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一種工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備的制造方法

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一種工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及環(huán)保設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域,特別是工業(yè)污廢水處理設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]學(xué)需氧量(C0D)表示在強(qiáng)酸性條件下重鉻酸鉀氧化一升污水中有機(jī)物所需的氧量,可大致表示污水中的有機(jī)物量。
[0003]現(xiàn)有的污廢水采用化工、生化處理或臭氧處理來(lái)降解有機(jī)物含量,化工處理方法會(huì)產(chǎn)生二次污染,生化池占地面積大、成本高昂,菌種對(duì)污廢水要求高,所以化工和生化處理方法對(duì)環(huán)境影響大;
[0004]臭氧氧化性強(qiáng),對(duì)污水中的有機(jī)物具有一定的處理能力,但臭氧水處理工藝現(xiàn)在并未大范圍投入應(yīng)用,究其原因主要是臭氧水處理工程一次性投資大、運(yùn)行費(fèi)用較高等,根據(jù)目前的臭氧制取技術(shù),每制取1kg臭氧約耗電在20kW.]!,按照每分解lkgCOD需要3kg的臭氧計(jì)算,則每處理lkgCOD大概需要30元電費(fèi)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的就是為了解決傳統(tǒng)工藝對(duì)污廢水處理過(guò)程中產(chǎn)生二次污染或能耗高的問(wèn)題,提出一種工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備,能夠使工業(yè)污廢水處理過(guò)程無(wú)二次污染,處理效率高,能耗低。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出了一種工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備,包括基礎(chǔ)支架、超聲波發(fā)生器、超聲波電控箱、綜合水池、高壓反應(yīng)罐、臭氧發(fā)生器、臭氧控制器、氧氣瓶和高壓空氣水栗;所述氧氣瓶與所述臭氧發(fā)生器之間設(shè)置有輸氧管,所述超聲波發(fā)生器設(shè)置在所述高壓反應(yīng)罐的頂部,所述高壓反應(yīng)罐的底部與所述高壓空氣水栗之間設(shè)置有高壓進(jìn)水管,所述臭氧發(fā)生器與所述臭氧控制器之間設(shè)置有第一臭氧管,所述臭氧控制器與所述高壓空氣水栗之間設(shè)置有第二臭氧管,所述超聲波發(fā)生器和所述超聲波電控箱導(dǎo)線(xiàn)連接;所述超聲波發(fā)生器、超聲波電控箱、綜合水池、高壓反應(yīng)罐、臭氧發(fā)生器、臭氧控制器和高壓空氣水栗均設(shè)置在所述基礎(chǔ)支架上;所述綜合水池具有三個(gè)倉(cāng),具體包括位于綜合水池一側(cè)的第一水倉(cāng)、位于綜合水池另一側(cè)并與第一水倉(cāng)共有一個(gè)壁面的第二水倉(cāng)和第三水倉(cāng),所述第二水倉(cāng)和第三水倉(cāng)之間設(shè)置有一個(gè)水倉(cāng)隔板,所述第一水倉(cāng)的一端設(shè)置有污廢水入口,所述第二水倉(cāng)的側(cè)邊設(shè)置有凈化水出口,所述第三水倉(cāng)的端部設(shè)置有高壓水入口 ;所述第一水倉(cāng)的另一端與所述高壓空氣水栗之間設(shè)置有高壓抽水管,所述高壓反應(yīng)罐的上部與所述高壓水入口之間設(shè)置有高壓水導(dǎo)管;所述第二水倉(cāng)的外端頂部設(shè)置有電機(jī)驅(qū)動(dòng)的水泡沫刮板。
[0007]作為優(yōu)選,所述第一水倉(cāng)的底部設(shè)置有回流孔,所述回流孔處設(shè)置有回流管,所述回流管一端經(jīng)回流孔與第一水倉(cāng)連通,另一端與所述第二水倉(cāng)相連通。
[0008]作為優(yōu)選,所述污廢水入口、高壓抽水管、凈化水出口和高壓水導(dǎo)管上均設(shè)置有閥門(mén)。
[0009]作為優(yōu)選,所述水倉(cāng)隔板的高度低于所述第二水倉(cāng)和第三水倉(cāng)的側(cè)邊高度。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型進(jìn)行污廢水凈化處理所采用的原理是臭氧處理與超聲波處理相結(jié)合的方式,通過(guò)超聲波高頻振動(dòng)將臭氧與污廢水在壓力環(huán)境下進(jìn)行混合溶解,提高了污廢水處理中臭氧的利用效率和反應(yīng)時(shí)效,通過(guò)在綜合水池的第二水倉(cāng)上部設(shè)置水泡沫刮板,可將位于水表面帶有顆粒雜物的氣泡去除干凈;本實(shí)用新型提供的設(shè)備在處理污廢水時(shí)不使用化工原料,不存在二次污染的問(wèn)題;設(shè)備采用基礎(chǔ)支架來(lái)架設(shè)整體,整套設(shè)備占地面積小,方便移動(dòng)。
[0011]本實(shí)用新型的特征及優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)實(shí)施例結(jié)合附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0012]【【附圖說(shuō)明】】
[0013]圖1是本實(shí)用新型工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備前側(cè)整體結(jié)構(gòu)示意圖;
[0014]圖2是本實(shí)用新型工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備后側(cè)整體結(jié)構(gòu)示意圖;
[0015]圖3是本實(shí)用新型中綜合水池的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖中:1_基礎(chǔ)支架、2-超聲波發(fā)生器、3-超聲波電控箱、4-綜合水池、5-高壓反應(yīng)罐、6-臭氧發(fā)生器、7-氧氣瓶、8-高壓空氣水栗、401-水泡沫刮板、402-污廢水入口、403-凈化水出口、404-高壓水入口、405-回流管、406-回流孔、407-第二水倉(cāng)、408-第三水倉(cāng)、409-第一水倉(cāng)、410-水倉(cāng)隔板、501-高壓水導(dǎo)管、502-高壓進(jìn)水管、601-臭氧控制器、602-第一臭氧管、603-第二臭氧管、701-輸氧管、801-高壓抽水管。
[0017]【【具體實(shí)施方式】】
[0018]參閱圖1、圖2和圖3,本實(shí)用新型一種工業(yè)污廢水超聲波降解凈化處理設(shè)備,包括基礎(chǔ)支架1、超聲波發(fā)生器2、超聲波電控箱3、綜合水池4、高壓反應(yīng)罐5、臭氧發(fā)生器6、臭氧控制器601、氧氣瓶7和高壓空氣水栗8 ;所述氧氣瓶7與所述臭氧發(fā)生器6之間設(shè)置有輸氧管701,所述超聲波發(fā)生器2設(shè)置在所述高壓反應(yīng)罐5的頂部,所述高壓反應(yīng)罐5的底部與所述高壓空氣水栗8之間設(shè)置有高壓進(jìn)水管502,所述臭氧發(fā)生器6與所述臭氧控制器601之間設(shè)置有第一臭氧管602,所述臭氧控制器601與所述高壓空氣水栗8之間設(shè)置有第二臭氧管603,所述超聲波發(fā)生器2和所述超聲波電控箱3導(dǎo)線(xiàn)連接;所述超聲波發(fā)生器2、超聲波電控箱3、綜合水池4、高壓反應(yīng)罐5、臭氧發(fā)生器6、臭氧控制器601和高壓空氣水栗8均設(shè)置在所述基礎(chǔ)支架1上;所述綜合水池4具有三個(gè)倉(cāng),具體包括位于綜合水池4 一側(cè)的第一水倉(cāng)409、位于綜合水池4另一側(cè)并與第一水倉(cāng)409共有一個(gè)壁面的第二水倉(cāng)407和第三水倉(cāng)408,所述第二水倉(cāng)407和第三水倉(cāng)408之間設(shè)置有一個(gè)水倉(cāng)隔板410,所述第一水倉(cāng)409的一端設(shè)置有污廢水入口 402,所述第二水倉(cāng)407的側(cè)邊設(shè)置有凈化水出口 403,所述第三水倉(cāng)408的端部設(shè)置有高壓水入口 404 ;所述第一水倉(cāng)407的另一端與所述高壓空氣水栗8之間設(shè)置有高壓抽水管801,所述高壓反應(yīng)罐5的上部與所述高壓水入口 404之間設(shè)置有高壓水導(dǎo)管501 ;所述第二水倉(cāng)407的外端頂部設(shè)置有電機(jī)驅(qū)動(dòng)的水泡沫刮板401。
[0019]所述第一水倉(cāng)409的底部設(shè)置有回流孔406,所述回流孔406處設(shè)置有回流管405,所述回流管405 —端經(jīng)回流孔406與第一水倉(cāng)409連通,另一端與所述第二水倉(cāng)407相連通。
[0020]所述污廢水入口 402、高壓抽水管801、凈化水
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