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一種用于化學(xué)滴定的新型裝置的制造方法

文檔序號(hào):10448971閱讀:306來源:國(guó)知局
一種用于化學(xué)滴定的新型裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及化學(xué)滴定技術(shù)領(lǐng)域,確切地說涉及一種用于化學(xué)滴定的新型裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]滴定速度控制系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)在化學(xué)滴定分析中極為常見又占有重要的位置。目前有關(guān)滴定裝置的專利有很多,大多數(shù)用于定量分析如申請(qǐng)?zhí)枮?01420770659.0、授權(quán)公告號(hào)為CN204320331U的實(shí)用新型專利“一種可以同時(shí)進(jìn)行多個(gè)滴定操作的新型滴定裝置”,申請(qǐng)?zhí)枮?01320077294.9、授權(quán)公告號(hào)為CN 201125262Y的實(shí)用新型專利“一種用于精密滴定的滴定裝置”,申請(qǐng)?zhí)枮?01520182324.1、授權(quán)號(hào)為CN204495785U的實(shí)用新型專利“一種微量滴定裝置”,有關(guān)磁攪拌裝置的專利也有一些,主要是對(duì)攪拌原理進(jìn)行改善如申請(qǐng)?zhí)枮閆L94243206.1、授權(quán)公告號(hào)為CN2223137Y的實(shí)用新型專利“一種磁力攪拌器”,申請(qǐng)?zhí)枮閆L201420473445.7、授權(quán)公告號(hào)為CN203990465U的實(shí)用新型專利“一種電磁攪拌裝置”,申請(qǐng)?zhí)枮閆L200720029573.2、授權(quán)公告號(hào)為CN201125262Y的實(shí)用新型專利,這些都有一個(gè)共同的缺點(diǎn):由于在某些化學(xué)反應(yīng)中不僅需要進(jìn)行滴定同時(shí)還需要進(jìn)行攪拌,上述專利只是單獨(dú)地進(jìn)行滴定或攪拌,沒有將滴定與攪拌進(jìn)行組合。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀,而提供一種用于磁力攪拌系統(tǒng)與滴定速度控制系統(tǒng)可以同時(shí)進(jìn)行并可以控制溫度的裝置。
[0004]本實(shí)用新型是通過采用下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]—種用于化學(xué)滴定的新型裝置,其特征在于:包括滴定速度控制系統(tǒng)、化學(xué)反應(yīng)容器(5 )、溫度控制系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)(7 )、底座(9 )和密封蓋(12),所述滴定速度控制系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的上方,所述滴定速度控制系統(tǒng)包括盛反應(yīng)物A的容器(I)、滴定速度控制裝置(2)、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(3)和支架(4),所述溫度控制系統(tǒng)呈環(huán)形設(shè)計(jì)并包括高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)、傳熱層(6)和隔熱層(8),所述高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)均螺旋分布在傳熱層(6)的外側(cè),所述隔熱層(8)位于所述高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)的外側(cè),所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)位于所述傳熱層(6)的內(nèi)腔,所述磁力攪拌系統(tǒng)(7)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的下方和所述底座(9)的上方。
[0006]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果為:可以使化學(xué)反應(yīng)容器中的反應(yīng)物混合程度更均勻,反應(yīng)物混合比例控制更準(zhǔn)確,反應(yīng)溫度可調(diào)范圍更寬,使化學(xué)反應(yīng)的條件控制和反應(yīng)目標(biāo)產(chǎn)物得率的提高更易于實(shí)現(xiàn)。
【附圖說明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0008]圖中標(biāo)記分別為:1.盛反應(yīng)物A的容器;2.滴定速度控制裝置;3.轉(zhuǎn)動(dòng)裝置;4.支架;5.化學(xué)反應(yīng)容器;6.傳熱層;7.磁力攪拌系統(tǒng);8.隔熱層;9.底座;10.高溫控制系統(tǒng);
11.低溫控制系統(tǒng);12.密封蓋。
【具體實(shí)施方式】
[0009]作為本實(shí)用新型的最佳實(shí)施方式如下:在圖1中,本實(shí)用新型包括化學(xué)反應(yīng)容器(5 )、滴定速度控制系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)(7 )、底座(9)和密封蓋(12)。所述滴定速度控制系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的上方,所述滴定速度控制系統(tǒng)包括盛反應(yīng)物A的容器(1)、滴定速度控制裝置(2)、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(3)和支架(4),所述溫度控制系統(tǒng)包括傳熱層
(6)、隔熱層(8)、高溫控制系統(tǒng)(10)和低溫控制系統(tǒng)(11),所述高溫控制系統(tǒng)(10)和低溫控制系統(tǒng)(11)均螺旋分布在傳熱層(6)的外側(cè),所述隔熱層(8)位于所述高溫控制系統(tǒng)(10)和低溫控制系統(tǒng)(11)的外側(cè),所述傳熱層(6)、隔熱層(8)、高溫控制系統(tǒng)(10)和低溫控制系統(tǒng)
(11)均呈環(huán)形設(shè)計(jì),所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)位于所述傳熱層(6)的內(nèi)腔,所述磁力攪拌系統(tǒng)
(7)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的下方和所述底座(9)的上方,所述支架(4)固定于所述隔熱層外部。
[0010]所述滴定速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)應(yīng)達(dá)到如下效果:有利于所述化學(xué)反應(yīng)容器在反應(yīng)前添加反應(yīng)物體系B,也有利于在反應(yīng)完成后將所述化學(xué)反應(yīng)容器取出而便于收集反應(yīng)產(chǎn)物。
[0011]所述化學(xué)反應(yīng)容器、盛反應(yīng)物A的容器、高溫控制系統(tǒng)、低溫控制系統(tǒng)、傳熱層、隔熱層、磁力攪拌系統(tǒng)、滴定速度控制裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置、支架、底座和密封蓋等設(shè)計(jì)均屬于已有技術(shù)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于化學(xué)滴定的新型裝置,包括化學(xué)反應(yīng)容器(5)、磁力攪拌系統(tǒng)(7)、溫度控制系統(tǒng)、滴定速度控制系統(tǒng)、底座(9)和密封蓋(12),其特征在于:所述磁力攪拌系統(tǒng)(7)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的下方和所述底座(9)的上方,所述溫度控制系統(tǒng)呈環(huán)形設(shè)計(jì)并位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的外側(cè),所述溫度控制系統(tǒng)包括高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)、傳熱層(6)和隔熱層(8),所述高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)均螺旋分布在傳熱層(6)的外側(cè),所述隔熱層(8)位于所述高溫控制系統(tǒng)(10)、低溫控制系統(tǒng)(11)的外側(cè),所述滴定速度控制系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器(5)的上方,所述滴定速度控制系統(tǒng)包括盛反應(yīng)物A的容器(I )、滴定速度控制裝置(2)、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(3)和支架(4)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于化學(xué)滴定的新型裝置,包括化學(xué)反應(yīng)容器、磁力攪拌系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、滴定速度控制系統(tǒng)、底座和密封蓋,所述磁力攪拌系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器的下方和所述底座的上方,所述溫度控制系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器的外側(cè),所述滴定速度控制系統(tǒng)位于所述化學(xué)反應(yīng)容器的上方。采用本實(shí)用新型,可以使反應(yīng)物混合均勻,同時(shí)可以控制反應(yīng)物的濃度和控制反應(yīng)溫度,從而有利于反應(yīng)產(chǎn)物的生成。
【IPC分類】B01J19/00
【公開號(hào)】CN205361298
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521092406
【發(fā)明人】呂珍珍, 鄔應(yīng)龍, 羅松明, 嚴(yán)秋萍
【申請(qǐng)人】四川農(nóng)業(yè)大學(xué)
【公開日】2016年7月6日
【申請(qǐng)日】2015年12月25日
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