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具有內(nèi)部流體通道的離合器片的制作方法

文檔序號(hào):5641680閱讀:239來源:國(guó)知局
專利名稱:具有內(nèi)部流體通道的離合器片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種具有離合器片的離合器組件,該離合器片具有多個(gè) 內(nèi)部流體通道,其構(gòu)造用于直接引導(dǎo)加壓流體到摩擦接觸面上,以冷卻 該々妄觸面并且減少自^t損失。
背景技術(shù)
在汽車傳動(dòng)系中,離合器組件通常用于在兩個(gè)旋轉(zhuǎn)部件之間,例如 發(fā)動(dòng)機(jī)曲軸和變速器驅(qū)動(dòng)軸之間,傳送旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)或者扭矩。標(biāo)準(zhǔn)摩擦型 離合器組件,或者摩擦離合器,包含一系列的交替的摩擦和反作用片, 它們一起構(gòu)成了離合器疊片,其中該離合器疊片設(shè)置在離合器外鼓之 內(nèi)。該摩擦片通常具有一層粗糙的摩擦材料,其粘接或者以別的方式固 定到金屬芯片的主接觸面上,同時(shí)反作用片通常具有相對(duì)光滑的接觸表 面,其構(gòu)造為當(dāng)摩擦離合器接合時(shí)與摩擦片相對(duì)。通過利用由變速器泵 供給的可控液壓作用力,該摩擦離合器被接合或者應(yīng)用。該作用力致動(dòng) 作用機(jī)構(gòu),例如離合器作用活塞,以可選擇地壓縮離合器疊片的摩擦和 反作用片。 一旦被壓縮,由于作用力和摩擦材料施加的摩擦力,交替的 片變得互鎖,從而允許旋轉(zhuǎn)部件一體地旋轉(zhuǎn)。摩擦離合器可以是干片或者濕片類型,其中由于加壓潤(rùn)滑流體的冷 卻性能,濕片摩擦離合器提供增強(qiáng)的熱性能。特別地,借助于傳送或者 引導(dǎo)諸如變速器流體或者油的加壓流體通過并且圍繞匹配的離合器表 面,以在表面之間的摩擦接觸面附近耗散摩擦力所產(chǎn)生的熱量,可實(shí)現(xiàn) 增強(qiáng)的熱性能。借助于沿著摩擦片的接觸表面的 一 系列的淺徑向通道 或者凹槽,通常可提供摩擦離合器片的潤(rùn)滑表面冷卻,其中凹槽被壓入 或者形成在單獨(dú)粘接的摩擦材料層上,或者由摩擦材料的離散塊之間的 間隙所限定。然而,因?yàn)檫@些塊和/或表面凹槽減少了匹配離合器表面之 間的總接觸面積,表面溫度可沿著剩余接觸表面增大,導(dǎo)致低于最佳總 片冷卻。而且,因?yàn)槟Σ亮υ谶@些片之間產(chǎn)生阻力,可能發(fā)生自旋損失 同時(shí)離合器組件分離。發(fā)明內(nèi)容因此,提供一種可接合的離合器組件,其具有適合于與加壓流體一
起使用的摩擦接觸面,該組件包括至少一個(gè)離合器片,其具有至少一個(gè) 內(nèi)部流體通道和至少部分限定摩擦接觸面的至少 一個(gè)反作用面,其中至 少一個(gè)流體通道被構(gòu)造為直接引導(dǎo)加壓流體到摩擦接觸面上,以當(dāng)離合 器組件接合時(shí)用于摩擦接觸面的冷卻,并且當(dāng)離合器組件分離時(shí)用于減 少通過離合器組件的自旋損失。在本發(fā)明的一個(gè)方面中,存在多個(gè)內(nèi)部流體通道,其中至少一個(gè)流 體通道在一端被堵塞,以如所需的防止流體在一個(gè)方向上的流動(dòng)。在本發(fā)明的另一個(gè)方面,該流體通道包括至少一個(gè)主要或者主流體 通道和至少一個(gè)輔助流體通道,其在垂直方向上與至少一個(gè)主要或者主 流體通道交叉。在本發(fā)明的另一個(gè)方面,離合器片的厚度和主流體通道與輔助流體通道中至少一個(gè)的直徑通過大約2:1的比率成比例地相關(guān)。在本發(fā)明的另 一個(gè)方面,離合器片是在一側(cè)具有摩擦材料的整體的 摩擦/反作用片。在本發(fā)明的另 一個(gè)方面,提供一種在離合器片組件的摩擦接觸面處 控制流體流動(dòng)的方法。該方法包括當(dāng)離合器片組件接合時(shí)直接提供流體 到摩擦接觸面上以冷卻該接觸面,和當(dāng)離合器片組件分離時(shí)提供流體到 摩擦接觸面上,從而減少通過離合器片組件的自旋損失。本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)以及其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在結(jié)合附圖時(shí)對(duì) 實(shí)施本發(fā)明的最佳方式的下面的詳細(xì)描述中容易變得明顯。


圖1是根據(jù)本發(fā)明摩擦離合器組件的分解圖,該摩擦離合器組件具有帶有摩擦接觸面的雙反作用片和摩擦片;圖2A是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,在相鄰的摩擦片之間的反作用片的一部分的不完全的側(cè)視圖,其中每個(gè)摩擦片與反作用片形成摩擦接觸面; 圖2B是根據(jù)本發(fā)明的反作用片 一部分的不完全的俯視圖; 圖3A是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例,具有盲孔的反作用片的不完全透視圖;圖3B是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例,具有交替定向的盲孔的反作用片 一部分的不完全透視圖;圖3C是根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例,具有可選擇堵塞的內(nèi)部孔的反作 用片 一部分的不完全透視圖; 圖4A是根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例,具有整體的摩擦/反作用片的摩 擦離合器組件的分解圖;和圖4B是根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例,在其間形成摩擦接觸面的一對(duì)整 體的摩擦/反作用片的一部分的不完全側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
參見附圖,其中在全部這些附圖中,相同的附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)于相同或 者類似的部件,在圖1中示出的是離合器片組件10的分解圖,該離合器 片組件10具有摩擦片14和反作用片18,以及在其間的摩擦接觸面65。為 簡(jiǎn)單起見,僅僅示出一個(gè)摩擦片14,然而本領(lǐng)域技術(shù)人員認(rèn)識(shí)到離合器 片組件10可包括任意數(shù)量交替布置的摩擦片14和反作用片18,這取決于 具體的離合器應(yīng)用情況。摩擦片14具有芯片36,其具有分別第一和第二 主表面28, 29,該芯片36優(yōu)選由適當(dāng)?shù)燃?jí)的不銹鋼構(gòu)成并且具有多個(gè)在 內(nèi)部延伸的花鍵24,它們構(gòu)造以與鄰接離合器轂(未示出)的交替的凹 槽相匹配或者互鎖。優(yōu)選地,第一和第二主表面28, 29分別每個(gè)具有一層摩擦材料20A, 20B,其粘接或者以別的方式固定到芯片36的表面28, 29上,不過諸如 20A, 20B的摩擦材料也可直接地粘接到整體的摩擦/反作用片(未示出) 上。摩擦材料20A, 20B優(yōu)選是圓形的并且設(shè)計(jì)尺寸以覆蓋摩擦材料粘 接到的芯片36的主表面28, 29上,并且還包括多個(gè)表面流體通道16,它 們將摩擦材料層20A, 20B分為大體上相等的塊或者部分,以依據(jù)離合器 組件10的結(jié)構(gòu),用于在芯片36的外直徑38和內(nèi)直徑13之間,或者在內(nèi)直 徑13和外直徑38之間引導(dǎo)加壓流體15。雖然如圖1所示的摩擦材料20A, 20B具有如所示的流體通道16,在本發(fā)明的范圍內(nèi)還可采用摩擦材料的 其它的類型或者結(jié)構(gòu),包含例如平滑的或者無槽的材料,或者通過摩擦 材料20A, 20B的厚度部分?jǐn)D壓的 一 系列的表面通道或者凹槽。當(dāng)液壓力的可控源(優(yōu)選容積式傳動(dòng)泵ll)致動(dòng)或者接合諸如離合器應(yīng)用活塞(未示出)的應(yīng)用機(jī)構(gòu),以有選擇地壓縮構(gòu)成離合器組件io的交替的摩擦片14和反作用片18時(shí),摩擦片14被構(gòu)造為壓在匹配的反作 用片18上并且與其的速度同步。當(dāng)由于由摩擦材料層20B施加的摩擦 力,片14, 18變得互鎖時(shí),離合器片組件由此接合,并且匹配片14, 18 允許一體地旋轉(zhuǎn)。反作用片18優(yōu)選是適當(dāng)?shù)燃?jí)不銹鋼的圓形金屬環(huán),其分別具有外直
徑和內(nèi)直徑22, 12,并且包括多個(gè)向外延伸的花鍵32,其被構(gòu)造為與設(shè) 置在匹配的離合器鼓(未示出)的內(nèi)表面上的多個(gè)凹槽匹配或者互鎖。 反作用片18具有第一主表面37和反向的或者第二主表面39 (見圖2A), 其中主表面37, 39至少與摩擦材料20A, 20B的寬度一樣寬,以允許在 諸如片14和18的匹配片之間的最大摩擦接觸面積。該反作用片18還分別 地具有外部的和內(nèi)部的橫向表面或者側(cè)表面48, 58,每個(gè)具有足夠?qū)挾?/高度以提供給反作用片18充分的彎曲和表面強(qiáng)度,而不對(duì)給定的離合器 應(yīng)用增加過多的重量,并且具有足夠的厚度來容納其中流體通道的鉆 孔,這將在下文中描述。反作用片18還設(shè)置有多個(gè)主流體通道42,它們從外部側(cè)表面48到內(nèi) 部側(cè)表面58徑向向內(nèi)地延伸通過反作用片18,優(yōu)選相對(duì)于圖l所示的側(cè) 表面48, 58垂直并且大體上平行于主表面37, 39。每個(gè)主流體通道42與 加壓流體15的源11流體連通,取決于應(yīng)用情況,該加壓流體的源ll被構(gòu) 造以傳送流體15通過主流體通道42的外部孔或者內(nèi)部孔34, 50中的一 者。與主流體通道42—樣,孔34, 50在形狀上優(yōu)選是圓形的或者圓柱形, 以便于最小化流體摩擦的效果并且優(yōu)選設(shè)置在側(cè)表面48, 58上中間向上 并且為反作用片18的主表面37, 39之間的大約一半的長(zhǎng)度上,并且大約 在每個(gè)外部花鍵32的中間,以便于最小化在主流體通道42的形成或者鉆 孔期間必須從反作用片18處移走的材料量。然而,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng) 認(rèn)識(shí)到外部孔34的位置可以沿著或者圍繞外部側(cè)表面48以可選擇位置 的進(jìn)行設(shè)置。例如,每個(gè)外部孔34可設(shè)置在外部花鍵32的相應(yīng)的花鍵表 面33上,從而增加潛在的流體/金屬接觸面積,以用于增強(qiáng)流體冷卻效 果。轉(zhuǎn)向圖2A,其是離合器片組件10—部分的側(cè)視圖,反作用片18設(shè)置 在一對(duì)摩擦片14A, 14B之間,形成或者限定分別在摩擦片14A, 14B 和反作用片18之間的一對(duì)邊界或者摩擦接觸面^A, 6SB。外部孔34容 許加壓流體15從外部側(cè)表面48流到反作用片18中,如上所述。為了流體 15直接輸送到摩擦接觸面65A, 65B中,以用于主表面37, 39的冷卻, 反作用片18還優(yōu)選地設(shè)置有圓形的或者圓柱形輔助流體通道62,其分別 具有一對(duì)圓形的或者圓柱形的第 一和第二孔40和70,每個(gè)通過輔助流體 通道62與主流體通道42流體連通。在優(yōu)選實(shí)施例中,每個(gè)第一和第二孔40, 70分別設(shè)置在主表面37,39上,在輔助流體通道62的相對(duì)兩端處并且開口到分別在反作用片18和 摩擦片14A, 14B之間的摩擦接觸面65A, 65B。第一孔40設(shè)置在反作 用片18的主表面37上,直接在主流體通道42的上方,并且大約在反作用 片18的相應(yīng)外直徑和內(nèi)直徑22, 12的中間,并且第二孔70設(shè)置在第二主 表面39上,直接在主流體通道42的下方。雖然圖l僅僅示出了一個(gè)第一 和第二孔40, 70,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到根據(jù)反作用片的尺寸/寬 度,和/或給定離合器片組件結(jié)構(gòu)的所需冷卻/潤(rùn)滑需求,可按需要增加 大體上相同于第一和第二孔40, 70的附加的孔。在瞬時(shí)高溫,低相對(duì)速度情況,即低速情況期間,很可能由于打滑 引起震顫或者振動(dòng),輔助流體通道62利用在高溫情況下相對(duì)低粘度的流 體15,以從主流體通道42中吸取流體直到到接近于第一和第二孔34, 70 產(chǎn)生的低的局部壓力區(qū)域中。在不要求摩擦材料20A, 20B的接觸表面 面積減少的情況下,通過如所需地直接輸送流體15到摩擦接觸面65A, 65B上,從而在低的相對(duì)轉(zhuǎn)速情況下的震顫或者振動(dòng)得到減少。當(dāng)離合 器組件10在比較高的速度下一體地旋轉(zhuǎn)時(shí),分別在不同地旋轉(zhuǎn)的板14, 18之間的第一和第二孔40, 70附近的低壓區(qū)域消失,并且離合器組件IO 的不同的片壓在一起,從而基本上阻塞通過孔40, 70的流體15的流動(dòng)。 如此,沒有過多流體15進(jìn)入摩擦接觸面65A, 65B中有助于保存流體并 且防止從摩擦接觸面65A, 65B的溢出,因此最小化在摩擦片14A, 14B 和反作用片18之間的打滑效果。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到當(dāng)離合器 組件10分離時(shí),流體15將通過孔40, 70在管道壓力下繼續(xù)被供給,其將 在摩擦接觸面65A, 65B上提供足夠分離各相鄰片的液壓作用力,諸如 摩擦片14和反作用片18,并且減少或者最小化自旋損失或者它們之間的 阻力。在圖3A所示的第二實(shí)施例中,盲的主流體通道142被示出,其從外 部側(cè)表面48延伸或者穿透到主流體通道142的封閉或者盲端72,該盲端 不到反作用片18的內(nèi)直徑12。如所構(gòu)造的,流體15可通過主流體通道142 進(jìn)入外部孔34中,并且離開第一和第二孔40, 70,如上所述的。然而, 由于主流體通道142的盲端72,流體15被自始至終阻塞或者防止通到內(nèi) 直徑12。如此流體15被保存,同時(shí)仍然通過在片14A, 14B之間的局部 低壓區(qū)域被吸引,通過輔助流體通道62到達(dá)摩擦接觸面65A, 65B(見 圖2A)??蛇x擇地,如圖3B所示,在流體15的流動(dòng)從內(nèi)直徑12的內(nèi)部側(cè)
表面58開始的情況或者構(gòu)造中,可選擇的主流體通道242可從內(nèi)直徑12 延伸或者穿透到主流體通道242的封閉或者盲端74。盲端74不到反作用 片18的外直徑22。盲端72和74優(yōu)選設(shè)置大約在反作用片18的內(nèi)直徑12和 外直徑22之間距離的3/4處,以允許反作用片18的 一些附加的中心冷卻,不過其它的距離也在本發(fā)明范圍內(nèi)。在如圖3C所示的第三實(shí)施例中,主流體通道42自始至終通過反作用 片18從內(nèi)直徑12延伸到外直徑22,并且被覆蓋或者以別的方式阻塞,優(yōu) 選通過插入內(nèi)部孔50中的塞子67,從而阻塞流體15通過反作用片18的一鏜孔過程,如;生圖3B的實(shí)施例所需,特別在反作用5tl8具有相對(duì):、的 直徑的情況下。優(yōu)選地,塞子67由諸如不銹鋼的適當(dāng)?shù)牟牧蠘?gòu)造,當(dāng)該 塞子被插入到內(nèi)部孔50中并且采用具有足夠的強(qiáng)度和材料特性的環(huán)氧樹脂或者其它的粘合材料(未示出)固定,以在存在流體"的情況下保 持塞子67在內(nèi)部孔50之內(nèi),以利于反作用片18的使用壽命。雖然多片結(jié)構(gòu)是優(yōu)選的,第四實(shí)施例包括如圖4所示的整體的摩擦/ 反作用片110A, IIOB,它們被堆疊,而沒有單獨(dú)的芯片36 (見圖l)。 摩擦材料26分別直接地粘接或者固定到每個(gè)整體片IIOA, IIOB的一個(gè) 表面137A, 137B上,其中每個(gè)整體片110A, 1 IOB具有各自的交替的內(nèi) 部和外部凸出花鍵124, 132。整體片110A具有設(shè)置在至少一個(gè)主流體通 道342的每端上的內(nèi)部孔150A和外部孔134A,每個(gè)主流體通道342與具 有單孔170的輔助流體通道162相交叉。同樣,整體片IIOB具有設(shè)置在至 少一個(gè)主流體通道342的每端上的內(nèi)部孔150B和外部孔134B,其中主流 體通道342基本上相同于如上所述的通道42 (見圖l)。在此第四實(shí)施例 中,如圖4B中的局部側(cè)視圖所示,相對(duì)于每對(duì)整體片110A, 110B,僅 僅形成一個(gè)摩擦接觸面65C,并且相應(yīng)地,僅僅需要單孔no從每個(gè)主流 體通道342開口到那里,雖然多個(gè)輔助通道162和孔170可按照需要增 加,以根據(jù)需要輸送更多流體15到摩擦接觸面65C。當(dāng)應(yīng)用或者離合器 結(jié)構(gòu)需要時(shí),孑L134A和150A,和主流體通道342還可利用如上所述的盲 孔或者堵塞孔構(gòu)造。雖然用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式已經(jīng)詳細(xì)描述,本領(lǐng)域技術(shù)人員將 認(rèn)識(shí)到用于實(shí)施本發(fā)明的多個(gè)可選擇的設(shè)計(jì)和實(shí)施例都在所附的權(quán)利 要求范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種可接合的離合器組件,具有適合于與加壓流體一起使用的摩擦接觸面,所述離合器組件包括離合器片,離合器片具有至少一個(gè)內(nèi)部流體通道和在其側(cè)面上的至少一個(gè)反作用面,該反作用面至少部分限定一個(gè)摩擦接觸面;其中所述內(nèi)部流體通道被構(gòu)造為直接地引導(dǎo)所述加壓流體到所述一個(gè)摩擦接觸面上,以當(dāng)所述離合器組件接合時(shí)用于所述一個(gè)摩擦接觸面的冷卻并且當(dāng)所述離合器組件分離時(shí)用于減少通過所述離合器組件的自旋損失。
2. 如權(quán)利要求l所述的離合器組件,其中所述至少一個(gè)流體通道在 一端被阻塞,以防止所述流體在一個(gè)方向上的流動(dòng)。
3. 如權(quán)利要求l所述的離合器組件,其中所述至少一個(gè)流體通道包 括至少一個(gè)主流體通道和至少一個(gè)輔助流體通道,該至少一個(gè)輔助流體 通道在大體垂直方向上與所述至少一個(gè)主流體通道相交叉。
4. 如權(quán)利要求3所述的離合器組件,其中所述離合器片的厚度和所 述主流體通道和所述輔助流體通道中至少一個(gè)的直徑通過大約2:1的比 率成比例地相關(guān)。
5. 如權(quán)利要求l所述的離合器組件,包括至少部分地限定所述摩擦 接觸面的摩擦片,其中所述離合器片是反作用片。
6. 如權(quán)利要求l所述的離合器組件,其中所述離合器片是其上具有 摩擦材料的整體的摩擦/反作用片,其至少部分地限定另一個(gè)摩擦接觸 面。
7. —種用于在摩擦離合器組件內(nèi)與摩擦接觸面結(jié)合使用的可接合 的反作用片,該片包括至少一個(gè)反作用表面、外直徑、內(nèi)直徑、與加壓 流體源連通的多個(gè)主流體通道和多個(gè)輔助流體通道,每個(gè)輔助流體通道 與所述至少一個(gè)反作用表面和一個(gè)所述主流體通道流體連通;其中所述 主流體通道與所述內(nèi)直徑和外直徑中的至少一個(gè)流體連通,并且被構(gòu)造 來從一個(gè)所述直徑傳送加壓流體到所述至少一個(gè)反作用面,以當(dāng)所述組 件接合時(shí)用于冷卻所述摩擦接觸面,和用于當(dāng)所述組件分離時(shí)減少在所 述組件中的自旋損失。
8. 如權(quán)利要求7所述的反作用片,其中每個(gè)所述輔助流體通道在大 體垂直方向上與至少一個(gè)所述主流體通道相交叉。
9. 如權(quán)利要求7所述的反作用片,其中所述反作用片的厚度和所述 主流體通道和輔助流體通道中至少一個(gè)的直徑通過大約2:1的比率成比 例地相關(guān)。
10. 如權(quán)利要求7所述的反作用片,其中所述多個(gè)主流體通道中的 至少一個(gè)是盲通道,其從所述外直徑和內(nèi)直徑中的一個(gè)引出并且延伸到 另 一個(gè)所述直徑的距離的大約3/4。
11. 一種在離合器片組件的摩擦接觸面處控制流體流動(dòng)的方法,該 方法包括當(dāng)所述離合器片組件接合時(shí)直接提供流體到所述摩擦接觸面 上,以冷卻所述摩擦接觸面;和當(dāng)所述離合器片組件分離時(shí)在管道壓力下直接地提供流體到所述 摩擦接觸面上,從而減少自旋損失。
12. 如權(quán)利要求ll所述的方法,包括在所述摩擦接觸面處的反作用 片,其中所述流體借助于在所述反作用片內(nèi)的多個(gè)流體通道提供到所述 摩擦接觸面上。
13. 如權(quán)利要求ll所述的方法,其中每個(gè)所述多個(gè)流體通道包括至 少一個(gè)主流體通道和與所述至少一個(gè)主流體通道交叉的至少一個(gè)輔助 流體通道,其中所述至少一個(gè)主流體通道被構(gòu)造為引導(dǎo)所述流體通過所 述反作用片并且進(jìn)入所述輔助流體通道之內(nèi),其中所述輔助流體通道被 構(gòu)造為按需要直接引導(dǎo)所述流體到所述摩擦接觸面上。
14. 如權(quán)利要求13所述的方法,其中所述至少一個(gè)主流體通道被構(gòu) 造為防止在一個(gè)方向上的流動(dòng)。
15. 如權(quán)利要求13所述的方法,其中所述至少一個(gè)輔助流體通道大 體上垂直于它所交叉的至少一個(gè)主流體通道。
16. 如權(quán)利要求13所述的方法,其中所述反作用片的厚度與所述至 少一個(gè)主流體通道和所述至少一個(gè)輔助流體通道中至少一個(gè)的直徑通 過大約2:1的比率成比例地相關(guān)。
全文摘要
提供了一種離合器片組件,其具有摩擦接觸面和內(nèi)部流體通道,用于輸送加壓流體到摩擦接觸面以冷卻該接觸面,并且減少通過離合器組件的自旋損失。該流體通道包括從離合器片內(nèi)直徑或者外直徑向內(nèi)延伸的多個(gè)主通道,和交叉于主流體通道的多個(gè)輔助流體通道,以用于引導(dǎo)流體到摩擦接觸面。在離合器接合期間,流體導(dǎo)向到摩擦接觸面,以當(dāng)離合器組件接合時(shí)用于冷卻它,并且當(dāng)離合器組件分離時(shí)分開離合器片以減少自旋損失。還提供一種在摩擦接觸面處控制流體流動(dòng)的方法,該方法包含當(dāng)離合器片組件接合時(shí)直接提供流體到摩擦接觸面上以用于冷卻,和當(dāng)離合器片組件基本分離時(shí)減少自旋損失。
文檔編號(hào)F16D13/72GK101153636SQ20071016121
公開日2008年4月2日 申請(qǐng)日期2007年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月25日
發(fā)明者G·莫杜克霍維克, P·D·史蒂文森 申請(qǐng)人:通用汽車環(huán)球科技運(yùn)作公司
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