專利名稱：折疊再循環(huán)過濾器的制作方法
折疊再循環(huán)過濾器
背景技術(shù)：
許多包含敏感儀器的封裝必須維持非常潔凈的內(nèi)部環(huán)境以使設(shè)備正常工作。示例 包括含有對微粒和氣態(tài)污染物敏感的光學表面或電子連接的封裝，這些微粒和氣態(tài)污染物 能干擾機械、光學或電氣操作。其它示例包括諸如計算機硬磁盤驅(qū)動器和光驅(qū)之類的對微 粒、有機蒸氣、以及腐蝕性蒸氣敏感的數(shù)據(jù)記錄裝置。其它的示例包括用于處理、傳送或儲 存薄膜和半導體晶片的封裝。諸如用在汽車和工業(yè)應(yīng)用中的電子控制盒可能也對微粒、濕 氣累積、和腐蝕以及來自液體和蒸氣的污染敏感。這些封裝中的污染源自封裝內(nèi)部和外部。 例如，在計算機硬磁盤驅(qū)動器中，損傷可來自外部污染以及來自內(nèi)部源所產(chǎn)生的微粒和以 及排出的氣體。為了方便起見，本文中將使用術(shù)語“硬磁盤驅(qū)動器”或“硬盤驅(qū)動裝置”或 “磁磁盤驅(qū)動器”或“驅(qū)動器”，而且應(yīng)理解為包括上述任一種封裝。為了解決污染物問題，在磁磁盤驅(qū)動器中安裝了內(nèi)部微粒過濾器、或再循環(huán)過濾 器。這些過濾器可包含過濾介質(zhì)，諸如用來與背襯材料(諸如聚酯無紡材料)層疊的膨脹 PTFE膜，或包含駐極體(即靜電)過濾介質(zhì)或摩擦駐極體(triboelectret)介質(zhì)的“枕狀” 過濾器。本文所述的駐極體和摩擦駐極體介質(zhì)總稱為“駐極體介質(zhì)”。這些“枕狀”過濾器 可能被壓配到插槽或“C”狀溝道中，所述插槽或溝道優(yōu)選放置在由計算機硬磁盤驅(qū)動器中 的旋轉(zhuǎn)磁盤或置于電子控制柜中的風扇產(chǎn)生的活動空氣流中。一些再循環(huán)過濾器包括包圍 過濾介質(zhì)周邊的塑料框。用于計算機硬磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器還可包括一層或多層駐極體介質(zhì)層以 及在該駐極體層任一側(cè)上的一層或多層稀松布。一層或多層外部稀松布層用來包含駐極體 層的纖維以及為了便于處理或便于制造而增加剛度。多年前制造的較大驅(qū)動器如5. 25”和更大的驅(qū)動器有時也結(jié)合再循環(huán)過濾器，過 濾器包含常常折疊和密封或罐裝在塑料外殼中的過濾材料，塑料外殼中使用密封劑或填充 材料以將折疊物把持定位以及將介質(zhì)密封在塑料外殼中。用于密封介質(zhì)的塑料外殼和填充 材料使過濾器費用較高并且復雜。制造和安裝這些過濾器需要許多步驟和操作。這些過濾 器不適合用于小型驅(qū)動器，小型驅(qū)動器中的空間有限并且希望是低成本的。駐極體過濾層是通過將駐極體纖維針織成稀松布方式制備的。這種駐極體過濾層 經(jīng)常用以下兩個參數(shù)來表征針織成稀松布的駐極體纖維的單位面積重量，以及稀松布的 重量。典型的稀松布重量是15克/米2，但也存在其它情況。常規(guī)的駐極體介質(zhì)纖維重量 約為23-270克/米2，雖然也存在其它材料重量。其它駐極體層可以是無稀松布的駐極體 層或纏結(jié)的駐極體纖維或紡粘的駐極體纖維。在駐極體層制造過程中可以加入纖維以改進 過濾器性能。駐極體過濾層還可以用過濾性能特征或者過濾效率和對氣流的阻力或滲透性來 表征。效率通常是對在特定氣流下的特定粒度表征的。例如，針織成15克/米2的稀松布 的90克/米2的氈材，對10. 5英尺/分鐘氣流條件下的0. 1微米粒度的微粒的過濾效率 至少為80%。阻力是對特定氣流規(guī)定的。例如，上述90克的氈材在10. 5英尺/分鐘氣流 條件下的最大阻力為0. 35毫米水柱。
過濾器性能也會隨過濾材料的重量變化。較高比重材料具有較高的效率，但是對 氣流的壓降或阻力更高。過濾器厚度對靜電介質(zhì)也很重要。與類似比重的介質(zhì)相比，具有 更大織物厚度(Ioft)的較厚介質(zhì)具有更低的壓降和更高的效率。因此較厚過濾器可減少 清潔時間。過濾器的性能不僅取決于過濾材料，而且也取決于過濾器在驅(qū)動器中的位置和空 氣導向驅(qū)動器中的過濾器的方式。微粒過濾器通過設(shè)置在C-溝道內(nèi)的方式安裝在驅(qū)動器 中，所述溝道或模塑成形在驅(qū)動器基板上或者模塑成形在固定過濾器的塑料盒或框架上。 可以將空氣引導到設(shè)置過濾器的插槽或驅(qū)動器區(qū)域，使負載微粒的空氣從過濾器通過。通 常將過濾器尺寸設(shè)定為能夠使過濾器從驅(qū)動器頂蓋延伸到基板。新型驅(qū)動器對微粒污染的敏感度增大。磁頭的位置靠近驅(qū)動盤，因為可以將更多 的數(shù)據(jù)信息儲存在盤的更小的區(qū)域或覆蓋區(qū)。如果磁頭的“飛行高度”降低，保護層會更薄 以使磁頭能更接近儲存數(shù)據(jù)的磁性層。因此，這些驅(qū)動器對微粒污染越來越敏感，需要改進 過濾性能。一個方面，提供改進的、尺寸穩(wěn)定的折疊再循環(huán)過濾器。所述過濾器能容易地制造 過濾器并在不對驅(qū)動器進行改進下就可安裝在現(xiàn)有的C-溝道中，并能夠顯著改進微粒清 潔性能。因此本發(fā)明提供改進的再循環(huán)過濾器，該過濾器減少驅(qū)動器內(nèi)部的微粒污染并提 高驅(qū)動器的可靠性。發(fā)明概述在一個方面提供用于磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器。再循環(huán)過濾器包含具有第一端 和與之相反的第二端的過濾介質(zhì)、從第一端延伸至第二端的褶狀物，其中，所述過濾介質(zhì)的 第一端和第二端各自具有基本為平面的加強邊緣，所述加強邊緣將褶狀物互連。在另一個 方面，磁盤驅(qū)動器再循環(huán)過濾器包含至少一個從所述過濾器延伸的垂片(tab)。附圖簡要描述結(jié)合以下附圖考慮時，由所述內(nèi)容應(yīng)能夠理解本發(fā)明的操作，附圖中

圖1是示例過濾介質(zhì)的截面圖。圖IA是包含吸附劑層的另一種示例過濾介質(zhì)的截面圖。圖2是另一種過濾介質(zhì)的截面圖。圖3是過濾器實施方式的等比例圖(isometric view)。圖4A和4B分別是過濾器實施方式的頂截面圖和側(cè)視圖。圖5是本發(fā)明包括折疊過濾器的過濾器單元的另一個實施方式的等比例圖，該過 濾器具有包圍過濾器周邊的密封焊接的介質(zhì)周邊邊界，過濾器具有平行于過濾器縱向尺寸 排列的褶狀物。圖6是本發(fā)明另一個實施方式的等比例圖，在過濾器的兩端具有密封焊接的介質(zhì) 邊緣，所述過濾器有垂直于焊接的邊緣排列的褶狀物。圖7是圖3所示過濾器位于C-溝道時的頂截面圖，C-溝道用于將過濾器把持定 位在驅(qū)動器中。圖8是安裝在驅(qū)動器中的本發(fā)明過濾器的俯視圖，該驅(qū)動器也包括磁盤存儲介 質(zhì)、電樞(armature)和讀/寫磁頭。
圖9是本發(fā)明另一個包括折疊過濾器的過濾器單元的實施方式的側(cè)視圖，該過濾 器具有包圍過濾器周邊的密封焊接的介質(zhì)周邊邊界，過濾器還包含兩個從過濾器的相反側(cè) 延伸的垂片。圖IOa和IOb分別是圖9所示的實施方式安裝在C-溝道時的頂截面圖和側(cè)視圖， 所示C-溝道把持過濾器固定在驅(qū)動器的內(nèi)部。發(fā)明詳述本發(fā)明涉及一種用于從諸如易受污染物影響的電子或光學裝置之類的封閉環(huán)境 (例如計算機磁磁盤驅(qū)動器)濾除微粒的裝置。具體地，本發(fā)明提供一種用于磁盤驅(qū)動器的 改進的再循環(huán)過濾器。折疊的駐極體介質(zhì)能夠在指定的空間中包括更多的介質(zhì)，并且對任何指定體積流 量降低了通過該介質(zhì)的面速率，因而改進了過濾性能。密封折疊介質(zhì)的邊緣可以增加尺寸 穩(wěn)定性，使過濾器甚至易于用自動化拾取和放置型設(shè)備來安裝。下面參見附圖詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。相同的附圖標記表示類似的部 分、層和結(jié)構(gòu)。圖1顯示進行折疊之前的示例過濾介質(zhì)12的截面圖。駐極體介質(zhì)15在每一側(cè)上 覆蓋有覆蓋層13。覆蓋層13可包圍駐極體介質(zhì)以改進過濾性能，含有一個或多個靜電介質(zhì) 層的纖維并增加剛性。圖IA示出過濾介質(zhì)的另一種實施方式，其中，添加吸附劑層14。圖 2顯示過濾介質(zhì)的又一個實施方式，其中在圖1所示的介質(zhì)堆疊物的任一側(cè)上添加第二覆
蓋層25 ο駐極體介質(zhì)可包括氈材層。優(yōu)選重量為23-270克/米2的氈材，更優(yōu)選在50-210 克/米2的氈材，最優(yōu)選70-180克/米2的氈材。在另一個方面，過濾介質(zhì)12可包含一層或多層膨脹PTFE薄膜，它們可以任選層疊 在載體材料例如紡粘的聚酯非織造織物上。膨脹的PTFE可以與覆蓋層13或吸附劑層14 一起使用，或者在沒有覆蓋層或吸附劑層的情況下使用。覆蓋層13可以是諸如ePTFE的薄膜。膜覆蓋層可以改進各種實施方式中的過濾 增強，纖維容納或吸附劑容納性質(zhì)?？砂じ采w層作為額外的層，或者層疊到任意其他過
濾層上。優(yōu)選的膜是膨脹PTFE膜，可按照美國專利第4，902，423號(Bacino等)所述制 備。這種膜能以成品形式從美國馬里蘭州艾克頓(Elkton Maryland)的W. L. Gore and Associates, Inc.獲得。這種膜在層疊于過濾器或載體層的時候?qū)饬鞯淖枇ψ钚?，而?能夠良好地保持纖維。這種膜還提供過濾器額外的機械過濾，以補充本發(fā)明的過濾介質(zhì)中 包含的一層或多層靜電層的靜電過濾機理。這對難以用靜電過濾介質(zhì)收集的微粒將成為關(guān) 鍵。例如，非?？焖俅┬械奈⒘；蛘咂涑叽绾碗姾蓪o電過濾介質(zhì)而言難以收集的微粒通 過膜介質(zhì)可能更容易除去。覆蓋層13和/或25可包含任意的稀松布、篩網(wǎng)、織造或非織造材料或者它們的組 合。優(yōu)選的覆蓋層是點粘結(jié)的稀松布或者紡粘材料如聚丙烯。這類材料可從美國田納西州 奧德希克利市(Old Hickory, TN)的BBA Fiberweb Americas以各種材料重量購得。優(yōu)選 的覆蓋層稀松布可包含纖維，穿過過濾器的增加的壓降最小。稀松布的優(yōu)選重量為10-100 克/米2。較好地，覆蓋層稀松布重量約為20-50克/米2。
如圖2所示，在上述任一實施方式中可增加一層或多層吸附劑層14，以制造同時 高效濾除微粒和蒸氣的組合過濾器。吸附劑層14的吸附劑可進行處理，用于吸附特定的氣 態(tài)物質(zhì)如酸氣體。吸附劑可包含純吸附材料例如顆?；钚蕴?，或者可以是填充的產(chǎn)品基質(zhì)例如混合 有填充部分空隙的吸附劑的多孔聚合物材料的平臺。其他可能性包括浸漬吸附劑的非織造 織物或者在稀松布上的珠粒，非織造織物或稀松布可以是纖維素的或者聚合物的，并可包 含乳膠或其他粘結(jié)劑。其他的可能性包括吸附劑和為聚合物或陶瓷的填充劑的多孔鑄件或 小片。進一步的可能性是由碳或碳化纖維制造的織造材料或非織造材料。吸附劑還可以是 不同類型吸附劑的混合物。可包含在吸附劑層中的吸附劑材料的例子包括物理吸附劑(如，硅膠、活性碳、 活性氧化鋁、分子篩、吸附劑聚合物等)；化學吸附劑(如，高錳酸鉀、碳酸鉀、碘化鉀、碳酸 鈣、硫酸鈣、碳酸鈉、氫氧化鈉、氫氧化鈣、粉末金屬或用于清除氣相污染物的其他反應(yīng)物)； 以及這些材料的混合物。還可以對吸附劑進行處理，以改變表面化學性質(zhì)，以調(diào)節(jié)極性或非 極性被吸附物如水分的吸附。對某些應(yīng)用，使用多層吸附材料可能是有益的，各層含有不同 的吸附劑，當污染物從該過濾器通過時以選擇性地除去不同的污染物。吸附劑層的優(yōu)選實施方式利用填充吸附劑的PTFE片材，其中，吸附劑顆粒被俘獲 在網(wǎng)狀PTFE結(jié)構(gòu)中，如美國專利4，985，296 (Mortimer，Jr.)揭示的，該專利通過參考結(jié)合 于本文。優(yōu)選顆粒以多峰(例如雙峰或三峰)方式裝填，其中不同尺寸的顆粒散置在彼此 附近以盡可能多地填充粒子之間的空隙空間，以便使得在芯體中包含的活性材料的量最大 化。這種技術(shù)也允許許多種吸附劑被填充到單層中。然后可以使得該芯體膨脹以允許通過 一些氣流流過，或通過針刺以允許更多氣流通過。該芯體的膨脹降低了裝填密度但提供更 均勻的吸附劑屏障。可能需要諸如針刺等之類的其它處理來獲得所需吸附性能和氣流性 能。可將PTFE/吸附劑復合物的厚度制造為從小于0.001〃到0.400〃或更厚，允許在 完成的過濾器厚度和吸附劑裝填中有較大靈活性。另外，在多峰裝填和物理壓縮的情況下， 吸附劑密度可能達到真密度的大約80-95%，所以每單位體積可填裝最多的吸附劑材料。使 用PTFE作為粘合元素不會堵塞吸附劑的孔，而諸如丙烯酸樹脂、熔融塑料樹脂等粘合劑則 會造成這些孔的堵塞?？蓪⒘硗獾膶犹砑拥竭^濾器中，用于獲得尺寸穩(wěn)定性、纖維保持、過濾器剛性、用 于放置的視覺確認的可視性增強、用于自動安裝的過濾器機械化處理的方便性。還可添加 另外的過濾層以增強對特定顆粒的過濾或用作過濾功能性的覆蓋層、稀松布以及支撐層， 而不背離本發(fā)明的精神。圖3是本發(fā)明單元10的等比例圖，顯示具有折疊過濾介質(zhì)12的中心部分和密封 的周邊11，密封的周邊11可為折疊過濾器10增加穩(wěn)定性。該實施方式中的褶狀物垂直于 矩形過濾器單元10的長邊。圖4A和4B分別是過濾器單元10的同一實施方式的頂部截面 圖和側(cè)視圖。圖5是本發(fā)明過濾器單元10的另一個實施方式的等比例圖，該單元包括具有密封 周邊11的矩形折疊過濾器單元，其中，褶狀物平行于過濾器單元10的長邊。圖6是過濾器單元10的另一個實施方式的等比例圖，該單元包括只有兩個密封邊
7緣的折疊過濾器，其中，褶狀物垂直于密封邊緣11和11a。在該實施方式中，褶狀物通過兩 個密封邊緣IlUla達到穩(wěn)定。在另一個實施方式中，兩個邊緣中可能只有一個被密封。這 種過濾器仍具有一定程度的尺寸穩(wěn)定性，但沒有由包括兩個垂直于褶狀物的相反密封邊緣 的情況提供的穩(wěn)定性高。圖7是過濾器10的頂截面圖，顯示該過濾器放置并把持在磁盤驅(qū)動器中在相對設(shè) 置的C-溝道18之間。圖8是本發(fā)明的實施方式的頂截面圖，顯示放置在磁盤驅(qū)動器20內(nèi)的情況。磁盤 驅(qū)動器20包括在記錄磁盤23上方的電樞22上的讀取和記錄磁頭21。過濾器可以是任何形狀，不一定是矩形。例如，圖9是本發(fā)明過濾器單元的另一個 實施方式的側(cè)視圖，該過濾器單元包括折疊的過濾器，具有在包圍過濾器周邊的密封焊接 的介質(zhì)周邊邊界，并進一步包含從過濾器的相反側(cè)延伸的兩個垂片16。圖中顯示有兩個垂 片，但是可以使用具有一個或多個垂片或者其他結(jié)構(gòu)的過濾器。垂片可以是小型或大的特 征物，并可用于幾種功能。本文所述的垂片能較好適合于裝置的C-溝道上，如圖9所示。這 可能有助于密封過濾器并降低氣流和微粒在C-溝道頂部流過的可能性。還能增加過濾器 面積，提高過濾器效率。也可以在側(cè)面使用垂片以形成過濾器和C-溝道之間的阻擋配合， 幫助將過濾器固定在原位。圖IOA和IOB分別是圖9所示的實施方式安裝在C-溝道18時的俯視圖和側(cè)視圖。這些具有密封的增強邊緣的折疊過濾器可采用任意的幾種方法制造。折疊設(shè)備將 過濾器介質(zhì)以波紋或折疊模式折疊和固定。然后，將折疊的過濾材料模切并將至少一個邊 緣密封以固定褶狀物?？梢酝ㄟ^加熱或加壓或者通過熔合材料層的其他方式進行密封。密 封和模切可以在一個步驟或兩個步驟中進行模切步驟后進行密封步驟?；蛘?，可以采用在 加熱和加壓下進行模切并對邊緣密封的一步工藝。在一步法或兩步法中可以采用超聲波、 激光切割和其他切割以及密封方法?；蛘?，在一步工藝中將過濾層制成波紋狀或折疊，并密 封，在一步工藝中用緊密配合工具折疊介質(zhì)或?qū)橘|(zhì)形成褶皺，切割并密封過濾器的邊緣。
磁盤驅(qū)動器再循環(huán)過濾器測試該試驗設(shè)計用來測定微粒過濾器從初始態(tài)時已經(jīng)載有微粒的磁盤驅(qū)動器的 內(nèi)部降低微粒濃度的效率。本文中采用國際磁盤驅(qū)動器設(shè)備和材料協(xié)會(Disk Drive Equipment and Materials Association)推薦的試驗，用于測試和比較再循環(huán)過濾器在硬 盤驅(qū)動器上的清潔時間。再循環(huán)過濾器的性能按照清潔時間量化，清潔時間定義為將驅(qū)動 器內(nèi)微粒計數(shù)減少到其初始值的一定百分比。典型的清潔時間是除去驅(qū)動器中90%微粒所 需的時間，并稱作t9(l值。t9(l值越小表明清潔越快，過濾器的性能獲得提高。為測試再循環(huán)過濾器的效率，在改進的磁盤驅(qū)動器上測試過濾器樣品。驅(qū)動器上 已有的通氣孔保持敞開，在從驅(qū)動器環(huán)境中取樣但沒有有意將空氣引入該驅(qū)動器的期間， 提供從驅(qū)動器排放任何過壓并使空氣進入驅(qū)動器。在基板上固定蓋子。根據(jù)磁盤旋轉(zhuǎn)方向， 將提供0. 1微米和0. 5微米微粒的氣溶膠的管子連接于在過濾器上游的驅(qū)動器蓋子的進 口。微粒是0. 1微米和0. 5微米的聚苯乙烯膠乳球體(由Duke Scientific Corporation 提供)。將微粒在去離子水中稀釋，并用TSI公司提供的霧化器進行霧化。用于從驅(qū)動器 內(nèi)部氣氛取樣的第二管子將激光微粒計數(shù)器(LPC)連接于過濾器下游驅(qū)動器蓋子上。使用 微粒測量系統(tǒng)有限公司(Particle Measuring Systems Inc.)的HS-LAS型激光氣溶膠分光計對微粒計數(shù)。通過精確質(zhì)量流速控制器將樣品自驅(qū)動器流出通過計數(shù)器的流速保持在 0. 833厘米7秒，自外殼流過LPC的流速保持在15厘米7秒。通過LPC，每秒一次獲得微 粒的計數(shù)并儲存在計算機磁盤驅(qū)動器中用于分析。該測試在驅(qū)動器中進行，所示驅(qū)動器位 于層流凈化罩中，該層流凈化罩在空氣進口配備HEPA過濾器，以保持極低環(huán)境微粒濃度的 受控測試環(huán)境。 再循環(huán)過濾器測試包括以下順序的步驟關(guān)閉驅(qū)動器，使負載微粒的空氣從驅(qū)動 器通過。監(jiān)測微粒計數(shù)，直到達到穩(wěn)定態(tài)計數(shù)，對0. 1微米粒徑的微粒通常約為2000-3000 計數(shù)/秒，對0.5微米的微粒通常為1000計數(shù)/秒。這種穩(wěn)定態(tài)計數(shù)定義為Ca。然后，啟 動驅(qū)動器，監(jiān)測計數(shù)直到獲得新的穩(wěn)定態(tài)，定義為Css。濃度下降的因素是空氣再循環(huán)通過 驅(qū)動器以及過濾器收集了微粒，微粒對驅(qū)動器表面的撞擊以及其他微粒收集方式。然后計 算Ca/Css的比值。然后按照以下等式計算T9tl時間，其中V9gais =驅(qū)動器中空氣體積(對許 多3. 5”驅(qū)動器約為100毫升)，Qrt =進入驅(qū)動器的空氣的流速，通常假設(shè)等于進入微粒計 數(shù)器的流速，只要驅(qū)動器保持內(nèi)部相對大氣壓，在此情況該流速為0. 833厘米3/秒過濾器性能可由過濾器的相對清潔比(RCUR)表示。RCUR通過將驅(qū)動器+過濾器的t9(1時間除以沒有過濾器條件下測量的t9(1時間的方 式計算。只有驅(qū)動器的t9(l時間使用與上述類似的等式計算，但是不同是Ca和Css是在驅(qū) 動器中沒有過濾器條件下達到的穩(wěn)態(tài)。通過比較驅(qū)動器中過濾器的清潔時間與沒有過濾器 的驅(qū)動器的清潔時間，分離過濾器的效應(yīng)，比較不同的過濾器。RCUR值越小表明性能更好。進行至少兩個獨立的試驗，以檢測再現(xiàn)性并消除背景計數(shù)中噪音產(chǎn)生的誤差。將 兩個試驗的結(jié)果取平均，對0. 1微米的微粒獲得平均清潔時間。從驅(qū)動器取出空氣樣品送 至微粒計數(shù)器，載有微粒的空氣通過進口進入驅(qū)動器。微粒將撞擊在驅(qū)動器表面或者最終 從氣流沉降，并且在設(shè)置過濾器時收集在過濾器上。
權(quán)利要求
一種用于磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器包括a)具有第一端和與所述第一端相反的第二端的過濾介質(zhì)，b)從第一端延伸到第二端的褶狀物，所述過濾介質(zhì)的第一端和第二端各自具有基本平面的強化邊緣，所述強化邊緣將褶狀物互連。
2.如權(quán)利要求1所述的再循環(huán)過濾器，其特征在于，硬化邊緣與折疊過濾介質(zhì)為一整體。
3.如權(quán)利要求1所述的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括非織造介質(zhì)。
4.如權(quán)利要求1所述的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括紡粘介質(zhì)。
5.如權(quán)利要求1所述的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括膜介質(zhì)。
6.如權(quán)利要求1所述的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括駐極體介質(zhì)。
7.如權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 8.如權(quán)利要求2所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 9.如權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 10.如權(quán)利要求4所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 11.如權(quán)利要求5所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 12.如權(quán)利要求6所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括吸附劑介質(zhì)或?qū)印?br> 13.如權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
14.如權(quán)利要求2所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
15.如權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
16.如權(quán)利要求4所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
17.如權(quán)利要求5所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
18.如權(quán)利要求6所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括在過濾器層的 任一側(cè)上或各側(cè)上的一層或多層覆蓋層或稀松布層。
19.如權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
20.如權(quán)利要求2所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
21.如權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
22.如權(quán)利要求4所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
23.如權(quán)利要求5所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
24.如權(quán)利要求6所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括包圍過濾器周 邊的密封邊緣。
25.如權(quán)利要求6所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括 一層或多層駐極體過濾介質(zhì)。
26.如權(quán)利要求5所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，其特征在于，所述過濾介質(zhì)包括 一層或多層PTFE膜過濾介質(zhì)。
27.如權(quán)利要求1所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
28.如權(quán)利要求2所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
29.如權(quán)利要求3所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
30.如權(quán)利要求4所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
31.如權(quán)利要求5所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
32.如權(quán)利要求6所述的磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器，該過濾器還包括至少一個從所 述過濾器延伸的垂片。
33.一種制造用于磁盤驅(qū)動器的再循環(huán)過濾器的方法，該方法包括以下步驟a)提供過濾介質(zhì)片材，b)將過濾介質(zhì)片材折疊，c)利用加熱和加壓密封該片材，以限定獨立的折疊過濾介質(zhì)區(qū)，各過濾介質(zhì)區(qū)具有通 過在褶狀物的相反端部的密封區(qū)互連的褶狀物，和d)將密封區(qū)中的過濾介質(zhì)分離，使兩個或更多個折疊過濾介質(zhì)的區(qū)域分離，各分離部 分具有通過密封區(qū)互連的褶狀物。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于通過提供改進性能的再循環(huán)過濾器，對諸如來自諸如易受污染物影響的電子或光學設(shè)備(例如計算機磁盤驅(qū)動器)之類的受限環(huán)境的微粒和蒸氣相污染物之類的污染物進行過濾的裝置。
文檔編號B01D29/07GK101952008SQ200980106581
公開日2011年1月19日 申請日期2009年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月22日
發(fā)明者A·P·洛庫希歐, E·G·多伯, R·吉杜馬爾 申請人:戈爾企業(yè)控股股份有限公司