一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于工業(yè)水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體是涉及一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電化學(xué)水處理技術(shù)是一種近期越來越受到關(guān)注的水垢控制技術(shù)，并且近期由于電源技術(shù)的進(jìn)步和電催化材料革新，已經(jīng)開發(fā)出了越來越多樣的電化學(xué)水處理裝置，但已經(jīng)投入實(shí)際應(yīng)用的電化學(xué)水處理裝置普遍存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜、處理能力不足、除垢效率不高、在線除垢時(shí)無法使電化學(xué)水處理過程中產(chǎn)生的水垢及時(shí)沉淀等問題。
[0003]本實(shí)用新型專利主要針對(duì)電化學(xué)水處理裝置存在的上述問題，提出了一種新的設(shè)計(jì)方案，以適應(yīng)越來越廣泛受到關(guān)注的工業(yè)水處理規(guī)模和效能要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)在已經(jīng)投入實(shí)際應(yīng)用的電化學(xué)水處理裝置普遍存在結(jié)垢復(fù)雜、處理能力不足、除垢效率不高、在線除垢時(shí)無法使電化學(xué)水處理過程中產(chǎn)生的水垢及時(shí)沉淀等問題，提出了一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，處理量大，在線刮垢過程中，特殊的溢流設(shè)計(jì)，對(duì)電化學(xué)反應(yīng)過程中產(chǎn)生的水垢起到了很好的沉淀效果。
[0005]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的:
[0006]一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，包括進(jìn)水口及進(jìn)水通道、布水板及隔水板、電化學(xué)反應(yīng)室、沉降室、溢流通道及溢流堰板、排水通道及排水口，其中溢流堰板設(shè)置的溢流高度與進(jìn)水通道的底部高度一致，進(jìn)水通道的頂部與隔水板的高度一致。
[0007]待處理的水通過極板上方的布水板均勻進(jìn)入電化學(xué)反應(yīng)室。
[0008]所有陰極板均接在陰極接線銅排上，所有陽(yáng)極板均接在陽(yáng)極接線銅排上，陰極接線銅排和陽(yáng)極接線銅排在隔水板上方。
[0009]水經(jīng)過電化學(xué)處理后，進(jìn)入沉降室，電化學(xué)產(chǎn)生的水垢將會(huì)沉淀在沉降室底部，水則會(huì)從底部順著溢流通道進(jìn)入排水管。
[0010]陰極板的兩面均布置有刮刀，刮刀在電化學(xué)反應(yīng)過程中及時(shí)將電化學(xué)反應(yīng)生成的水垢及時(shí)刮下。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益技術(shù)效果是:1)溢流堰板的高度設(shè)置及布水板保證了待處理的污水平順流過電化學(xué)反應(yīng)室，并均勻流過陰陽(yáng)極板之間，保證了電化學(xué)處理的效率。2)布水板的有效流通面積可以根據(jù)極板數(shù)量尺寸以及污水處理量的大小靈活設(shè)計(jì)，從而保證了裝置的處理能力。3)經(jīng)過處理后的水進(jìn)入沉降室后流速會(huì)減慢，電化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的水垢會(huì)逐漸沉淀下來，水經(jīng)過底部的溢流通道向上溢流，從而避免了將已經(jīng)沉淀的水垢帶出，保證了沉淀效果。4)連接陰極板和陽(yáng)極板的銅排通過隔水板與水隔開，保證了裝置用電安全性，減少了電流損耗。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖中:
[0014]1、進(jìn)水口2、出水口3、排污口4、進(jìn)水通道
[0015]5、電化學(xué)反應(yīng)室6、沉降室7、溢流通道8、排水通道
[0016]9、溢流堰板10、布水板11、隔水板12、陰極銅排
[0017]13、陽(yáng)極銅排14、進(jìn)水通道背板15、陰極板16、陽(yáng)極板。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面將結(jié)合附圖，進(jìn)一步詳細(xì)說明本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】。
[0019]請(qǐng)參考圖1，自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置的一般運(yùn)行過程如下:待處理的污水由進(jìn)水口( I)進(jìn)入進(jìn)水通道(4)，再經(jīng)過布水板(10 )均勻進(jìn)入電化學(xué)反應(yīng)室(5 )，污水在電化學(xué)反應(yīng)室經(jīng)過電解后進(jìn)入沉降室(6)，電化學(xué)反應(yīng)生成的水垢將會(huì)沉淀到沉降室(6)的底部，后經(jīng)排污口( 3 )定時(shí)排出，水則進(jìn)入溢流通道(7 )向上流動(dòng)進(jìn)入排水通道(8 )，最后經(jīng)排水口 2排出。
[0020]在上述過程中，布水板(4)確保了待處理水均勻進(jìn)入電化學(xué)反應(yīng)室(5)，布水板
(4)的有效流通面積至少是出水口截面積的1.2倍以上，且極板間隙截面積大于該有效流通面積，并根據(jù)污水處理量確定，流經(jīng)極板表面的流速控制在0.5m/s左右，且流速越低，電化學(xué)處理效果越好。
[0021]在電化學(xué)反應(yīng)室中，多組陰陽(yáng)極板垂直并排均勻布置，以同軸安裝。陰極板與陽(yáng)極板間距一致，且每塊陽(yáng)極板均有兩塊陰極板與之對(duì)應(yīng)。陰極板與陽(yáng)極板的間距控制在5?200mm，每塊陽(yáng)極板單面的電流密度控制在10?1000A/ m2，根據(jù)待處理污水的電導(dǎo)率設(shè)計(jì)。
[0022]所有陰極板(15)均連接在陰極銅排(12)上，所有陽(yáng)極板(16)均連接在陽(yáng)極銅排
(13)上。陰極銅排(12)與陽(yáng)極銅排(13)通過隔水板(11)與待處理污水隔開，進(jìn)水通道背板(14)的頂部與隔水板(11)的高度一致，也避免了銅排與水接觸。
[0023]電化學(xué)反應(yīng)室(5 )底部是沉降室(6 )，污水經(jīng)過電化學(xué)反應(yīng)室(5 )后向下進(jìn)入沉降室(6)，水流速度會(huì)減慢，有利于電化學(xué)反應(yīng)生產(chǎn)的水垢沉淀，然后水再經(jīng)過底部的溢流通道(7 )向上溢流，從而避免了將已經(jīng)沉淀的水垢帶出，保證了沉淀效果。
[0024]以上僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型。凡在本實(shí)用新型的原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，包括進(jìn)水口(I)及進(jìn)水通道(4)、布水板(10)及隔水板(11)、電化學(xué)反應(yīng)室(5 )、沉降室(6 )、溢流通道(7 )及溢流堰板(9 )、排水通道(8 )及排水口(2)，其特征在于，溢流堰板(9)設(shè)置的溢流高度與進(jìn)水通道(4)底部或布水板(10)的高度一致，進(jìn)水通道背板(14)的頂部與隔水板(11)的高度一致，所有陰極板(15)均接在陰極接線銅排(12)上，所有陽(yáng)極板(16)均接在陽(yáng)極接線銅排(13)上，陰極接線銅排(12)和陽(yáng)極接線銅排(13 )在隔水板(11)上方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，其特征在于，所述布水板(10)的有效流通面積不小于排水口(2)截面積的1.2倍。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，其特征在于，沉降室(6)設(shè)置在電化學(xué)反應(yīng)室(5 )下方，并與溢流通道(7 )連通。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，其特征在于，所有陰極板(15)的兩面均設(shè)置有可以旋轉(zhuǎn)的除垢刮刀。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種自動(dòng)溢流電化學(xué)水處理裝置，包括進(jìn)水通道（4）、布水板（11）、電化學(xué)反應(yīng)室（5）、沉降室（6）、溢流通道（7）、溢流堰板（9）、排水通道（8）。待處理的水通過進(jìn)水口（1）進(jìn)入裝置，在電化學(xué)反應(yīng)室（5）發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)后由溢流通道（7）溢出，溢流堰板（9）設(shè)置的溢流高度與進(jìn)水通道（4）底部高度一致，從而保證了待處理水充分均勻通過電化學(xué)反應(yīng)室（5）。反應(yīng)產(chǎn)生的沉淀將會(huì)在沉降室（6）沉降下來，并通過排污口（3）定時(shí)排出。本實(shí)用新型保證了電化學(xué)水處理的均勻通過反應(yīng)室，提高了反應(yīng)的效率，增加了反應(yīng)沉淀物的沉淀效果。
【IPC分類】C02F5/00
【公開號(hào)】CN204897544
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520590226
【發(fā)明人】諸建軍
【申請(qǐng)人】衛(wèi)士循環(huán)水處理（北京）有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請(qǐng)日】2015年8月7日