專利名稱：射線源的帶翼屏蔽體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于核技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域，特別涉及射線源的屏蔽體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。
背景技術(shù)：
集裝箱射線檢查系統(tǒng)是借助高能X、γ射線的強(qiáng)大穿透能力，不需開箱即可看到集裝箱內(nèi)貨物的快速檢查設(shè)備。射線經(jīng)射線源裝置狹出束口的約束，一部分形成系統(tǒng)要求的有用窄束照射源，剩余部分與出束口碰撞形成雜散輻射。這部分雜散輻射對系統(tǒng)的成像沒有貢獻(xiàn)，卻增加了輻射防護(hù)區(qū)內(nèi)的環(huán)境劑量。
背景技術(shù)本實(shí)用新型的目的是為克服已有技術(shù)的不足之處，提出一種射線源的帶翼屏蔽體，使其減少出束口處雜散輻射對輻射防護(hù)區(qū)的影響，同時(shí)可提高射束的準(zhǔn)直功能。
本實(shí)用新型提出的一種射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，包括設(shè)置在射線源狹出束口處兩側(cè)的兩個(gè)對稱屏蔽壁，該兩個(gè)對稱屏蔽壁之間構(gòu)成射線束通道。
該帶翼屏蔽體可由兩塊對稱設(shè)置的L形板體構(gòu)成，其中兩豎屏蔽板之間構(gòu)成射線束通道。該通道的寬度由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸范圍為3mm～100mm；兩豎屏蔽板厚度、高度、橫屏蔽板上、下面長度、厚度根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸范圍為10mm～1000mm；所說的兩橫屏蔽板的下面靠內(nèi)側(cè)部分可為傾斜面。
該帶翼屏蔽體還可由兩塊對稱倒置的L形板體構(gòu)成，其中兩橫屏蔽板端面之間構(gòu)成射線束通道。該通道的寬度L1由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸范圍為3mm～100mm；橫屏蔽板上、下面長度、兩豎屏蔽板內(nèi)、外面長度、橫屏蔽板和豎屏蔽板的厚度根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸范圍為10mm～1000mm；該兩橫屏蔽板的上面可形成臺階狀。
本實(shí)用新型的帶翼屏蔽體的功能如圖1所示，來自射線源1的射線3通過加速器口屏蔽體2的出束口5后一部分形成有用窄束射束，剩余部分與出束口碰撞形成雜散輻射。帶翼屏蔽體4將出束口處的雜散輻射屏蔽，減少雜散輻射對前方和左右兩側(cè)輻射防護(hù)區(qū)的影響。
本實(shí)用新型可使射束通過加速器出束口時(shí)，出束口引起的雜散輻射大部分由兩個(gè)對稱屏蔽壁吸收，有用窄束射束射從線束通道通過，不但減少了輻射防護(hù)區(qū)域的環(huán)境劑量，同時(shí)，還兼有準(zhǔn)直功能。


圖1為本實(shí)用新型的功能示意圖。
圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例一具體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實(shí)用新型的實(shí)施例二具體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本實(shí)用新型的實(shí)施例三具體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為本實(shí)用新型的實(shí)施例四具體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型設(shè)計(jì)出四種射線源的帶翼屏蔽體實(shí)施例結(jié)構(gòu)如圖2-5所示，結(jié)合各圖分別詳細(xì)說明如下實(shí)施例一，其結(jié)構(gòu)及參數(shù)如圖2所示，該帶翼屏蔽體由兩塊對稱設(shè)置的L形板體構(gòu)成，其中兩豎屏蔽板11之間構(gòu)成射線束通道10。其主要參數(shù)為該通道10的寬度L1由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸為10mm；兩豎屏蔽板11厚度L2、高度L3、橫屏蔽板12上、下面長度L4、L6、厚度L5根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸分別為L2＝40mm、L3＝300mm、L4＝210mm、L5＝50mm、L6＝250mm；屏蔽體高度(圖中未示出，是指側(cè)視圖中L形板體的寬度)應(yīng)滿足可以遮住射線束，尺寸為500mm。
實(shí)施例二，其結(jié)構(gòu)及參數(shù)如圖3所示，該帶翼屏蔽體結(jié)構(gòu)與實(shí)施例一基本相同，由兩塊對稱設(shè)置的L形板體構(gòu)成，其中兩豎屏蔽板21之間構(gòu)成射線束通道20，其不同之處是兩橫屏蔽板22的下面靠內(nèi)側(cè)部分為傾斜面221。其主要參數(shù)為該通道20的寬度L1由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸為30mm；兩豎屏蔽板21厚度L2、高度L3、橫屏蔽板22上、下面長度L4、L6、L7厚度L5根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸分別為L2＝80mm、L3＝600mm、L4＝450mm、L5＝100mm、L6＝320mm、L7＝300mm；屏蔽體高度(圖中未示出，是指側(cè)視圖中L形板體的寬度)應(yīng)滿足可以遮住射線束，尺寸范圍為750mm。
實(shí)施例三，其結(jié)構(gòu)及參數(shù)如圖4所示，該帶翼屏蔽體由兩塊對稱倒置的L形板體構(gòu)成，其中兩橫屏蔽板31端面之間構(gòu)成射線束通道30，其不同之處是兩橫屏蔽板31的上面形成臺階狀，其主要參數(shù)為該通道30的寬度L1由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸為50mm；橫屏蔽板31上、下面長度L2、L3、L7、兩豎屏蔽板32內(nèi)、外面長度L4、L6、橫屏蔽板31和兩豎屏蔽板32的厚度L5根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸分別為L2＝80mm、L3＝150mm、L4＝600mm、L5＝90mm、L6＝450mm、L7＝140mm；屏蔽體高度(圖中未示出，是指側(cè)視圖中倒置的L形板體的寬度)應(yīng)滿足可以遮住射線束，尺寸為1600mm。
實(shí)施例四，其結(jié)構(gòu)及參數(shù)如圖5所示，該帶翼屏蔽體由兩塊對稱倒置的L形板體構(gòu)成，其中兩橫屏蔽板41端面之間構(gòu)成射線束通道40。其主要參數(shù)為該通道40的寬度L1由成像分系統(tǒng)要求決定，尺寸為25mm；橫屏蔽板41上、下面長度L2、L6、兩豎屏蔽板42內(nèi)、外面長度L5、L3、橫屏蔽板41和兩豎屏蔽板42的厚度L4、L7根據(jù)系統(tǒng)場地屏蔽區(qū)域大小來確定，尺寸分別為L2＝450mm、L3＝650mm、L4＝100mm、L5＝530mm、L6＝350mm、L7＝120mm；屏蔽體高度(圖中未示出，是指側(cè)視圖中倒置的L形板體的寬度)應(yīng)滿足可以遮住射線束，尺寸范圍為300mm。
本實(shí)施例應(yīng)用于集裝箱檢查系統(tǒng)中，出束口附加帶翼屏蔽體后，防護(hù)區(qū)內(nèi)劑量率有較大幅度的降低，比例從10％～10000％不等。
權(quán)利要求1.一種射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，包括設(shè)置在射線源狹出束口處兩側(cè)的兩個(gè)對稱屏蔽壁，該兩個(gè)對稱屏蔽壁之間構(gòu)成射線束通道。
2.如權(quán)利要求1所述的射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，該帶翼屏蔽體由兩塊對稱設(shè)置的L形板體構(gòu)成，其中兩豎屏蔽板之間構(gòu)成射線束通道；該通道的寬度的尺寸范圍為3mm～100mm；兩豎屏蔽板厚度、高度、橫屏蔽板上、下面長度、厚度的尺寸范圍為10mm～1000mm；屏蔽體高度的尺寸范圍為10mm～5000mm。
3.如權(quán)利要求2所述的射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，所說的兩橫屏蔽板的下面靠內(nèi)側(cè)部分為傾斜面。
4.如權(quán)利要求1所述的射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，該帶翼屏蔽體由兩塊對稱倒置的L形板體構(gòu)成，其中兩橫屏蔽板端面之間構(gòu)成射線束通道；該通道的寬度的尺寸范圍為3mm～100mm；該橫屏蔽板上、下面長度、兩豎屏蔽板內(nèi)、外面長度、橫屏蔽板和豎屏蔽板的厚度的尺寸范圍為10mm～1000mm；屏蔽體高度的尺寸范圍為10mm～5000mm。
5.如權(quán)利要求4所述的射線源的帶翼屏蔽體，其特征在于，該兩橫屏蔽板的上面可形成臺階狀。
專利摘要本實(shí)用新型屬于核技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域,包括設(shè)置在射線源狹出束口處兩側(cè)的兩個(gè)對稱屏蔽壁,該兩個(gè)對稱屏蔽壁之間構(gòu)成射線束通道。本實(shí)用新型可使射束通過加速器出束口時(shí),出束口引起的雜散輻射大部分由兩個(gè)對稱屏蔽壁吸收,有用窄束射束射從線束通道通過,不但減少了輻射防護(hù)區(qū)域的環(huán)境劑量,同時(shí),還兼有準(zhǔn)直功能。
文檔編號G01N23/02GK2489331SQ0123312
公開日2002年5月1日 申請日期2001年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月10日
發(fā)明者康克軍, 高文煥, 劉以農(nóng), 李君利, 鄧艷麗, 王兵, 明申金, 方靜 申請人:清華大學(xué), 清華同方核技術(shù)股份有限公司