專利名稱：真空蒸餾塔中具有緩沖功能的低塔阻分布器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種化工物料真空蒸餾塔的器件，具體是涉及一種應(yīng)用于真 空蒸餾塔的噴淋液分布器，或稱噴淋器。
背景技術(shù)：
化工物料的真空蒸餾塔由于壓力較低，對塔體上下的壓力差非常敏感。如果 塔內(nèi)氣體流動的阻力大，使蒸餾塔頂部和底部壓差偏大，往往是塔釜溫度偏高， 釜液過熱變質(zhì)的主要原因之一。
另外，化工物料的真空蒸餾塔由于直徑較大，因此對其內(nèi)部的精餾填料的均 勻噴淋要求就更高。這一均勻的含義不但是指空間上的均勻，而且也指時間上的 均勻，即要求噴淋液體的流量穩(wěn)定而且不間斷。
目前， 一般用于噴淋的噴淋液分布器往往設(shè)計成樹枝狀，這將占居蒸餾塔中 過多的截面積，從而增加塔內(nèi)氣體流動的阻力，使蒸餾塔操作指標(biāo)變壞。而且， 這類分布器的噴淋液在整個塔的截面積上的分布也不容易均勻。
此外，由于精餾塔上噴淋的液體物料往往是由活柱泵、隔膜泵、活塞泵等往 復(fù)性、周期性的泵注入，或是前置精餾塔的塔釜通過液位調(diào)節(jié)閥排放而來，因 此，進(jìn)入液體分布器的物料流量常常是間歇性或不穩(wěn)定甚至是間斷的。目前通用 的液體分布器還無法解決噴淋物料流量不穩(wěn)定的問題。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種可應(yīng)用于真空蒸餾 塔的低塔阻、分布均勻且具有流量緩沖功能的的噴淋液分布器(或稱噴淋器)。
本實用新型中的真空蒸餾塔中具有緩沖功能的低塔阻分布器，為高環(huán)形，附 貼安裝在塔壁內(nèi)側(cè)；其上端開口，下端有底板，內(nèi)外壁間形成一個上大下小的環(huán) 形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設(shè)有物料進(jìn)口；內(nèi)壁的上口是塔內(nèi)氣流的 通道，上口的直徑為塔內(nèi)徑的80 90%;分布器內(nèi)壁和底板上開有噴淋液孔，內(nèi) 壁上的噴淋液孔從上至下逐層環(huán)狀分布，內(nèi)壁的噴淋液孔上安裝有噴嘴。
分布器的高度是真空蒸餾塔內(nèi)徑的0. 5 2倍。
該分布器具有較大的容積和高度；當(dāng)采用周期性排液的泵，例如活柱泵、隔 膜泵、活塞泵等向塔注入物料，或者是前置精餾塔塔釜間歇性或不穩(wěn)定排液時， 進(jìn)入分布器中的液體可以在分布器中滯留而流量得到緩沖，使噴淋液流量穩(wěn)定和 不間斷。
本實用新型的分布器(參考附圖)，具有較大的高度，附貼在蒸餾塔壁內(nèi)， 其外壁即塔壁，內(nèi)壁是上小下大的錐臺面，內(nèi)壁的上口是塔內(nèi)氣流的通道，上口 的直徑可以設(shè)計為塔內(nèi)徑的80 90%，因此氣流阻力較??；內(nèi)外壁間形成上大下
小的環(huán)形空間，其上端開口，下端有底板。分布器的內(nèi)外壁和底板之間構(gòu)成一個 儲液的空腔，該空腔處的塔壁上設(shè)有物料進(jìn)口。
分布器的內(nèi)壁和底板上開有噴淋液孔，內(nèi)壁的孔上安裝有噴嘴，細(xì)管狀的噴 嘴從上至下逐層環(huán)狀分布于內(nèi)壁上。噴嘴的長度按一定規(guī)律設(shè)計，使分布器在不 同液面高度時都能均勻噴淋到塔的整個面積；噴嘴焊接或螺接于分布器的內(nèi)壁 上，噴嘴具有向下彎曲的末端。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果
本實用新型的分布器設(shè)計成高環(huán)形，附貼安裝在塔壁內(nèi)側(cè)，使得塔內(nèi)氣流通 道仍保留著較大的截面積，上升氣體流動通暢，阻力較低；分布器的儲液空腔具 有較大的容積，可以容納更多的液體以緩沖流量的變化，使噴淋液流量穩(wěn)定和不 間斷。分布器在不同高度分布了按預(yù)定設(shè)計的不同長度的噴嘴，使得噴淋液在不 同流量時都能均勻地噴到塔內(nèi)各點。


圖l是本實施例中分布器安裝示意圖2是本實施例中圖1中A-A向噴嘴和噴淋液孔的位置分布剖視圖3是本實施例中噴嘴安裝示意圖4是本實施例中圖3中B-B向螺紋連接剖視圖。
圖中1-分布器內(nèi)壁，2-分布器內(nèi)腔，3-底板，4-塔壁，5-噴嘴，6-物料進(jìn) 口， 7-分布器外壁，8-底板上的噴淋液孔。
具體實施方式
參考附圖，下面進(jìn)行詳細(xì)描述
本實施例中的分布器(見圖l)，包括一個上口比下口小、呈圓錐臺面狀的 內(nèi)壁，內(nèi)壁的上口直徑等于塔徑的90%左右；分布器內(nèi)外壁和底板之間構(gòu)成一個
儲液的內(nèi)腔，上端不封口，內(nèi)腔處的外壁上設(shè)有物料進(jìn)口；底板上有一系列噴淋 液孔噴灑物料；若干噴嘴從上至下逐層環(huán)狀分布于內(nèi)壁上，噴嘴的長度按一定規(guī) 律分布，使物料在不同流量，即內(nèi)腔中的液位不同時，均能均勻噴灑到塔的截面 上；噴嘴具有向下彎曲的末端。
本實用新型中分布器內(nèi)壁還可以是上口與下口大小相同，呈圓柱狀。
本實施例中，噴嘴是螺接于內(nèi)壁上的(見圖3)，拆卸方便，易于更換。也 可以采用焊接的固定方式。噴嘴長度視需要而定
最后，還需要指出的是，以上列舉的僅是本實用新型的具體實施例。顯然， 本實用新型不限于以上實施例，還可以有許多變形。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能從 本實用新型公開的內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的所有變形，均應(yīng)認(rèn)為是本實用新型的 保護范圍。
權(quán)利要求1、一種真空蒸餾塔中具有緩沖功能的低塔阻分布器，其特征在于，分布器為高環(huán)形，附貼安裝在塔壁內(nèi)側(cè)；其上端開口，下端有底板，內(nèi)外壁間形成一個上大下小的環(huán)形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設(shè)有物料進(jìn)口；內(nèi)壁的上口是塔內(nèi)氣流的通道，上口的直徑為塔內(nèi)徑的80～90％；分布器內(nèi)壁和底板上開有噴淋液孔，內(nèi)壁上的噴淋液孔從上至下逐層環(huán)狀分布，內(nèi)壁的噴淋液孔上安裝有噴嘴。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有緩沖功能的低塔阻分布器，其特征在于， 分布器的高度是真空蒸餾塔內(nèi)徑的0.5 2倍。
專利摘要本實用新型涉及一種化工物料真空蒸餾塔的器件，旨在提供一種應(yīng)用于真空蒸餾塔的噴淋液分布器或稱噴淋器。本實用新型中低塔阻分布器為高環(huán)形，附貼安裝在塔壁內(nèi)側(cè)；其上端開口，下端有底板，內(nèi)外壁間形成一個上大下小的環(huán)形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設(shè)有物料進(jìn)口；內(nèi)壁的上口是塔內(nèi)氣流的通道，上口的直徑為塔內(nèi)徑的80～90％；分布器內(nèi)壁和底板上有按工藝要求設(shè)計的不同大小、不同長短、不同方向和一定分布規(guī)律的孔或噴嘴。分布器使得塔內(nèi)氣流通道仍保留著較大的截面積，上升氣體流動通暢，阻力較低，可以容納更多的液體以緩沖流量的變化，使噴淋液流量穩(wěn)定和不間斷，噴嘴設(shè)計使得噴淋液在不同流量時都能均勻地噴到塔內(nèi)各點。
文檔編號B01D3/10GK201189407SQ20072018368
公開日2009年2月4日 申請日期2007年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月29日
發(fā)明者吳兆立 申請人:吳兆立