專利名稱：精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種精餾設(shè)備，具體涉及一種精餾設(shè)備的精餾塔與冷 凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)。廣泛用于石油、化工、輕工、食品、冶金等部門。 屬精餾設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
(二)
背景技術(shù)：
精餾是一種利用回流使液體混合物得到高純度分離的蒸餾方法。是工 業(yè)上應(yīng)用最廣的液體混合物分離操作。在實(shí)際運(yùn)用中，精餾塔的一般結(jié)構(gòu)
如圖1所示。由精餾塔2、再沸器1、冷凝器3以及連接管路等組成。精餾 塔供汽液兩相接觸進(jìn)行相際傳質(zhì)，位于精餾塔塔頂?shù)睦淠魇箽怏w得到部 分冷凝，冷凝器中的部分凝液作為回流液3.1返回精餾塔塔頂，其余餾出 液是塔頂產(chǎn)品3.2。位于精餾塔塔底的再沸器使液體部分汽化，氣體沿精餾 塔上升，余下的液體作為塔底產(chǎn)品1.1。進(jìn)料加在精餾塔的中部。進(jìn)料中的 液體和精餾段來的液體一起沿塔下降，進(jìn)料中的氣體和提餾段來的氣體一 起沿塔上升。在整個(gè)精餾塔中，汽液兩相逆流接觸，進(jìn)行相際傳質(zhì)。液相 中的易揮發(fā)組分進(jìn)入汽相，汽相中的相對高沸點(diǎn)組分轉(zhuǎn)入液相。
精餾過程的核心在于回流，而冷凝和再沸器的加熱必須消耗大量能量。 降低能耗是精餾過程發(fā)展的重大課題。由精餾塔的原理可知，冷凝器是實(shí)現(xiàn)氣體冷凝，生成塔頂產(chǎn)品和回流液的設(shè)備，對于精餾塔內(nèi)部氣液循環(huán)起 到至關(guān)重要的作用。
現(xiàn)在普遍使用的精餾設(shè)備中，冷凝器是單獨(dú)安裝在精餾塔外部。由于 管程損失，冷凝器以至整個(gè)精餾設(shè)備無法實(shí)現(xiàn)較高的真空度，因此物料的 沸點(diǎn)較高，整個(gè)設(shè)備需要在較高的溫度下完成精餾，這大大地增加了加熱 的費(fèi)用。由于冷凝器的冷卻費(fèi)用以及再沸器的加熱費(fèi)用在整個(gè)操作費(fèi)用中 所占份額較大，因此改進(jìn)冷凝器的工作效率從而降低其能耗、降低系統(tǒng)溫 度從而減少再沸器的加熱費(fèi)用，這些方面都會(huì)為生產(chǎn)帶來巨大的經(jīng)濟(jì)效益。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供一種整個(gè)精餾設(shè)備的溫度 都能相應(yīng)降低的精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的 一種精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之 安裝連接結(jié)構(gòu)，包括精餾塔、再沸器和冷凝器，所述冷凝器直接安裝在精 餾塔頂部，氣體通過塔內(nèi)部進(jìn)入冷凝器，產(chǎn)生的回流直接向下流入精餾塔， 由精餾塔內(nèi)部的回流器控制回流比。
本實(shí)用新型精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)，所述再沸器 直接安裝在精餾塔底部。液體在塔內(nèi)流入再沸器后經(jīng)過再沸后再次進(jìn)入精 餾塔。
本實(shí)用新型精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)，所述再沸器 可單獨(dú)安裝在所述精餾塔的外部。
本實(shí)用新型通過將冷凝器直接安裝在精餾塔頂部，降低了對氣流的阻力，可以減小精餾塔塔頂與塔底之間的壓差，降低塔底操作的壓強(qiáng)，從而 可以減低塔底溶液的泡(沸)點(diǎn)，降低整個(gè)設(shè)備的工作溫度，降低對精餾 塔加熱劑的要求，還可以防止塔底物料的分解。
采用本實(shí)用新型連接結(jié)構(gòu)后，整個(gè)精餾設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)較高的真空度， 物料的泡(沸)點(diǎn)也相應(yīng)降低，從而整個(gè)精餾設(shè)備的溫度都能相應(yīng)降低， 費(fèi)用也大大降低。與此同時(shí)，由于精餾時(shí)溫度較低，可以適用于精餾高溫 易分解的產(chǎn)品。另外，較低的精餾溫度也能減少事故，大大提高了整體設(shè) 備的安全性。與此同時(shí)，將冷凝器直接安放在精餾塔頂部，省去了安放冷 凝器的空間，減少了設(shè)備的占地面積，進(jìn)一步節(jié)約生產(chǎn)成本。


圖1為以往精餾設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型精餾設(shè)備的立體圖。 圖3為圖2的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中精餾塔2、再沸器l、冷凝器3、上法蘭4、下法蘭5;塔底產(chǎn) 品l.l、精餾塔本體2.1、回流裝置2.2、回流液3.1、塔頂產(chǎn)品3.2。
具體實(shí)施方式
參見圖2~3，本實(shí)用新型涉及的精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連 接結(jié)構(gòu)，主要由精餾塔2、再沸器l、冷凝器3和物料管道組成。所述再沸 器1直接安裝在精餾塔2底部，與精餾塔2之間采用下法蘭5連接；所述 冷凝器3直接安裝在精餾塔2頂部，與精餾塔2之間采用上法蘭4連接。實(shí)施例2:
本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同之處在于僅將冷凝器直接安裝在精餾塔 頂部，而將再沸器單獨(dú)安裝在精餾塔外部。
本實(shí)用新型在以下四種產(chǎn)品精餾的實(shí)際運(yùn)用中都取得了很好的效果。
1、 采用一般設(shè)備精餾甲基苯三唑(TTA)時(shí)真空度為500~1000Pa， 塔溫為160~190°C，再沸器溫度為200-210°C。采用本實(shí)用新型的冷凝設(shè)備 后精餾甲基苯三唑時(shí)真空度為30 300Pa，塔溫為145 165°C，再沸器溫度 為175 1卯。C。
2、 采用一般設(shè)備精餾苯三唑(BTA)時(shí)真空度為600 1000 Pa，塔溫 為160 190°C，再沸器溫度為190 21(TC。采用本實(shí)用新型的冷凝設(shè)備后精 餾苯三唑時(shí)真空度為30 300Pa，塔溫為130 17(TC，再沸器溫度為16(M85°C。
3、 采用一般設(shè)備精餾二苯甲酮(BP)時(shí)真空度為500 900Pa，塔溫為 120 150°C，再沸器溫度為200 22(TC。采用本實(shí)用新型的冷凝設(shè)備后精餾 二苯甲酮時(shí)真空度為120 300Pa，塔溫為95 125""C，再沸器溫度為165~185 °C。
4、 采用一般設(shè)備精餾鄰苯二胺(OPDA)時(shí)真空度為600~1000 Pa， 塔溫為160~170°C，再沸器溫度為190~220°C。采用本實(shí)用新型的冷凝設(shè)備 后精餾鄰苯二胺時(shí)真空度為100 300 Pa，塔溫為135~140°C，再沸器溫度 為160~180°C。
5、 采用一般設(shè)備精餾鄰甲苯二胺(OTDA)時(shí)真空度為500 1000Pa，塔溫為120 140°C，再沸器溫度為145~165°C。采用本實(shí)用新型的冷凝設(shè)備 后精餾鄰苯二胺時(shí)真空度為100-200 Pa，塔溫為105 110°C，再沸器溫度 為130 135°C。
由實(shí)際數(shù)據(jù)對比可以看出，采用本實(shí)用新型之安裝連接結(jié)構(gòu)之后，可 以有效地降低精餾設(shè)備溫度，同時(shí)提高產(chǎn)品收率以及減少采集產(chǎn)品的時(shí)間。 這大大提高了生產(chǎn)成本以及生產(chǎn)效率。同時(shí)，較低溫度的精餾也使得生產(chǎn) 更
加安全，能有效地降低事故發(fā)生率，使生產(chǎn)更安全更順利。
權(quán)利要求1、一種精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)，包括精餾塔(2)、再沸器(1)和冷凝器(3)，其特征在于所述冷凝器(3)直接安裝在精餾塔(2)頂部。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接 結(jié)構(gòu)，其特征在于所述再沸器(1)安裝在精餾塔(2)底部。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種一種精餾設(shè)備的精熘塔與冷凝器之安裝 連接結(jié)構(gòu)，其特征在于所述再沸器(1)單獨(dú)安裝在所述精餾塔(2)的外部。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種精餾設(shè)備的精餾塔與冷凝器之安裝連接結(jié)構(gòu)，用于石油、化工、輕工、食品、冶金等部門。包括精餾塔(2)、再沸器(1)和冷凝器(3)，其特征在于所述冷凝器(3)直接安裝在精餾塔(2)頂部。采用本實(shí)用新型連接結(jié)構(gòu)后，整個(gè)精餾設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)較高的真空度，物料的沸點(diǎn)也相應(yīng)降低，從而整個(gè)精餾設(shè)備的溫度都能相應(yīng)降低，費(fèi)用也大大降低。
文檔編號B01D3/14GK201244373SQ200820039429
公開日2009年5月27日 申請日期2008年8月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月21日
發(fā)明者斐 楊, 芳 王 申請人:芳 王