)(9)與大齒輪(8)固定連接，控制系統(tǒng)(10)與電機(jī)(9)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種雙漫反射器的結(jié)構(gòu)，其特征在于在限位座(4)上制備有U形槽(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種雙漫反射器的結(jié)構(gòu)，其特征在于上漫反射器(2)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度范圍為0°-270°，下漫反射器(1)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度范圍為0°-135°。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于空間光譜儀器光路移入機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)。主要包括下漫反射器1、上漫反射器2、軸3、限位座4、圓錐銷(xiāo)5、小齒輪6、限位螺釘7、大齒輪8、電機(jī)9和控制系統(tǒng)10組成。采用雙漫反射器以適應(yīng)空間環(huán)境下漫反射器反射率受表面潔凈度和真空環(huán)境的影響因素，可以對(duì)漫反射器的反射率變化進(jìn)行監(jiān)測(cè)。通過(guò)兩塊漫反射器的重疊式設(shè)計(jì)，使得上漫反射器的漫反射表面被漫反射器的背面保護(hù)起來(lái)，同時(shí)通過(guò)限位座上的U形槽11控制兩塊漫反射器分別轉(zhuǎn)動(dòng)，分別進(jìn)入工作狀態(tài)，進(jìn)而可以對(duì)比兩塊漫反射器的反射率變化，從而提高空間光譜儀器的性能指標(biāo)。本實(shí)用新型可以用于航天航空技術(shù)領(lǐng)域及一些特殊環(huán)境條件。
文檔編號(hào)G01M11/02GK2816767SQ20052002810
公開(kāi)日2006年9月13日 申請(qǐng)日期2005年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月5日
發(fā)明者宋克非, 林雪松, 王立朋, 李志剛, 李福田 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所