一種渦旋盤及具有該渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種渦旋盤，包括靜渦旋盤和動(dòng)渦旋盤，根據(jù)渦旋壓縮機(jī)工作時(shí)吸氣段、壓縮段和排氣段動(dòng)靜渦旋盤齒頂和齒底之間間隙承受的壓差不同，將靜渦旋盤和動(dòng)渦旋盤齒底做三段式設(shè)計(jì)，即靜渦旋盤齒頂與動(dòng)渦旋盤齒底之間的間隙和靜渦旋盤齒底與動(dòng)渦旋盤齒頂之間的間隙根據(jù)所處吸氣段、壓縮段和排氣段的不同間隙大小不同，且吸氣段間隙大于壓縮段間隙，壓縮段間隙大于排氣段間隙。如此設(shè)置，能夠在保證動(dòng)靜渦旋盤徑向密封的同時(shí)，減少動(dòng)靜渦旋盤各齒頂與齒底之間的摩擦面，從而減小磨擦功耗。本實(shí)用新型方案還包括具有上述渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)。
【專利說明】
_種滿旋盤及具有該滿旋盤的滿旋壓縮機(jī)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于壓縮機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種渦旋盤及具有該渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，空調(diào)用的渦旋壓縮機(jī)中的渦旋盤的徑向密封方式包括在動(dòng)靜渦旋盤齒頂開設(shè)凹槽，并增設(shè)密封部件的方式，和動(dòng)靜渦旋盤齒頂與齒底之間間隙配合，采用油膜密封的方式。其中，采用動(dòng)靜渦旋盤齒頂與齒底之間間隙配合，并用油膜密封的方式中，動(dòng)靜渦旋盤齒頂與齒底之間的間隙大小是相同的，如此設(shè)置即要求動(dòng)靜渦旋盤的齒頂以及齒底的加工精度要高，而且，當(dāng)壓縮機(jī)在運(yùn)行過程中，動(dòng)靜渦旋盤的齒頂與齒底之間的摩擦面積大，易造成摩擦損耗增大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型提供一種渦旋盤，包括靜渦旋盤和動(dòng)渦旋盤，根據(jù)渦旋壓縮機(jī)工作時(shí)吸氣段、壓縮段和排氣段動(dòng)靜渦旋盤齒頂和齒底之間間隙承受的壓差不同，將靜渦旋盤和動(dòng)渦旋盤齒底做三段式設(shè)計(jì)，即靜渦旋盤齒頂與動(dòng)渦旋盤齒底之間的間隙和靜渦旋盤齒底與動(dòng)渦旋盤齒頂之間的間隙根據(jù)所處吸氣段、壓縮段和排氣段的不同間隙大小不同，且吸氣段間隙大于壓縮段間隙，壓縮段間隙大于排氣段間隙。本實(shí)用新型方案還包括具有上述渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)。
[0004]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底從吸氣口位置到排氣口位置一共分三段設(shè)計(jì)，即吸氣段、壓縮段和排氣段。
[0005]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9) 二者均進(jìn)行分段設(shè)計(jì)。
[0006]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)二者采用對齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)的方式。
[0007]優(yōu)選地，段差設(shè)計(jì)作用于相鄰兩段之間，即相鄰兩段之間的齒底高度或齒頂高度不同。
[0008]優(yōu)選地，所述吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)的每一段內(nèi)的齒底高度或齒頂高度相同。
[0009]優(yōu)選地，相鄰兩段進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度之間的過渡采用平滑過渡。
[0010]優(yōu)選地，當(dāng)只有所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒底高度相同，且小于所述吸氣段(3)的齒底高度，或者所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒頂高度相同，且大于所述吸氣段(3)的齒頂高度，即所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且小于所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0011]優(yōu)選地，當(dāng)只有所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒底高度相同，且大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒頂高度相同，且小于所述排氣段(7)的齒底高度，即所述吸氣段
(3)和所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0012]優(yōu)選地，當(dāng)所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間，所述壓縮段(5)和所述排氣段
(7)之間都進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)的齒底高度大于所述壓縮段(5)的齒底高度，且所述壓縮段(5)的齒底高度大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)的齒頂高度小于所述壓縮段(5)的齒頂高度，且所述壓縮段(5)的齒頂高度小于所述排氣段(7)的齒頂高度，即所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度，且所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0013]優(yōu)選地，當(dāng)采用渦旋盤齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)到所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間也進(jìn)行段差設(shè)計(jì)。
[0014]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)的齒頂與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底之間，以及所述靜渦旋盤(I)的齒底與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒頂之間均采用間隙配合，用油膜進(jìn)行徑向密封的方式。
[0015]優(yōu)選地，所述渦旋壓縮機(jī)采用具有段差設(shè)計(jì)的渦旋盤。
[0016]本方案提供的供的渦旋盤及具有該渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)具有如下有益效果:
[0017]1.能夠在保證動(dòng)靜渦旋盤徑向密封的同時(shí)，減少動(dòng)靜渦旋盤各齒頂與齒底之間的摩擦面，從而減小磨擦功耗；
[0018]2.對渦旋盤底的加工精度要求有所降低，節(jié)省加工成本。
【附圖說明】
[0019]圖1靜渦旋盤齒底段差設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2靜渦旋盤齒底段差設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)沿圖1中點(diǎn)畫線展開示意圖；
[0021]圖3動(dòng)渦旋盤齒底段差設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖4動(dòng)渦旋盤齒底段差設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)沿圖2中點(diǎn)畫線展開示意圖。
[0023]圖中附圖標(biāo)記表示為:
[0024]1.靜渦旋盤，2.吸氣口；3.吸氣段;4.過渡段;5.壓縮段;6.過渡段;7.排氣段;8.排氣口；9.動(dòng)渦旋盤;10.過渡段。
【具體實(shí)施方式】
[0025]如圖1至圖4所示，本實(shí)用新型提供一種渦旋盤，主要包括設(shè)置了吸氣口(2)、排氣口(8)的靜渦旋盤(I)和與所述靜渦旋盤(I)配合設(shè)置的動(dòng)渦旋盤(9)，其中，所述靜渦旋盤
(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)中至少有一個(gè)渦旋盤的齒底進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)，且所述靜渦旋盤(I)或所述動(dòng)渦旋盤(9)對應(yīng)的吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)的齒底或齒頂至少有兩段之間進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)。通過對渦旋盤齒底或齒頂進(jìn)行段差設(shè)計(jì)，能夠使增大所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)兩個(gè)壓力相對較低段對應(yīng)的渦旋盤齒頂與齒底之間的間隙；從而在保證動(dòng)靜渦旋盤徑向密封的同時(shí)，減少動(dòng)靜渦旋盤各齒頂與齒底之間的摩擦面，從而減小磨擦功耗。
[0026]其中，上述所述段差設(shè)計(jì)是指渦旋盤對應(yīng)的吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)三段中相鄰兩段之間的齒底高度或齒頂高度不同，而每一段內(nèi)對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度相同，而當(dāng)相鄰兩段進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度之間的過渡采用平滑過渡。
[0027]所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)中至少有一個(gè)渦旋盤的齒底進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)，且所述靜渦旋盤(I)或所述動(dòng)渦旋盤(9)對應(yīng)的吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)的齒底或齒頂至少有兩段之間進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)；當(dāng)所述渦旋盤中只有所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒底高度相同，且小于所述吸氣段(3)的齒底高度，或者所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒頂高度相同，且大于所述吸氣段(3)的齒頂高度，即所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且小于所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度；當(dāng)所述渦旋盤中只有所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒底高度相同，且大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒頂高度相同，且小于所述排氣段(7)的齒底高度，即所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度；當(dāng)所述渦旋盤中所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間都進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)的齒底高度大于所述壓縮段(5)的齒底高度，且所述壓縮段(5)的齒底高度大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)的齒頂高度小于所述壓縮段(5)的齒頂高度，且所述壓縮段(5)的齒頂高度小于所述排氣段(7)的齒頂高度，即所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度，且所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0028]當(dāng)采用渦旋盤齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)到所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間即可以進(jìn)行段差設(shè)計(jì)也可以不進(jìn)行段差設(shè)計(jì)。
[0029]所述靜渦旋盤(I)的齒頂與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底之間，以及所述靜渦旋盤(I)的齒底與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒頂之間均采用間隙配合，用油膜進(jìn)行徑向密封的方式。
[0030]包括上述所述渦旋盤的渦旋壓縮機(jī)，能夠在保證動(dòng)靜渦旋盤徑向密封的同時(shí)，減少動(dòng)靜渦旋盤各齒頂與齒底之間的摩擦面，從而減小磨擦功耗，同時(shí)對渦旋盤底的加工精度要求也有所降低，使得加工成本得到降低。
[0031 ]為了使上述描述的技術(shù)方案的目的、及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下以渦旋盤齒底三段式設(shè)計(jì)方法，并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0032]如圖1至圖4所示為采用在動(dòng)靜渦旋盤齒底加工段差的方式;其中如圖1圖2所示為在靜渦旋盤(I)齒底加工的三段式段差的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，從圖1中可以看出，從排氣口(8)到過渡段(6)之間為渦旋壓縮機(jī)的排氣段(7);所述排氣段(7)與壓縮段(5)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)，并通過過渡段(6)平滑過渡;從過渡段(6)到過渡段(4)之間為渦旋壓縮機(jī)的壓縮段(5);所述壓縮段(5)與吸氣段(3)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)，并通過過渡段(4)平滑過渡；從過渡段(4) 一直到吸氣口(2)(包括吸氣口)之間為渦旋壓縮機(jī)的吸氣段;所述平滑過渡是指段與段之間的過渡不能出現(xiàn)棱角；如圖2所示即為所述靜渦旋盤(I)齒底加工三段式段差結(jié)構(gòu)后，沿著齒底中間的漸開線展開后的齒底高度變化示意圖；從圖2中可以看出，從吸氣口(2)到排氣口
(8)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)后，其齒底高度從吸氣段(3)到排氣段(7)是逐級(jí)減小的，即與動(dòng)渦旋盤(9)的齒頂配合后，其密封油膜厚度是逐級(jí)減小的。
[0033]圖3圖4展示的是與上述靜渦旋盤(I)相配合的動(dòng)渦旋盤(9)，其吸氣段(3)、壓縮段
(5)以及排氣段(7)之間的段差設(shè)計(jì)方法與上述所述的靜渦旋盤(I)的段差設(shè)計(jì)方法相同；不同的是，為了防止或減少運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)所述動(dòng)渦旋盤(9)底部存在雜質(zhì)進(jìn)入渦旋盤冷媒流道內(nèi)，造成動(dòng)靜渦旋盤之間過渡磨損，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)與所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間也進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)，并通過過渡段(10)進(jìn)行過渡。當(dāng)然，在保證系統(tǒng)足夠清潔時(shí)，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)與所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間也可不進(jìn)行段差設(shè)計(jì)。
[0034]從圖2及圖4中可以看出，所述吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)三段中的相鄰兩段之間的齒底高度差，即為設(shè)計(jì)段差。
[0035]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底從吸氣口位置到排氣口位置一共分三段設(shè)計(jì)，即吸氣段、壓縮段和排氣段。
[0036]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9) 二者均進(jìn)行分段設(shè)計(jì)。
[0037]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)二者采用對齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)的方式。
[0038]優(yōu)選地，段差設(shè)計(jì)作用于相鄰兩段之間，即相鄰兩段之間的齒底高度或齒頂高度不同。
[0039]優(yōu)選地，所述吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)的每一段內(nèi)的齒底高度或齒頂高度相同。
[0040]優(yōu)選地，相鄰兩段進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度之間的過渡采用平滑過渡。
[0041]優(yōu)選地，當(dāng)只有所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒底高度相同，且小于所述吸氣段(3)的齒底高度，或者所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒頂高度相同，且大于所述吸氣段(3)的齒頂高度，即所述壓縮段
(5)和所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且小于所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0042]優(yōu)選地，當(dāng)只有所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒底高度相同，且大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒頂高度相同，且小于所述排氣段(7)的齒底高度，即所述吸氣段
(3)和所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0043]優(yōu)選地，當(dāng)所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間，所述壓縮段(5)和所述排氣段
(7)之間都進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)的齒底高度大于所述壓縮段(5)的齒底高度，且所述壓縮段(5)的齒底高度大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)的齒頂高度小于所述壓縮段(5)的齒頂高度，且所述壓縮段(5)的齒頂高度小于所述排氣段(7)的齒頂高度，即所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度，且所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。
[0044]優(yōu)選地，當(dāng)采用渦旋盤齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)到所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間也進(jìn)行段差設(shè)計(jì)。
[0045]優(yōu)選地，所述靜渦旋盤(I)的齒頂與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底之間，以及所述靜渦旋盤(I)的齒底與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒頂之間均采用間隙配合，用油膜進(jìn)行徑向密封的方式。
[0046]優(yōu)選地，所述渦旋壓縮機(jī)采用具有段差設(shè)計(jì)的渦旋盤。
[0047]應(yīng)當(dāng)說明的是，除非另有定義，本文中所使用的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與本實(shí)用新型的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施目的，不是旨在限制本實(shí)用新型。本文中出現(xiàn)的諸如“設(shè)置”等術(shù)語既可以表示一個(gè)部件直接附接至另一個(gè)部件，也可以表示一個(gè)部件通過中間件附接至另一個(gè)部件。本文中在一個(gè)實(shí)施方式中描述的特征可以單獨(dú)地或與其它特征結(jié)合地應(yīng)用于另一個(gè)實(shí)施方式，除非該特征在該另一個(gè)實(shí)施方式中不適用或是另有說明。
[0048]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，如將該設(shè)計(jì)思路用到線控器上等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.本實(shí)用新型提供一種渦旋盤，包括設(shè)置了吸氣口(2)、排氣口(8)的靜渦旋盤(I)和與所述靜渦旋盤(I)配合設(shè)置的動(dòng)渦旋盤(9)，其特征在于:所述靜渦旋盤(I)和所述動(dòng)渦旋盤(9)中至少有一個(gè)渦旋盤的齒底進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)，且所述靜渦旋盤(I)或所述動(dòng)渦旋盤(9)對應(yīng)的吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)的齒底或齒頂至少有兩段之間進(jìn)行了段差設(shè)計(jì)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦旋盤，其特征在于:所述段差設(shè)計(jì)是指渦旋盤對應(yīng)的吸氣段(3)、壓縮段(5)和排氣段(7)三段中相鄰兩段之間的齒底高度或齒頂高度不同，而每一段內(nèi)對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度相同。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦旋盤，其特征在于:相鄰兩段進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，對應(yīng)的齒底高度或齒頂高度之間的過渡采用平滑過渡。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦旋盤，其特征在于:當(dāng)只有所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒底高度相同，且小于所述吸氣段(3)的齒底高度，或者所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)的齒頂高度相同，且大于所述吸氣段(3)的齒頂高度，即所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且小于所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度； 當(dāng)只有所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒底高度相同，且大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)的齒頂高度相同，且小于所述排氣段(7)的齒底高度，即所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度相同，且大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度； 當(dāng)所述吸氣段(3)和所述壓縮段(5)之間，所述壓縮段(5)和所述排氣段(7)之間都進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述吸氣段(3)的齒底高度大于所述壓縮段(5)的齒底高度，且所述壓縮段(5)的齒底高度大于所述排氣段(7)的齒底高度，或者所述吸氣段(3)的齒頂高度小于所述壓縮段(5)的齒頂高度，且所述壓縮段(5)的齒頂高度小于所述排氣段(7)的齒頂高度，即所述吸氣段(3)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度，且所述壓縮段(5)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度大于所述排氣段(7)對應(yīng)的齒頂和齒底之間的密封油膜厚度。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦旋盤，其特征在于:當(dāng)采用渦旋盤齒底進(jìn)行段差設(shè)計(jì)時(shí)，所述動(dòng)渦旋盤(9)的吸氣段(3)到所述動(dòng)渦旋盤(9)的基座之間進(jìn)行段差設(shè)計(jì)，或不進(jìn)行段差設(shè)計(jì)。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任何一項(xiàng)所述的渦旋盤，其特征在于:所述靜渦旋盤(I)的齒頂與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒底之間，以及所述靜渦旋盤(I)的齒底與所述動(dòng)渦旋盤(9)的齒頂之間均采用間隙配合，用油膜進(jìn)行徑向密封的方式。7.—種渦旋壓縮機(jī)，包括渦旋盤，其特征在于:所述渦旋盤為權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的渦旋盤。
【文檔編號(hào)】F04C29/00GK205677838SQ201620636224
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月24日 公開號(hào)201620636224.6, CN 201620636224, CN 205677838 U, CN 205677838U, CN-U-205677838, CN201620636224, CN201620636224.6, CN205677838 U, CN205677838U
【發(fā)明人】魏亮
【申請人】魏亮