專利名稱：一種離子交換膜電解槽用單元槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種離子交換膜電解槽中的單元槽，特別是一種減少單元槽槽間 距的離子交換膜電解槽用單元槽，屬于氯堿化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在燒堿生產(chǎn)裝置目前比較流行和廣泛推廣的離子膜法電解槽，其單元槽的設(shè)計(jì)日 趨完善目標(biāo)是進(jìn)一步降低槽電壓。如公開號為CN1364204的中國專利，公開了一種用于雙極、壓濾式電解槽中的單 元槽，該電解槽包括通過設(shè)置在相鄰單元槽之間的陽離子交換膜串聯(lián)排布的許多單元槽， 每個(gè)單元槽包括，具有分別在陽極室和陰極室上部整個(gè)長度上延伸的陽極側(cè)和陰極側(cè)氣液 分離室的陽極側(cè)和陰極側(cè)盤狀體，其中陽極側(cè)和陰極側(cè)氣液分離室具有穿孔的底壁，分別 將陽極側(cè)和陰極側(cè)氣液分離室與所述陽極室和所述陰極室分開，其中氣泡去除隔板至少設(shè) 置在所述兩側(cè)氣液分離室的陽極側(cè)氣液分離室中，并在氣液分離室的穿孔底壁上方延伸， 并沿氣液分離室的整個(gè)長度延伸，從而將所述氣液分離室分別分成在底壁的小孔區(qū)域和無 小孔區(qū)域上形成的第一通道A和第二通道B，其中通道B與氣體和液體出口嘴相連通，并且 其中氣泡去除隔板具有小孔部分，其小孔位于氣液分離室的底壁內(nèi)表面以上至少IOmm處。公開號為CN101451245的中國專利，公開了一種復(fù)極式自然循環(huán)離子膜電解單元 槽，由多個(gè)單元電解槽構(gòu)成，在槽之間封有離子交換膜，單元電解槽由背靠背配置的陰、陽 極室構(gòu)成，各室上部帶有氣液分離器和供電解產(chǎn)物出口，下部帶有物料進(jìn)口，中間帶隔離隔 板；外框采用整體結(jié)構(gòu)，周邊和中間隔板采用非金屬工程材料注塑整體成型，單元電解槽隔 板上均勻設(shè)置電連接組件，由導(dǎo)電連接組件連接陰、陽極室，各室兩側(cè)安置支撐筋板，中間 隔板上帶有孔，陰、陽極室側(cè)的螺栓螺栓、螺母上面等距離焊接支撐筋板，陰、陽極室側(cè)焊接 支撐筋板，陰極支撐筋板上焊活化陰極電極網(wǎng)，在陽極支撐筋板上焊接鈦或鈦合金材料的 活化陽極電極網(wǎng)，在陽極支撐筋板間設(shè)置循環(huán)板。但上述專利均存在單元槽之間間距大，極距大，槽電壓高的缺點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種減少單元槽槽間距的離子交換膜電解 槽用單元槽，該單元槽能降低單元槽之間的間距，達(dá)到減少極距降低槽電壓的目的。本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下一種離子交換膜電解槽用單元槽，它包括單元槽槽體、陽極液出口、陰極液出口、 陽極原料進(jìn)口和陰極原料進(jìn)口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊上部分別設(shè)置有陽極液出口和陰極 液出口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊下部分別設(shè)置有陽極原料進(jìn)口和陰極原料進(jìn)口，單元槽槽 體的陽極密封面和陰極密封面固定有墊片，其特征在于，單元槽槽體的陽極密封面設(shè)置有 墊片凹槽。所述凹槽深度為1 1. 5mm。凹槽深度是指凹槽的凹面相對于陽極密封面的距離。
3[0010]所述的墊片厚度為2. 5 3. 5mm。所述墊片凹槽形狀與墊片形狀相對應(yīng)。墊片形狀與凹槽形狀相對應(yīng)是指保證墊片 可以完全嵌入墊片凹槽的凹面。本發(fā)明的有益效果如下本實(shí)用新型是針對現(xiàn)有離子膜單元槽所做的改進(jìn)，可在不增加其他設(shè)備的基礎(chǔ)上 完成，本實(shí)用新型通過對密封面增加墊片凹槽，從而降低了相鄰兩個(gè)陰陽極密封面之間的 距離，進(jìn)而降低單元槽極距，最終達(dá)到降低電解槽運(yùn)行槽電壓的目的，不僅使其符合目前所 推廣的節(jié)能型膜極距電解槽的要求，而且大大降低了制造成本。

圖1為離子交換膜電解槽用單元槽的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為離子交換膜電解槽用單元槽的A-A剖面圖；其中，1、單元槽槽體，2、離子交換膜，3，陽極液出口，4、陰極液出口，5、陽極原料進(jìn) 口，6、陰極原料進(jìn)口，7、墊片，8、墊片凹槽，9、陽極密封面，10、陰極密封面。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合說明書附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步闡述，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不限 于此實(shí)施例1一種離子交換膜電解槽用單元槽，它包括單元槽槽體1、陽極液出口 3、陰極液出 口 4、陽極原料進(jìn)口 5和陰極原料進(jìn)口 6，單元槽槽體1兩豎直側(cè)邊上部分別設(shè)置有陽極液 出口 3和陰極液出口 4，單元槽槽體1兩豎直側(cè)邊下部分別設(shè)置有陽極原料進(jìn)口 5和陰極原 料進(jìn)口 6，單元槽槽體1的陽極密封面和陰極密封面固定有墊片7，單元槽槽體1的陽極密 封面設(shè)置有墊片凹槽8。所述的墊片厚度為3mm，墊片凹槽8深度為1.2mm。所述墊片凹槽 8形狀與墊片7形狀相對應(yīng)。經(jīng)檢測，運(yùn)行單元槽電壓較改造前降低0. 02V。實(shí)施例2如實(shí)施例1所述的離子交換膜電解槽用單元槽，不同之處在于，所述的墊片厚度 為3mm，墊片凹槽8深度為1. 5mm。經(jīng)檢測，運(yùn)行槽電壓較改造前降低0. 016V。
權(quán)利要求一種離子交換膜電解槽用單元槽，它包括單元槽槽體、陽極液出口、陰極液出口、陽極原料進(jìn)口和陰極原料進(jìn)口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊上部分別設(shè)置有陽極液出口和陰極液出口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊下部分別設(shè)置有陽極原料進(jìn)口和陰極原料進(jìn)口，單元槽槽體的陽極密封面和陰極密封面固定有墊片，其特征在于，單元槽槽體的陽極密封面設(shè)置有墊片凹槽。
2.如權(quán)利要求1所述的離子交換膜電解槽用單元槽，其特征在于，所述凹槽深度為1.5 2mm ο
3.如權(quán)利要求1所述的離子交換膜電解槽用單元槽，其特征在于，所述的墊片厚度為2.5 3. 5mm0
4.如權(quán)利要求1所述的離子交換膜電解槽用單元槽，其特征在于，所述墊片凹槽形狀 與墊片形狀相對應(yīng)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種離子交換膜電解槽中的單元槽，特別是一種減少單元槽槽間距的離子交換膜電解槽用單元槽，屬于氯堿化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種離子交換膜電解槽用單元槽，它包括單元槽槽體、陽極液出口、陰極液出口、陽極原料進(jìn)口和陰極原料進(jìn)口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊上部分別設(shè)置有陽極液出口和陰極液出口，單元槽槽體兩豎直側(cè)邊下部分別設(shè)置有陽極液原料進(jìn)口和陰極液原料進(jìn)口，單元槽槽體的陽極密封面和陰極密封面固定有墊片，其特征在于，單元槽槽體的陽極密封面設(shè)置有墊片凹槽。本實(shí)用新型不僅使其符合目前所推廣的節(jié)能型膜極距電解槽的要求，而且制造成本低廉。
文檔編號C25B1/46GK201695093SQ201020201608
公開日2011年1月5日 申請日期2010年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月25日
發(fā)明者張秀伸, 魏軍海 申請人:山東東岳氟硅材料有限公司